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81.
煤系高岭土改性的研究现状与进展   总被引:8,自引:0,他引:8  
李贺  韩森  关毅 《天津化工》2004,18(2):3-6
介绍了煤系高岭土在化学工业方面改性的方法,着重从煤系高岭土出发制备高档填料、催化材料、4A分子筛、选择吸附剂以及插层材料等的研究进展,并提出了煤系高岭土改性利用的几点建议。  相似文献   
82.
露石混凝土改善桥面铺装结构稳定性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
为了评价露石混凝土对桥面铺装结构稳定性的改善,利用复合试件直接剪切试验和拉拔试验,研究了露石表面、刻槽表面、凿毛表面和原状表面的抗剪强度随正压力的变化情况,以及防水层存在对各纹理表面抗剪强度的影响。结果表明:不同正压力作用下,露石表面的抗剪强度及随正压力增大速率都明显高于其他表面形式;防水层对层间过渡区的抗剪强度贡献取决于桥面,表面纹理丰富和粗糙,内摩阻角大,则防水层的粘结贡献就小;露石表面抗剪强度主要由其表面丰富的纹理形成的摩阻力提供,所以露石表面的抗剪强度受防水层影响较小,因此使用露石桥面板能够明显提高桥面铺装的结构稳定性。  相似文献   
83.
王运永  钱进  韩森  张齐元 《光学仪器》2016,38(6):488-496
激光干涉仪在引力波发现中起着关键作用,光量子噪声是干涉仪灵敏度进一步提高的主要障碍。详细分析了光量子噪声中霰弹噪声和辐射压力噪声产生的机制和主要特点,讨论了标准量子极限,扼要介绍了信号循环、压缩光场等标准量子极限突破技术。  相似文献   
84.
为了探究降雨径流在不同流量、含沙量下对西安市金盆水库水体的影响规律,基于湍流流动模型,对2022年10月降雨径流时期西安市金盆水库上游的泥沙输移和沉积进行了数值模拟,并对所建立模型的可靠性进行了验证。通过对不同流量、含沙量下的径流进行模拟计算,表明在沿程前部断面处,流速越大底部含沙量越小;在沿程后部断面处,流速越大断面含沙量越高;径流含沙量越大,断面含沙量越大,泥沙分布厚度越大。因此,可以根据降雨径流时期来水的流量及含沙量分析泥沙输移沉积的过程,为水库的运行维护提供参考。  相似文献   
85.
将煤矸石用于胶结充填可降低成本,有利于环境保护,煤矸石由于块度大、不均匀系数高,易在搅拌桶内率先沉淀,影响了搅拌效果。对充填浆体制备流程进行了研究分析,发现煤矸石在搅拌均匀的水泥、粉煤灰浆体中的沉降速度要远远小于其在清水中的沉降速度。根据这一特性提出了对充填物料下料顺序的优化。  相似文献   
86.
韩森 《江苏建筑》2001,(Z1):28-31
本文意欲从哲学的角度去洞察影响中国传统建筑文化的若干方面,以其把握今日的创用之路.  相似文献   
87.
关毅  贺岩峰  韩森 《矿冶工程》2001,21(4):45-48
较全面地介绍了INTERNET 上与天然沸石研究、生产和加工相关的信息源。讨论了国际互联网和国内互联网天然沸石信息量之间的差异, 并提出了该领域工作者应注意的问题。  相似文献   
88.
研究了甲醇、异丁烯和甲基叔丁基醚 (MTBE)在HBT6分子筛上的吸附 ,探讨了HBT6分子筛催化剂上合成MTBE反应的机理 ,并结合本征动力学实验结果 ,提出了反应的机理动力学模型 .结果表明 ,甲醇、异丁烯、MTBE均吸附在催化剂的酸性OH基上 ,其中异丁烯主要以π络合形式吸附 ,这种吸附态容易转变为叔丁基正碳离子 .甲醇与异丁烯在HBT6分子筛催化剂上的醚化反应按照L -H机理进行 ,表面反应为速度控制步骤  相似文献   
89.
二氧化碳的等离子体化学固定化   总被引:4,自引:0,他引:4  
二氧化碳排放控制和化学利用是全世界科学家面临的难题。人们已提出利用物理和生物方法来解决二氧化碳问题,但对二氧化碳这样一个巨大的碳资源,还没有特别有效的化学利用方法。在这方面,前人曾考虑过非均相催化。但非均相催化能耗大,而氢源紧缺;以及二氧化碳本身非常稳定,需高温激活,而高温又导致催化剂寿命很有限,很难达到工业化要求。而冷等离子体,包括各种气体放电现象,其某些作用方式类似于常规催化,但在低温高效激活二氧化碳方面更有效率。本文详细讨论了等离子体二氧化碳化学固定化的各种方法,包括直接法和间接法,并比较了等离子体法与常规催化方法的区别。讨论的物系包括:H2/CO2、CH4/CO2、H2O/CO2和H2S/CO2  相似文献   
90.
波长调谐移相干涉技术是通过改变光波长来计算相位的。为了减少可调谐激光器在变波长进行移相时光功率的随机变化对相位计算产生的误差,本文提出了一套光强实时反馈控制系统和同步校准方案。首先分析了光强在某一范围内的随机变化产生测量误差,并选用合适的光电检测设备搭建了一套光强控制系统。该系统能够将光信号转化为电信号,并通过PID来实现对光强的控制。实验结果表明,本系统能够将光强的变化范围控制在±0.002 mW以内,其响应速度达到600 kHz,已远远超过干涉仪CCD的取图速度。最后,对口径为50 mm的光学元件进行表面形貌检测,加入本控制系统后,面形精度的测量指标PV值和RMS值分别提高了1.53×10^-2λ和2.43×10^-3λ,表明本系统在高精度的光学元件检测领域具有重要的实用价值。  相似文献   
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