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51.
变压器差动保护受励磁涌流的影响,针对这一因素,该文提出一种基于小波变换的变压器励磁涌流识别新方法。首先分析了单相变压器励磁涌流的产生机理,其次使用MATLAB提供的电力系统工具箱PSB建立励磁涌流与区内故障电流的仿真模型,并脂db5小波对电流信号进行3尺度分解,仿真结果表明,小波变换系数能准确反应励磁涌流波彤的突变,最后根据仿真结果提出一个励磁涌流识别判据。 相似文献
52.
为确保水上无线电通信安全,我国应加强对船舶电台的管理。本文以美国FCC为例,介绍了发达国家中较具代表性的船舶电台管理模式。 相似文献
53.
验收工作是生产制造转安装调试的关键环节,为了保证电厂辐射监测系统验收工作的顺利进行,对电厂辐射监测系统验收组织与管理方法进行总结和阐述.介绍了验收前的准备工作,验收实施过程中的抽样、试验以及设备验收注意事项与收尾事宜.验收前需要检查设备文件、提出设备硬件要求、对设备进行抽样检查;实施设备验收需进行设备外观检查、设备性能试验;验收后需完成遗留整改、设备参数的出厂设置、明确发货事宜等工作.验收过程中应注意检查的全面性,保证验收质量.其对辐射监测系统的验收管理具有一定指导意义. 相似文献
54.
55.
Xiaoting Dong Wen-Yan Yin Yeow-Beng Gan 《Microwave Theory and Techniques》2005,53(10):3098-3105
This paper presents an extensive study on the perfectly matched layer (PML) implementation using bilinear transform in the finite-difference time-domain (FDTD) simulation. The bilinear transform is used to implement both the stretched coordinate PML (SC-PML) and the uniaxial PML (UPML) with the complex frequency-shifted (CFS) equations. It is shown that with the CFS factor, the implemented SC-PML and UPML attain significantly lower relative reflection error over wide frequency range with both superior in performance to the split-field PML. The FDTD algorithm incorporating these PMLs is applied to analyze wide-band responses of some complex microwave devices, including RF microelectromechanical systems switch and coplanar waveguide crossover junction. 相似文献
56.
大气高含氧有机分子是二次有机气溶胶的重要前体物。使用气态硫酸分子作为大气高含氧有机分子的替代物评估其在硝酸根-大气常压界面化学电离飞行时间质谱离子化过程中的电离效率, 并基于高分辨率差分电迁移率粒径谱仪串联飞行时间质谱建立了质谱传输效率的矫正方法, 从而建立了大气高含氧有机分子的半定量方法。在此基础上开展了北京冬季大气高含氧有机分子的外场观测, 识别了约一百一十个大气高含氧有机分子, 表征了它们的浓度变化趋势和化学组成特征。研究发现羟基自由基在大气高含氧有机分子生成过程中具有重要作用, 而氮氧化合物也会参与其中。从挥发性分布看, 该地区冬季高含氧有机分子中归于极低挥发性有机化合物 (ELVOC) 的最多, 低挥发性有机化合物 (LVOC) 次之, 表明该地区大气高含氧有机分子在大气颗粒物上的凝结对二次有机气溶胶的形成具有重要贡献。 相似文献
57.
58.
钢丝热镀锌过程中易产生大量锌渣。为降低锌损耗,研制了一种镀锌添加剂。该添加剂可抑制亚铁离子的产生,从而减少锌渣的生成 相似文献
59.
Youyu Duan Yang Wang Weixuan Zhang Jiangwei Zhang Chaogang Ban Danmei Yu Kai Zhou Jinjing Tang Xu Zhang Xiaodong Han Liyong Gan Xiaoping Tao Xiaoyuan Zhou 《Advanced functional materials》2023,33(28):2301729
Photocatalytic conversion of CO2 into fuels using pure water as the proton source is of immense potential in simultaneously addressing the climate-change crisis and realizing a carbon-neutral economy. Single-atom photocatalysts with tunable local atomic configurations and unique electronic properties have exhibited outstanding catalytic performance in the past decade. However, given their single-site features they are usually only amenable to activations involving single molecules. For CO2 photoreduction entailing complex activation and dissociation process, designing multiple active sites on a photocatalyst for both CO2 reduction and H2O dissociation simultaneously is still a daunting challenge. Herein, it is precisely construct Cu single-atom centers and two-coordinated N vacancies as dual active sites on CN (Cu1/N2CV-CN). Experimental and theoretical results show that Cu single-atom centers promote CO2 chemisorption and activation via accumulating photogenerated electrons, and the N2CV sites enhance the dissociation of H2O, thereby facilitating the conversion from COO* to COOH*. Benefiting from the dual-functional sites, the Cu1/N2CV-CN exhibits a high selectivity (98.50%) and decent CO production rate of 11.12 µmol g−1 h−1. An ingenious atomic-level design provides a platform for precisely integrating the modified catalyst with the deterministic identification of the electronic property during CO2 photoreduction process. 相似文献
60.
Dry etching of C-plane sapphire wafer has been studied using Ga+ focused ion beam milling (FIBM). Due to a much lower milling rate of sapphire compared to GaN, it has been proven that gas-assisted FIBM (GAFIBM) is a necessity. Furthermore, it needs to be determined whether XeF2- or I2-GAFIBM can improve the technique. We found that XeF2-GAFIBM gave the highest milling rate. The obtained enhancement factor of the XeF2-GAFIBM milling rate compared to FIBM rate varied from 2.3 to 1.2 for the ion beam current in the range 20 pA-1 nA. A favorable milling rate selectivity of sapphire to nickel film of about 1.5 was obtained by XeF2-GAFIBM at 350 pA. We have successfully fabricated a variety of 2D sapphire-based submicron pillar or hole arrays in regular crystals, quasicrystals and aperiodic symmetries. The nearest neighbor distance was down to 230 nm. The depth achieved was deeper than 400 nm. The air filling factor ranged from 12% to 60%. These sapphire-based 2D microstructures were applied on flip-chip GaN-based light emitting diodes (LEDs) and more than 40% improvement in light extraction was obtained. 相似文献