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Liang Y.C. Wenjiang Zeng Pick Hong Ong Zhaoxia Gao Jun Cai Balasubramanian N. 《Electron Device Letters, IEEE》2002,23(12):700-703
In this letter, a concise process technology is proposed for the first time to enable the fabrication of good quality three-dimensional (3-D) suspended radio frequency (RF) micro-inductors on bulk silicon, without utilizing the lithography process on sidewall and trench-bottom patterning. Samples were fabricated to demonstrate the applicability of the proposed process technology. 相似文献
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84.
一种支持QoS的拓扑自适应动态组播路由算法 总被引:3,自引:0,他引:3
YAM、QoSMIC、DSDMR等一类支持QoS的动态组播路由算法允许组播成员动态地加入和离开,同时为接收方提供多个可选择的组播接入路径,以满足不同应用的QoS需求。但这些算法普遍存在控制信令开销大和结点加入时延长,可扩展性不好等问题。本文在分析这些算法的基础上,提出改进的支持QoS的动态组播路由算法,即拓扑自适应动态组播路由(Topology Adaptive Dynamic Multicast Routing,TADMR)算法。该算法避免了以往算法中大部分盲目的路径搜索,并使结点加入时延不再受限于固定的等待时钟,而与网络拓扑相自适应。性能分析和仿真结果表明,该算法具有较低的控制信令开销和结点加入时延,适用于各种网络规模和群组规模,具有良好的可扩展性。 相似文献
85.
通过对电、汽两用节能加热锅炉的描述,指出该设备具有投资少,无污染,能源转化率高,起停速度快,负荷调节范围大,结构简单,安全性能好并可充分利用电能等特点. 相似文献
86.
环保型隧道防火涂料的研究 总被引:2,自引:2,他引:0
介绍了国内外公路隧道、铁路隧道及地铁火灾情况 ,研制出一种可在潮湿环境中使用、火灾发生时无有害气体产生的环保型隧道防火涂料。涂层厚度 18~2 0 mm,耐火极限达 3小时。为防止涂料加水拌和后沉淀分层 ,增加涂料的和易性 ,研制出一种分散剂。 相似文献
87.
准噶尔盆地侏罗系储集层的基本特征及其主控因素分析 总被引:28,自引:8,他引:20
从描述储集层基本特征、分析储集层性质的主控因素、建立储集层成因模式和评价、预测储集层性质这 4个层次 ,研究准噶尔盆地重点勘探目标区的侏罗系储集层。系统总结侏罗系储集层岩石学特征 ,认为成岩压实作用强弱是控制储集层性质的关键因素 ;指出相对优质储集层均为剩余原生粒间孔隙型储集层 ,溶蚀作用对渗透率贡献小 ;非煤系储集层的孔隙保存条件明显比煤系储集层好 ,这是三工河组、头屯河组和吐谷鲁群的物性普遍优于八道湾组和西山窑组的原因。在确定储集层性质的控制因素和控制机理基础上 ,建立了煤系和非煤系两大类储集层的成因 演化模型。在上述研究的基础上 ,分地区、分层位评价了储集层 ,并预测了不同渗透率储集层的深度界线及相对优质储集层的平面分布。图 6参 10 相似文献
88.
Thin films on aluminum-tungsten alloys were prepared by co-deposition of pure aluminum and pure tungsten, each sputtered by an independently controlled magnetron source, on glass and sapphire substrates. Completely amorphous films were obtained in the Al80W20-Al67W33 composition range. Passivity and corrosion behavior of amorphous Al-W alloys were investigated in 1 M deaerated hydrochloric acid solution using polarization and impedance spectroscopy measurements and have been correlated with the properties of pure alloy components. Tungsten and sputter-deposited Al-W thin films are inherently passive materials while aluminum undergoes pitting corrosion in hydrochloric acid solution. The passive film formed at the OCP on each alloy possesses excellent electric and dielectric properties comparable to those of the isolating film on tungsten. The absolute impedance increases with increasing tungsten content in the alloy. According to electrochemical polarization measurements, alloying Al with W in solid solution significantly enhances the material's resistance to pitting corrosion by shifting the breakdown potential above 2000 mV (Al67W33) and lowering the corrosion rate at the OCP by more than two orders of magnitude. The most likely mechanism explaining the passivity of amorphous Al-W alloys, the Solute Vacancy Interaction Model (SVIM), involves the formation of complexes between highly oxidized solute atoms (W+6) and mobile cation vacancies, which restrict the transport of Cl− through the oxide film and inhibit its breakdown in hydrochloric acid solution. The role that film stress relaxation effects and microscopic defects in amorphous Al-W films, of the some composition, and deposited on various substrates play in their corrosion resistance is discussed. 相似文献
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