一个完善的秘密分享方案

可验证秘密分享在实用密码学领域内是一个非常重要的工具,它在密钥管理协议、门限或分布式签名协议、电子商务、多方安全计算及团体式密码系统等许多方面都有极为广泛的应用。针对一类突发事务须及时、安全解决的特点, 利用离散对数问题的难解性,在假设初始化阶段和秘密恢复阶段始终有一位值得信赖的分发者参与的情况下,提出了一个可公开验证的门限秘密分享方案。     

基于模式理论光栅椭偏参数反演的数值模拟

将一种广泛用于求解系统优化问题的方法——正单纯形法，求解光栅的椭偏方程。首先，利用求解光栅的傅立叶模式理论对TE和TM波的复反射系数进行求解。然后计算出其相应的椭偏参数(△，Ψ)，并在该值的基础上加入不同偏差的随机高斯噪声，将加入噪声后的值(△m，Ψm)作为模拟测量值。最后使用优化算法进行反演。通过对几种常用面形光栅椭偏参数的数值模拟，一方面表明傅立叶模式理论计算光栅的椭偏参数不仅精度高。而且速度快；另一方面表明利用正单纯形法得到的光栅参数值很接近于正演时假设的参数值，从而从理论上证明了利用椭偏法测量光栅各种光学参数的可行性。     

5Gb/s 0.25μm CMOS限幅放大器

采用TSMC 0.25μm CMOS技术设计实现了高速低功耗光纤通信用限幅放大器.该放大器采用有源电感负载技术和放大器直接耦合技术以提高增益,拓展带宽,降低功耗并保持了良好的噪声性能.电路采用3.3V单电源供电,电路增益可达50dB,输入动态范围小于5mVpp,最高工作速率可达7Gb/s,均方根抖动小于0.03UI.此外核心电路功耗小于40mW,芯片面积仅为0.70mm×0.70mm.可满足2.5,3.125和5Gb/s三个速率级的光纤通信系统的要求.     

传感器管理及其在相控阵雷达中的应用

传感器管理是数据融合的一部分。介绍了传感器管理的概念和框架 ,概述了国内外传感器管理算法的研究现状。主要工作是针对相控阵雷达这一传感器 ,通过对其不同工作模式以及不同参数的管理 ,来说明传感器管理的原理。提出了一种新的自适应采样周期算法 ,仿真结果表明该算法的优越性     

粉料纯度的影响因素及对策

粉料的纯度直接影响骨料配方和沥青用量，从而影响糊料混捏质量。文章就影响粉料纯度的因素进行探讨，并提出一些对策，以期对生产有所指导。     

浅谈应用标准进行软件测试

国家标准GB T175 44规定了软件包的质量要求及针对这些要求如何对软件包进行测试的细则。质量要求从产品描述、用户文档、程序及数据三个方面进行了规定 ,测试细则依据这些规定制定。ISO IEC912 6 (1991)版由ISO IEC 912 6 (软件产品质量 )和ISO IEC14 5 98(软件产品评测 )两个标准代替 ,ISO IEC912 6表述了软件产品质量的内部质量、外部质量和使用中的质量 ,规定了内部质量、外部质量的六个质量特性 ,并细分为 2 1个子特性 ,使用中的质量规定了四个使用质量特性 ,使用质量是指六个软件产品质量特性的综合效果。进行软件测试时 ,可以依据GB T175 44中的规定组织测试过程再结合ISO IEC912 6中的质量特性及子特性的规定确定测试需求的内容和测试的重点 ,利用ISO IEC912 6质量的规定建立质量评级的标准。     

不同表面预处理对有机电致发光显示器性能的影响

从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对OLED性能的影响,分别用UVOzone、氧Plasma以及两者相结合的方式对基板进行表面处理,并按照生产工艺制作器件,从接触角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较。结果表明以上处理都改善了器件性能,不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率,其中UVOzone和氧Plasma结合的方式处理效果最为显著,器件在10V时亮度达到79920cd/m2,比其他两种处理方式亮度提高约25%。     

16信道0.35μmCMOS/VCSEL光发射模块

研究了垂直腔面发射激光器 (VCSEL)及其列阵器件的光谱特性、调制特性、高频特性及与微电子电路的兼容性 ,将 1× 16的VCSEL与CMOS专用集成电路进行多芯片组装 (MCM ) ,混合集成为 16信道VCSEL光发射功能模块 .测试过程中 ,功能模块的光电特性及其均匀性良好 ,测量的 - 3dB频带宽度大于 2GHz.     

贺兰山西麓中生代构造反转及意义

通过对小松山断裂特征的再分析和对顺层断层特征的观察研究发现,发育于贺兰山北段西麓的小松山“推覆”构造实际上是一个滑覆构造。该区于晚侏罗世之后发生大规模构造反转,贺兰山沉积特征及玄武岩环境指示该区是一大陆裂谷斜坡,在中生代早中期并不存在大规模的东西向挤压应力环境。滑覆面之下的三叠系—中上侏罗统的褶皱变形及顺层剪切是这种滑覆引起的局部构造变形,与鄂尔多斯地块西部发育的典型的东西向逆冲形成明显对比,值得重视。      

合成己二腈反应技术研究——(Ⅴ)己二腈工业反应过程模拟与反应器改造

对己二腈工业反应器提出了两釜串联带回流的模型,通过模拟计算得出模型的级间返混系数 f=6的结论。该模型能较好地预测工业反应器中物料组分浓度变化和气、液两相的流动特性;指出了现工业反应器的鼓泡中和段体积偏小是造成己二酸浓度偏高的关键;提出了可以通过增加串连一个鼓泡预反应段的改造方案,能有效地降低己二酸的浓度,从7%降至4%左右,从而能较好地减缓腐蚀和结焦。