论等倍投影扫描光学成象照明系统

双球面反射成象系统用于大规模集成电路生产中的硅片光刻和掩模复印有广阔的前景。本文提出用球形高压汞灯代替弧形汞灯作为曝光光源,设计了相应的照明系统以获得弧形照明区。对象平面的照度均匀性进行了分析和测试。本系统可用于复制3μ线宽的掩模板。