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991.
992.
993.
为克服大气湍流引起的随机和深度衰落影响,将Turbo乘积码(TPC)引入无线光通信系统中.在构建大气无线光系统模型基础上,分析了TPC的抗突发错误能力,推导了弱湍流和高斯级联信道下接收信号的置信度度量计算方法,并对TPC编码前后大气无线光通信系统差错性能及不同参数的影响进行分析.结果表明,TPC可以有效补偿大气信道中的... 相似文献
994.
超声磨削表面三维形貌建模与试验研究 总被引:2,自引:1,他引:2
为了研究超声磨削的工件三维形貌,建立了砂轮表面三维形貌,通过对超声磨削磨粒运动轨迹分析,建立了磨粒在工件表面的切削过程模型。提出了大量随机分布磨粒切削工件路径的离散算法和最小高度值包络曲面提取算法,实现了超声磨削表面三维形貌的建立。进行超声磨削试验,结果表明:该模型能有效预测超声磨削的表面形貌,为超声磨削的工艺优化提供了理论依据。 相似文献
995.
996.
997.
Wenbo Wu Duo Mao Shidang Xu Majid Panahandeh‐Fard Yukun Duan Fang Hu Deling Kong Bin Liu 《Advanced functional materials》2019,29(42)
Owing to efficient singlet oxygen (1O2) generation in aggregate state, photosensitizers (PSs) with aggregation‐induced emission (AIE) have attracted much research interests in photodynamic therapy (PDT). In addition to high 1O2 generation efficiency, strong molar absorption in long‐wavelength range and near‐infrared (NIR) emission are also highly desirable, but difficult to achieve for AIE PSs since the twisted structures in AIE moieties usually lead to absorption and emission in short‐wavelength range. In this contribution, through acceptor engineering, a new AIE PS of TBT is designed to show aggregation‐induced NIR emission centered at 810 nm, broad absorption in the range between 300 and 700 nm with a large molar absorption coefficient and a high 1O2 generation efficiency under white light irradiation. Further, donor engineering by attaching two branched flexible chains to TBT yielded TBTC8 , which circumvented the strong intermolecular interactions of TBT in nanoparticles (NPs), yielding TBTC8 NPs with optimized overall performance in 1O2 generation, absorption, and emission. Subsequent PDT results in both in vitro and in vivo studies indicate that TBTC8 NPs are promising candidates in practical application. 相似文献
998.
We observed and analyzed the acid and HEBUT alkaline of Cu chemical mechanical polishing(CMP)slurry to evaluate their effects. Material analysis has shown that the planarity surfaces and the removal rate of alkaline slurry are better than the acid slurry during metal CMP processes. The global surface roughness and the small-scale surface roughness by 1010 m2 of copper film polished by the SVTC slurry are 1.127 nm and2.49 nm. However, it is found that the surface roughnesses of copper films polished by the HEBUT slurry are 0.728 nm and 0.215 nm. All other things being equal, the remaining step heights of copper films polished by the SVTC slurry and HEBUT slurry are respectively 150 nm and 50 nm. At the end of the polishing process, the dishing heights of the HEBUT slurry and the SVTC slurry are approximately both 30 nm, the erosion heights of the HEBUT slurry and the SVTC slurry are approximately both 20 nm. The surface states of the copper film after CMP are tested,and the AFM results of two samples are obviously seen. The surface polished by SVTC slurry shows many spikes.This indicates that the HEBUT alkaline slurry is promising for inter-level dielectric(ILD) applications in ultra large-scale integrated circuits(ULSI) technology. 相似文献
999.
光散射粒度测量中Mie理论的高精度算法 总被引:9,自引:0,他引:9
本文在以往计算Mie散射计算的基础上提出一种新的算法。本算法区别于传统的递推算法,精度高、计算范围广。文中推导了该算法的公式,分析了递推公式的不稳定性和应用上的局限性,并指出了本算法的优势。最后给出了部分计算结果并与已发布数据进行了比较。本算法适用的颗粒当量直径为1e5 ̄1e+5,折射率虚部0 ̄1e+5。 相似文献
1000.