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81.
82.
Multiple-access interference(MAI) and beat noise(BN) in chip-asynchronous coherent time-spreading OCDMA system are evaluated by the aperiodic cross-correlation function of up-sampled sequence.Relationship between the mean intensity of aperiodic cross-correlation and MAI and BN is deduced,and then the relationship between BER and mean intensity of aperiodic cross-correlation is discussed.For 127-long gold sequence,mean BER performance of chip-asynchronous coherent time-spreading OCDMA is derived and compared... 相似文献
83.
为了适应未来红外焦平面探测器系统小型化、集成化和高精度的发展要求,采用了热蒸发方法分别在InP衬底和InGaAs探测器上实现了中心波长为1.38μm滤光膜的片上集成。利用偏光显微镜、原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)以及红外傅里叶光谱(FTIR)等实验手段研究了滤光膜的表面界面形貌和光学性能,结果显示,滤光膜为法布里-珀罗三谐振腔结构,与膜系设计一致;滤光膜中心波长为1.38μm,透射率在60%左右。对集成滤光膜InGaAs器件的电学和光学性能测试分析表明,滤光膜制备工艺对器件的电流电压特性和噪声基本没有影响;而集成滤光膜器件的响应要优于滤光膜分离器件的性能。 相似文献
84.
采用ICP刻蚀(inductively coupled plasma etching)工艺制备了深台面n-on-p结构的可响应到2.4μm的延伸波长8×1元线列In Ga As探测器.器件表面采用ICP源激发的N2等离子体进行处理,然后再使用ICPCVD(inductively coupled plasma chemical vapor deposition)沉积一层Si Nx薄膜的钝化工艺.不同面积光敏元器件的电流—电压特性分析显示器件在常温和低温下侧面电流均得到有效抑制,激活能分析显示了器件优异的暗电流特性,在-10 m V偏压下,在200 K和300 K温度下暗电流密度分别为94.2 n A/cm2和5.5×10-4A/cm2. 相似文献
85.
10波段可见-红外扫描辐射计是我国极轨FY-1C气象卫星上的主要有效荷载。本文介绍了该仪器的构成、探测波段、探测器、在轨信号处理器和运行表现。 相似文献
86.
87.
电子技术实验教学中科学素质与创新能力的培养 总被引:11,自引:1,他引:11
分析了当前高校电子技术实验教学中存在的一些问题,总结和介绍了作者在电子技术实验教学改革中针对提高学生科学素质和创新能力所做的一些工作尝试,并对进一步改革电子技术实验教学提出了设想。 相似文献
88.
云计算关键技术之云安全问题认知研究 总被引:1,自引:0,他引:1
云计算面临的最大挑战是安全问题。云计算应用的无边界性、流动性等特点,较之传统的IT模式有很大差异。在云计算环境下,服务方式发生变化,安全的责任主体也发生了根本改变。作为云计算服务提供商,需要建立安全的云计算平台,为云安全服务提供保障;同时,服务一定是开放的、安全的,要保护云用户敏感信息的安全。整合桌面安全管理技术是行之有效的。云安全应用研究主要是从云计算平台系统安全和网络安全设备、安全基础设施的"云化"突破。 相似文献
89.
随着无线Internet用户的急剧增长和数据业务的快速增加,对下代无线网络系统提出了越来越高的要求。各运营商更是积极地部署各种宽带无线接入(BWA)技术;第三代无线移动通信技术(3G)就是其中的备选方案之一。同时,随着无限局域网(WLAN)802.11的成功商用,IEEE802.16以及对应的无线城域网(WMAN)空口也成为宽带无线接入技术的有利可选方案。在本文中,我们将对这两种技术提供详细的性能分析和比较。 相似文献
90.
感应耦合等离子体(ICP)刻蚀在AlGaN基紫外探测器台面制作中起着重要作用。在对比了ICP与RIE,ECR等干法刻蚀技术优缺点的基础上,采用Ni作为掩膜,Cl2/Ar/BCl3作为刻蚀气体,对金属有机化学气相淀积生长的n-Al0.45Ga0.55N进行了ICP刻蚀研究。刻蚀速率随着ICP直流偏压的增加而增加,刻蚀速率随着ICP功率的增加先增加较快后增加缓慢。最后结合刻蚀表面的扫描电镜(SEM)分析和俄歇电子能谱(AES)深度分析对刻蚀结果进行了讨论。分析表明,在满足刻蚀表面形貌的同时,较低的直流偏压下刻蚀速率较慢,但损伤较小,这对于制备高性能的紫外探测器是有利的。 相似文献