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采用脉冲激光(PLD)和磁控溅射(MS)沉积技术制备了Mo薄膜,用扫描电镜(SEM)、白光干涉仪和X射线衍射仪(XRD)分别表征了薄膜的表面形貌和组织、表面粗糙度和薄膜密度。结果表明,PLD沉积的Mo的表面形貌受脉冲能量和基体温度的影响较大,能量越高、表面缺陷增多。MS沉积的Mo薄膜较致密,呈典型的柱状生长行为。PLD秽MS沉积的Mo薄膜的表面粗糙度均较好,R小于20nm。对实验结果进行了讨论。 相似文献
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铀表面Ti/Al复合镀层中Ti膜表面氧化结构研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用电子能量损失谱(EELS)和俄歇电子能谱(AES)研究了铀表面磁控溅射离子镀Ti/Al复合镀层中Ti膜在6.5×10-6PaO2、150℃~400℃和0.05MPaO2、200℃~500℃环境中表面化学结构变化,并与块状金属Ti的行为进行了比较.结果表明,Ti膜表面结构随着氧化温度和氧分压而变化.在0.05MPaO2足氧气氛中,在200℃~500℃下氧化时,Ti膜与块状金属Ti表面形成的氧化物均为TiO2.在6.5×10-6PaO2环境中,在较高温度(400℃)下由于表面缺氧Ti膜表面仅形成TiO,在较低温度下(≤250℃)由于O的扩散速度降低,Ti膜逐步向TiO、Ti2O3、TiO2转变,最后在表面形成了TiO2.O在Ti膜中的扩散速度较块状金属Ti明显加快.结合热力学对Ti膜氧化物结构变化进行了讨论. 相似文献
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在压力20MPa,温度600℃保温50min~6h时间条件下,利用扩散连接方法连接厚度为微米级的Mo和Al箔,观测Mo-Al固-固界面生长和演变情况。结果表明,Mo-Al界面反应新生相是在距接触界面0.5~0.7μm的Mo箔表皮下形核,进而撕裂、顶开Mo表皮,成岛状生长,进入到Al基体中,并将撕裂的Mo表皮带入新相内部,形成Mo夹层。因此,在Mo-Al界面反应初期,反应界面形貌不是平直的,而是类似界面上分布的岛屿,且每一种新生相纵向比沿界面的横向生长速度快;随着这些岛屿的生长相连,Mo-Al反应界面会出现3层连续的反应层,即Mo3Al8,MoAl5,MoAl12。当Al箔较薄而被反应消耗完毕后,会形成单独的MoAl4反应层,且会出现一种反应物"吞食"另一种反应物的现象,最后剩下含Mo高的Mo3Al8,MoAl4相。 相似文献