铝及铝合金中氢含量的测定

讨论了用 RH-4 0 2测氢仪分析铝及铝合金中氢含量时试样的制备方法以及表面氢分析时的加热时间和内部氢分析时的加热时间对分析结果的影响 ,给出了准确分析氢含量的试样制备方法和分析参数 (试样加热时间 )的确定方法     

镁合金AZ31无铬无氟无亚硝酸盐磷化膜的制备及耐蚀性能(英文)

以磷酸二氢锰和无氟、无铬、无亚硝酸盐的添加剂为主要成分,通过化学沉积的方法在镁合金AZ31表面获得致密均匀的耐蚀磷化膜。通过硫酸铜点蚀测试、SEM、XRD及电化学极化曲线等表征手段,详细研究了膜层的形貌、组成、相结构及耐蚀性能,讨论了成膜温度和游离酸对膜层微结构、形貌及耐蚀性能的影响。结果表明,磷化膜通过抑制阳极溶解和阴极析氢,有效地提高了镁合金AZ31的耐蚀性能。     

工艺参数对AZ31镁合金磷化膜耐蚀性能及表面形貌的影响

以磷酸二氢锰和无氟添加剂为主要成分,通过化学沉积的方法在AZ31镁合金表面获得了均匀且无氟、无镍和无铬的磷化膜。采用硫酸铜点蚀测试、扫描电镜及电化学极化曲线表征手段,详细地研究了成膜温度、游离酸及酸比工艺对AZ31镁合金磷化膜耐蚀性能及表面形貌的影响。结果表明：在成膜温度95℃,游离酸FA 4-5, 酸比TA/FA 15~20的条件下,可获得晶粒<20 μm的致密磷化膜,耐CuSO₄点蚀时间>5 min。磷化AZ31镁合金的自腐蚀电位比未处理基体正移110 mV,自腐蚀电流密度降低3个数量级。成膜温度<75℃时,不能得到完整的磷化膜;成膜温度≥75℃时,随着成膜温度的升高,磷化膜颗粒得到细化,膜层更加致密,进而有效地抑制AZ31镁合金的阳极溶解和阴极析氢,提高了耐蚀性能。但升高成膜温度,加速磷酸盐的水解,容易产生大量的磷化渣,而游离酸的控制,能够有效减少磷化渣的产生,降低生产成本,提高膜层质量。     

超薄MoN扩散阻挡层的扩散阻挡性能分析

采用磁控溅射法,制备了超薄MoN扩散阻挡层,并对Cu／MoN／Si体系进行真空退火。用四点探针（FPP）、X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）进行薄膜电性能和微结构表征。分析结果表明,MoN作为Cu扩散阻挡层结构具有良好的热稳定性,失效温度达到600℃,明显优于Mo扩散阻挡层。     

纳米镍粉的制备与非晶转变机制研究

以硫酸镍为主盐、水合肼为还原剂,添加诱导剂次亚磷酸钠,利用液相还原法制得纳米镍粉;采用扫描电子显微镜、光电子能谱仪、X射线衍射仪分别对纳米镍粒子的微观形貌、组分、物相结构进行表征,研究硫酸镍与水合肼的配比、诱导剂含量对纳米镍粒子的形貌及晶格参数的影响。结果表明:纳米镍粒子粒径随硫酸镍与水合肼物质的量比的增大而增大,当两者物质的量比大于1∶2时,镍、磷原子共沉积过程占主导,影响镍原子有效形核;增加诱导剂的浓度至0.4 mol/L,纳米镍粒子的晶格发生畸变,形成非晶结构。     

单相PWM整流器直接电流控制策略的研究

通过对单相PWM整流器的控制思路的提出,分析并总结了单相PWM整流器直接电流控制的几种控制策略,分析了每种策略的工作原理和优缺点,并总结和展望了单相PWM整流器直接电流控制技术的发展趋势。     

FeCrNiMoCu高熵合金涂层的多靶磁控共溅射制备及微结构分析

采用多靶磁控共溅射技术的单靶功率可调特点,在304不锈钢基体上,制备出了FeCrNiMoCu高熵合金涂层。通过纳米压入(Nanoindentation)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等对不同组分含量的FeCrNiMoCu高熵合金涂层的纳米硬度、微观结构及形貌进行了表征。结果表明:磁控共溅射法制备的FeCrNiMoCu涂层具有简单的fcc结构和高的纳米硬度,表面硬度随铁元素含量上升而增加。     

高温空气氧化作用下低铝含量FeCrAl涂层的组织演变（英文）

通过磁控溅射技术在Zr-4合金基体上沉积了厚度约为18μm的FeCrAl涂层,以提高Zr合金的高温抗氧化性能。通过空气氧化实验研究了低Al含量的FeCrAl涂层抗氧化性能。为了评估涂层界面演变和元素迁移之间的关系,采用了场发射扫描电子显微镜、能谱仪和掠入射X射线衍射仪进行了深入分析。结果表明,尽管FeCrAl涂层在1000℃空气氧化后会出现分层剥落,但该涂层仍然有效地保护了Zr-4合金基体不被氧化。FeCrAl涂层性能下降的主要原因是高温下Al元素严重向外扩散以及Fe、Cr元素向内扩散,最终导致涂层内部分层和剥落。此外,还讨论了FeCrAl涂层在800、900和1000℃时的空气氧化行为。     

水源热泵系统井水重力回灌的分析

根据管井理论和实践经验,分析影响水源热泵重力回灌的各种因素,介绍了回灌失败的原因,并提出相应对策。     

H+辐照前后Mo涂层表面的XPS分析

对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的钼膜进行了H 辐照前后的XPS分析,研究了H 辐照对钼膜的结合能的影响.分析结果表明,沉积的钼膜中除了单质钼外,还有部分钼的氧化物;H 辐照结果表明,H 的辐照使钼的结合能向低能方向偏移;钼的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.