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目的提高42CrMo钢激光淬火后硬化层的深度和分布均匀性。方法利用COMSOL Multiphysics软件对42CrMo钢激光淬火过程中温度场的演变进行分析,且考虑材料的热物性参数随温度变化。通过设定激光工艺参数模拟试样的温度场分布,利用马氏体转变条件得到硬化层形貌尺寸。参照模拟结果,利用连续输出的光纤耦合半导体激光器对42CrMo钢进行激光淬火实验,用热电偶测温仪对试样测温并与模拟的温度历史曲线进行对比,用光学显微镜对试样横截面处硬化层形貌进行分析,将实验所得硬化层形貌与模拟结果进行比较。并在相同的功率密度下,改变光斑的几何尺寸进行模拟,分析并比较硬化层的几何特征。结果实验所测某点的温度历史曲线与模拟结果一致性较高,硬化层实际形貌与模拟结果基本吻合。在激光功率密度不变时,随着垂直于扫描方向上的光斑宽度增加,硬化层宽度呈正比例增加,硬化层深度则先增后减,距离硬化层中心最深处相同距离点的曲率则逐渐减少。结论通过优化激光淬火工艺参数,控制激光淬火的热传导时间和深度方向的温度梯度分布,可以在表面不熔化的前提下,获得较深的硬化层。光斑尺寸对42CrMo钢激光深层淬火硬化层深度和硬化层均匀性有较大影响,选择较大的光斑宽度可以得到更为均匀的硬化层。 相似文献
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目的研究稳态磁场对激光熔注尖角WC涂层中WC颗粒分布及涂层显微组织的影响。方法利用稳态磁场辅助激光熔注技术,在316L不锈钢基板上制备了WC/316L复合涂层。采用光学显微镜(OM)对涂层横截面形貌进行分析,采用扫描电镜(SEM)观察涂层显微组织结构和特征,采用能谱仪(EDS)对涂层元素分布进行分析,采用维氏硬度计对涂层的显微硬度进行测定。结果未施加稳态磁场的涂层中WC颗粒均匀分布,涂层主要由鱼骨状的共晶组织组成,在涂层的顶部出现了十字花状的过共晶组织。施加稳态磁场后,涂层横截面形貌发生明显改变,涂层深度减小,宽度增大,WC颗粒主要分布在涂层底部。涂层顶部由细长的树枝状组织组成;在涂层中部,树枝状组织变短变粗;在涂层底部,转变为大量的十字花状组织。施加稳态磁场后,涂层的平均显微硬度由未加磁场时的394 HV0.3提高到478 HV0.3。结论稳态磁场能有效作用于熔池,通过抑制熔池的流动来改变WC颗粒的受力状况以及熔池的传热、传质情况,最终改变熔池中WC颗粒的分布状态和涂层的显微组织。 相似文献
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随着人们对工作环境、设备可靠性及耐用度、加工精度和设备隐蔽性的要求不断提高,对于振动控制的需求越来越多。单纯的被动隔振系统无法抑制船舶电机频率1.414倍频以下的振动。主动隔振系统利用作动器产生与激振力相反的作用力可以有效地抑制低频振动。本文以船舶电机为控制对象,针对抑制200 Hz以下的低频振动开发了一套主动隔振系统。系统中采用加速度信号作为系统输入或反馈,以DSP+FPGA双核处理架构作为控制核心,最终以电磁作动器作为执行机构,通过实验验证,该系统可以达到预期隔振效果,抑制自身频率1.414倍频以下的振动。 相似文献
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以丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸(质量比为55:15:30:2)为主要原料;经乳液聚合制成自交联人造花光面胶。该胶固含量46%-50%,pH值5-6,残存单体≤0.1%,成膜光泽度大于等于90%,耐黄变等级A,Tg为23℃,而且耐水性,手感均优,工艺性良好,文中还讨论了原料配比,聚合条件等对光面胶性能的影响。 相似文献
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陈智君 《电脑爱好者:普及版》2008,(4):27-31
在电脑桌面或窗口的许多地方,只要你单击鼠标右键,就会弹出一个菜单,我们常常把这个菜单叫做"快捷菜单"或"右键菜单"。多数人习惯于用左键点选菜单的方法操作电脑软件,其实,选择右键菜单执行命令也是很有效的一种电脑操作方法。本文即是为初学者提供的一个由浅入深、全面系统地介绍鼠标右键菜单的实用教学专题。 相似文献
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40.
激光熔覆制造中的粉末输送检测与控制技术 总被引:2,自引:2,他引:0
针对激光熔覆制造过程中存在的粉末输送不均匀问题,提出了一种基于光电传感器的粉末流量检测与控制方法.在分析粉末流对光线的吸收特性的基础上,设计了一种新型的光电式粉末流量传感器.该传感器采用红色发光二极管作为光源,二极管所发出的光线经粉末流散射后照射到光电变送器上.通过信号调理可以将传感器输出电压信号与粉末流量相对应.对该传感器进行测试,试验数据表明:粉末流量与传感器输出信号具有较好的线性相关度.为实现粉末流量控制,基于模糊PID控制策略,开发了一套采用PIC单片机作为控制元件的粉末流控制器,对辊轮式送粉器的粉末传榆进行流量控制,粉末流量稳定性提高60%以上. 相似文献