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991.
Pd-Ge based ohmic contact to n-GaAs with a TiW diffusion barrier was investigated. Electrical analysis as well as Auger electron
spectroscopy and the scanning electron microscopy were used to study the contact after it was subjected to different furnace
and rapid thermal annealing and different aging steps. All analyses show that TiW can act as a good barrier metal for the
Au/Ge/Pd/n-GaAs contact system. A value of 1.45 × 10−6 Ω-cm2 for the specific contact resistance was obtained for the Au/TiW/Ge/Pd/n-GaAs contact after it was rapid thermally annealed
at 425°C for 90 s. It can withstand a thermal aging at 350°C for 40 h with its ρc increasing to 2.94 × 10−6Ω-cm2 and for an aging at 410°C for 40 h with its ρc increasing to 1.38 × 10−5 Ω-cm2. 相似文献
992.
993.
The polarization-dependent absorption and emission spectra of the 4I13/2-4I15/2 transition (λ~1.5 μm) in single crystal bulk Er:LiNbO3 have been measured. Low-temperature (10 K) measurements of the Stark split energy levels of these two manifolds indicate at least two Er3+ sites. McCumber theory is applied to determine the Er:LiNbO3 absorption and emission cross sections. These values are used to calculate the gain characteristics of Er:LiNbO3 channel waveguides. Calculations indicate that a gain of 10 dB is achievable in a waveguide of several centimeters using ~20-mW pump power 相似文献
994.
995.
群时延精确设计的全差分四阶Bessel滤波器 总被引:1,自引:0,他引:1
采用MOS管有源电阻,提出了一种全差分R-MOSFET-C四阶Bessel有源低通滤波器,.通过调节工作于亚阈值区的CMOS管的沟道导纳补偿电阻值的大小,能抵消集成电路制造工艺中电阻值的一致偏差,实现Bessel有源滤波器群时延的精确设计.根据无源滤波器的状态方程完成有源滤波器的综合,应用3.3V,0.5μm CMOS工艺完成了群时延大小为0.75μs的四阶Bessel低通滤波器的管极计算机仿真,仿真结果表明所提电路正确有效,适于全集成. 相似文献
996.
分析了太钢电弧炉变压器高压侧相间过电压的产生原因,比较了用于限制过电压的避雷器的两种接法.结论是用四垦接法MOA限制过电压的效果较显著. 相似文献
997.
998.
文章介绍法中两国合作开发的微电子电路计算机辅助教育系统中的两部分,重点陈述其中的辅助测试虚拟仪器和专用实验芯片,期望对电子测试领域的教育工作者和科技工作者有所启发。 相似文献
999.
碳热还原法制备氮化硅粉体的反应过程分析 总被引:15,自引:0,他引:15
对以碳热还原法制备氮化硅粉体的SiO2-C-N2系统进行化学反应热力学和动力学的分析,从而发现在氮气氛不足的条件下,这一系统的反应产物将由氮化硅变为碳化硅;在氮气充足的情况下,随着温度的升高,生成物中碳化硅的量也会逐步增加,这一分析结果通过实验得到了验证。 相似文献
1000.