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印刷质量控制的基本方法(一)综述 总被引:1,自引:0,他引:1
无论哪一种印刷品的生产都要经过若干个工艺过程,才能将原稿上的图文信息转移到承印物上。由于印刷技术的飞跃发展,标准化和质量控制成为一个很重要的问题。标准化和质量控制在很大程度上是依靠仪器和控制装置来实现的。科学技术的极大发展,大大地推动了印刷技术的发展,印刷所使用的原材料和工艺得到了很大的改进,逐步实现了标准化,提高并稳定了生产高质量产品的能力。目前我们评价印刷品质量的优劣大致有三种方法:主观评价法、客观评价法和综合评价法。主观评价法,是以原稿为基础对照样张来评价。这里有人为的因素,根据评价人的知… 相似文献
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采用X射线荧光、X射线衍射、金相显微镜和扫描电镜等分析方法 ,通过对微波管陶瓷材料的理化分析 ,对俄罗斯陶瓷及其金属化技术进行了研究 ,并对化学成分和显微结构对性能的影响作了初步的讨论。 相似文献
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本文对各种运输方式易腐货物的运价进行了比较分析,对铁路冷藏运输的现行运价和保本运价进行了讨论,提出了铁路冷藏运输运价改革的若干建议,可供铁路进行冷藏运输改革参考。 相似文献
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采用溶胶凝胶方法成功地制备了掺杂稀土铽离子的 Zn O和 Mg0 .1 5Zn0 .85薄膜。通过对 X射线衍射结果的分析表明 ,稀土离子替代了 Zn2 +的格位 ,进入了半导体基质的晶格中。从阴极射线发光结果可以发现 ,在Mg0 .1 5Zn0 .85O基质中 ,可以观察到来源于稀土铽离子各能级的发射 ,而 Zn O:Tb的薄膜只能观察到较强的铽离子 5D4 — 7F5能级的跃迁。这可能是由于 Mg0 .1 5Zn0 .85O基质的能隙 (3 .65 e V)比 Zn O更宽 (3 .3 e V) ,其对铽离子的能量传递更有效的缘故。 相似文献
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Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光,在50kV加速电压下,其曝光剂量为50-100μC/cm^2,曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍,分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT:一种用Ⅰ线光致抗蚀剂,对源、漏及栅全部都采用电子束曝光,制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT;另一种将源、漏及栅分割成两部分,其中精细部分由电子束曝光,其余部分由光学系统曝光,用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ 相似文献
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丁晓东 《电子工业专用设备》2002,31(3):159-162,173
气压传动与控制已成为电子专用设备研制过程中一项不可缺少的内容 ,必须进行合理的气动系统设计及其控制 ,选择相应的气动元件以满足设备的功能要求。概述了气压传动与控制在电子专用设备上的应用。 相似文献
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