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61.
采用超音速微粒轰击(SFPB)技术对0Cr18Ni9钢进行表面纳米化;利用金相显微镜(OM)、X-射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)研究表层的组织结构变化,并进行了显微硬度测试分析。结果表明,经SFPB处理后,形成了约30μm厚的纳米层,样品表层发生应变诱导马氏体相变;孪晶形变是0Cr18Ni9钢表面纳米化过程的主要变形方式;表面纳米化是品粒细化与马氏体相变共同作用的结果,与基体相比,SFPB处理后材料的表层硬度显著提高。  相似文献   
62.
通过显微组织观察和硬度测试,研究Mg-10Y合金的固溶时效工艺,并确定其优化条件。结果表明,适当的固溶时效处理可改善Mg-10Y的组织,提高其硬度。Mg-10Y合金经540℃×6 h固溶处理后,Mg24Y5相基本上全部溶入基体;再经250℃×2 h时效处理,Mg24Y5相大量析出,合金硬度达到最大值。  相似文献   
63.
在氩气保护下,用FeNiSiB非晶箔T91钢管进行了瞬时液相扩散连接.通过正交实验,研究了工艺参数对接头组织和性能的影响,分析了TLP连接接头的显微组织、力学性能和元素分布,确定出了合适的连接工艺参数.结果表明,在合适的工艺参数下,接头可以获得良好的组织和性能.T91钢TLP连接工艺为温度1250℃,等温凝固时间3 min,压力6 MPa.  相似文献   
64.
TiNiCu合金薄膜的制备及形状记忆性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用镶嵌靶、通过直流磁控溅射法在不加热的情况下于硅基片上制备了Ti-49.57%Ni-5.6%Cu合金薄膜。XRD图谱表明,该薄膜为非晶态。对其进行的退火晶化后的形状记忆性能研究发现:薄膜分别经550℃×0.5 h、650℃×0.5 h晶化处理后无残余塑变存在下的最大恢复应力、最大恢复应变分别为180 MPa、2.7%;90 MPa、1.4%。  相似文献   
65.
基于神经网络的Cu-Ni-Si-Cr合金时效性能预测研究   总被引:4,自引:1,他引:3  
利用人工神经网络对Cu-Ni-Si-Cr变形合金时效工艺参数与时效后性能样本集进行学习,建立了合金时效后的性能关于时效温度、时间和变形量等参数的非线性映射模型。模型采用改进的BP算法kvenberg-Marquardt算法。结果表明:所建立的神经网络模型具有较高的精度及良好的泛化能力,可对Cu-Ni-Si-Cr合金时效后的性能进行有效的预测和分析。  相似文献   
66.
用光线导向模型建立了描述Al2O3单晶内部热量交换的二维方程,用有限元法计算了Al2O3单晶的温度场,分析了片状Al2O3单晶温场及其变化规律.研究结果表明,对流换热系数影响晶体的温度分布,固液界面越远,影响效果越显著,对流换热系数的增大使晶体温度降低.晶体生长速率增大使结晶前沿的温度梯度增大.晶体较长时,距固液界面较近的晶体的温场可以认为是准稳态温场.  相似文献   
67.
不同中间层TLP连接T91钢管的组织和性能   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
用BNi2、Fe78Si9B13和FeNiCrSiB合金作中间层,氩气保护,对T91钢管进行了瞬时液相扩散连接(TLP).分析了不同中间层TLP连接接头的显微组织、力学性能和元素分布.研究表明,用BNi2中间层连接的接头性能很差,而用Fe78Si9B13中间层连接的接头有硼化物生成,在合适的工艺参数下,用FeNiCrSiB中间层连接的接头,室温下的抗拉强度和抗弯强度等于或超过基体.指出接头的断裂是由于脆性化合物的形成和接头显微组织的不连续引起的.  相似文献   
68.
导模法生长白宝石单晶中的缺陷观察   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文采用导模法生长出了白宝石(1102)片晶和(0001)棒晶.在此基础上实验观察了白宝石单晶中的位错、亚晶界和小品面等缺陷的形态、数量及分布,讨论了生长条件对它们的影响.结果表明,晶体生长速率和籽晶质量是影响晶体缺陷的两个主要因素.  相似文献   
69.
马旭  李全安  井晓天 《材料导报》2015,29(20):97-100
采用XRD、OM和SEM方法,通过拉伸试验、断口分析和组织观察,研究了Mg-10Gd-(0,1,2,3,4)Nd-0.5Zr合金的显微组织和25~250℃下的力学性能,结果表明:时效态MN0合金组织由α-Mg基体和Mg5Gd相组成,Mg5Gd相主要分布在晶界处。随着Nd含量的增加,产生了新相Mg12Nd,合金晶粒细化,抗拉强度和伸长率都有显著提高,同时,随着温度的升高,合金的抗拉强度具有反常的温度效应。  相似文献   
70.
研究了Al-3.8Cu-0.4Mg硬铝合金硫酸法阳极氧化膜的组织结构及性能。结果表明电解液中H2SO4浓度增大,易得到多孔质型的Al2O3膜,且膜层较薄;而稀H2SO4(10vol%)的电解液可获得致密、无缺陷的相对较厚的膜层,其耐蚀性、电绝缘性和表面硬度均明显改善。而工艺参数中,保持较低的电解液温度和合适的电流密度及氧化时间有利于Al2O3膜综合性能的提高  相似文献   
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