中国设计市场大门逐渐敞开--建设部建筑市场管理司司长王素卿就中外合作设计管理规定答记者问

建设部发布的《关于外国企业在中华人民共和国境内从事建设工程设计活动的管理暂行规定》(以下简称新《规定》)，已于2004年6月10日起正式施行。为此，建设部建筑市场管理司司长王素卿，就新《规定》出台的目的、背景以及相关问题回答了《中国建设报》记者的提问，本刊现摘要转载。     

氧杂质致Ti-Si-N薄膜高硬度损失的机理

基于纳米复合Ti-Si-N薄膜硬度对界面相微结构及微尺度变化极为敏感的实验事实,定量表征了薄膜的硬度与氧杂质含量的关系.结果表明,与高纯度薄膜40-55 GPa高硬度比较,1%-1.5%的氧杂质含量导致薄膜的硬度下降到30 GPa左右.根据纳米晶界面原子模型和实验结果,氧杂质与纳米尺度界面交互作用所引发的微尺度缺陷是硬度下降的诱因,晶界面的氧杂质密度是薄膜高硬度损失程度的决定因素,单个纳米晶周围的氧杂质覆盖度达到10个原子以上时,薄膜的硬度只能达到30 GPa.     

TiN纳米薄膜的高硬度及其产生机制

用脉冲直流多弧离子镀方法在W18Cr4V高速钢基体上沉积具有纳米结构的TiN薄膜,用XP纳米压入仪测量薄膜的硬度,研究了其硬度产生的机制.结果表明,厚度为2-3 μm、晶粒尺寸约为13-16 nm的TiN薄膜,硬度为36-43 GPa,远高于TiN的本征硬度(22-24 GPa).高温去应力退火实验证实,具有纳米结构的TiN薄膜的超高硬度不仅是由沉积过程中载能粒子轰击产生的残余应力引起,面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面择优生长、纳米晶界强化以及膜层组织结构的致密性也是重要的原因.     

综掘工作面门型风幕控尘除尘系统粉尘防治研究

针对综掘工作面粉尘防治问题,提出了利用风幕控尘结合压抽混合式通风除尘的门型风幕控尘除尘系统.通过理论分析计算确定各风幕参数之间的函数关系,根据玉华煤矿2410综掘工作面实际条件建立几何模型,应用Fluent软件对门型风幕控尘除尘系统的风流场和粉尘场进行仿真分析,并与现场实测数据进行对比分析.研究结果表明:门型风幕能有效...     

数字散斑相关方法测定岩石I型应力强度因子

提出一种通过数字散斑相关方法测定岩石I型裂纹尖端位置和应力强度因子的试验方法。采用数字散斑相关方法观测三点弯曲加载条件下,含I型预制裂纹的花岗岩半圆盘试件裂尖区域的位移场,采用牛顿–辛普森方法求解含未知参量的非线性位移场方程组,计算裂尖位置和应力强度因子。研究结果表明,采用该方法可以准确测定岩石I型应力强度因子、裂尖位置及裂纹扩展长度,揭示岩石断裂及裂纹扩展的演化特征。该方法解决以往研究中因不能准确测定裂纹尖端位置,而无法计算岩石断裂参数的难题。     

基于低功率PIC16F887单片机的控制系统抗干扰能力改进

针对基于低功率PIC16F887单片机控制系统的电磁干扰问题,设计了一种稳定的电容降压电源电路.通过电快速瞬变脉冲群(EFT/B)试验,测试了PIC16F887单片机在不同电源等级中的抗电磁干扰能力,提出了采用两级稳压电路增强电源端抗干扰能力的方法并设计了电路.实验结果表明,低功率PIC16F887单片机控制系统在电容降压电路中能稳定工作,5V系统中的EFT/B抗干扰能力要强于3.3V系统,电源端抗EFT干扰能力达到IEC61000-4-4严酷等级第4级的要求.     

Graphit—ic与Dymon—ic薄膜的结构与性能研究

用全封闭非平衡磁控溅射技术制备Graphit—ic和Dymon—ic薄膜。利用SEM，AFM，TEM，XRD，纳米压痕仪，高温摩擦磨损试验机等研究了薄膜的微观结构、表面形貌、显微硬度以及摩擦磨损性能。结果表明：Graphit—ic薄膜和Dymon—ic薄膜均由非晶组织构成，薄膜均匀、致密，粗糙度小：Graphit—ic薄膜的显微硬度低于Dymon—ic薄膜；同时，在干摩擦条件下，Graphit—ic薄膜和Dymon—ic薄膜与GCr15钢球对磨时显示出良好的耐磨减摩性能，Graphit—ic薄膜的摩擦系数低于Dymon—ic薄膜，但其比磨损率却高于Dymon—ic薄膜。     

叉车举升油缸举升到顶时冲击力的控制研究

叉车举升过程中因动量改变产生的冲击是导致举升油缸故障的重要原因之一,由于举升油缸举升的质量大,举升油缸活塞与端盖碰撞时间短,碰撞过程产生的冲击力大,且举升油缸举升动作频繁,所以举升油缸在频繁的大冲击力下容易损坏。为减小油缸所受到的冲击力,通过对冲击力产生的原因分析,提出了通过旁路节流的方法减小举升油缸举升过程中因动量改变而产生的冲击力。在理论分析的基础上,通过数学建模以及AMESim仿真分析。结果表明:该方法可以减小油缸举升过程所受到的冲击力约为原系统的一半值,并可以减少能量的损失。     

脉冲直流PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜

用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积（PCVD）设备，在高速钢（W18Cr4V）基材表面沉积新型四元Ti-Si-C-N复合超硬薄膜。结果表明：Ti-Si-C-N薄膜是由面心立方结构的TiN和TiC纳米晶、Ti（C，N）固溶体及存在于晶界的非晶Si3N4和α-C组成，形成TiN／TiC／Ti（C，N）／α-C／α-Si3N,复相结构，这种复相结构存在着[111]，[220]和[200]混合择优取向。SiCl4和CH4流量变化是影响薄膜相组成和硬度变化的主要工艺参数。随Si含量的增加，薄膜的显微硬度先升后降，表面形貌由致密的细颗粒状变为粗大的枝条状；C元素的加入能抑制柱状晶的形成，对硬度影响较小。