GexC1—x非均匀增透保护膜系的设计和制备

用射频磁控反应溅射法（RS）制备出GexC1-x薄膜,其折射率可以在1．7－4．0之间变化。设计出单层GexC1-x非均匀增透保护膜和含有GexC1-x非均匀膜的多层增透保护膜系,并在ZnS基片上制备出GexC1-x单层非均匀增透保护膜。设计和实验结果表明,NnS衬底上制备的非均匀膜实现了宽波段的增透,在5000－850cm^-1波数范围内,平均透过率从67．19％提高到78．70％,比未镀膜净增加11．51％。     

化学气相沉积传质现象的研究与反应器设计、工艺参数的优化

介绍了化学气相沉积中的传质现象研究的最新进展,从传质方程的建立到边界条件确定都进行了详细的介绍,并举例说明了数值分析的结果的反应器设计与工艺参数的优化的指导作用。     

酸处理车间墙壁高氯化聚乙烯防腐涂料的涂装

介绍了高氯化聚乙烯防腐涂料的性能特点,设计了酸处理车间墙壁的涂装体系及不同涂层的配方组成,介绍了涂装方法、工艺及注意事项等。     

CVD—ZnS中与锌有关的晶体缺陷及其对学学性能的影响

采用化学气相沉积（ＣＶＤ）法制轩了红外晶体ＺｎＳ块材料，用氩气作为载体，反应气体为硫化氢和锌锌蒸气，ＸＰＳ，ＩＲ及能谱分析表明，当沉只温度低于锌蒸发温度时，生成的ＺｎＳ中与有锌的关的晶体缺陷有Ｚｎ－Ｈ功能团及存在于花瓣状态形态中心的锌微粒夹杂，当沉积温度高于锌蒸发温度时，锌微粒夹杂消失，且随沉积温度的升高Ｚｎ－Ｈ含量减少，Ｚｎ－Ｈ对红外光在６．２μｍ波长处吸收峰减弱，使生成的ＺｎＳ具有高的红外透过     

射频磁控反应溅射制备HfO2薄膜的工艺及电性能

采用射频磁控反应溅射法,以高纯Hf为靶材、高纯O2为反应气体,成功地在p型硅衬 底上制备了高k栅介质HfO2薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分和电学性能进行了研究.结果 表明,薄膜沉积速率随射频功率增加而增大,随O2气流量增加而减小,随溅射气压增加呈先 增大后减小的趋势.制备的薄膜中Hf和O元素的原子浓度比基本符合化学计量比.研究了薄 膜的C-V特性;获得了O2流量、射频功率及退火温度对薄膜电学性能的影响规律.     

TD-SCDMA上行失步条件下一种改进的多用户检测算法

针对TD-SCDMA上行失步及强多址干扰的情况,设计了一种二级信道估计算法以及基于该信道估计算法的解相关干扰消除多用户检测算法。二级信道估计算法可以得到各接入用户主径的幅度以及时延,多用户检测算法根据信道估计的结果对接收数据进行解相关检测以及干扰消除。仿真结果表明,上行失步和强多址干扰情况下,该改进算法的误码率性能较传统的匹配滤波、联合检测以及解相关算法有较大的提升。     

新型350～700 ℃多变色不可逆示温涂料的研制

以环氧改性有机硅树脂为粘结剂,以镉红为主热色颜料,酞菁蓝和海碧为辅助热色颜料,通过加入其他填料助剂,制备了多变色不可逆示温涂料,检测结果表明所研制的示温涂料具有良好的示温性能。     

示温涂料的应用与发展

简介了示温涂料的定义、分类及其发展过程。并分别从概况、应用范围、使用方法以及发展前景等几个方面讲述了国内外单变色不可逆示温涂料、多变色不可逆示温涂料和单变色不可逆示温贴片的发展情况。同时 ,还介绍了无机可逆示温涂料、有机可逆示温涂料及高分子液晶可逆示温涂料的应用及其发展 ,并通过可逆示温涂料现存的问题展望了其未来发展方向。     

锐钛矿型TiO_2的第一性原理研究

采用基于密度泛函理论(DFT)框架下广义梯度近似平面波超软赝势法,计算了锐钛矿型TiO2的能带结构、态密度和光学性质。分析了锐钛矿型TiO2的复介电常数、复折射率、吸收系数、反射率和损失函数,计算结果与其他文献结果吻合较好。通过对比发现,由于锐钛矿型TiO2晶体结构的对称性,在(100)和(001)方向上具有明显的光学各向异性。     

含铝高温涂料的研制

以W 30 - 1为主成膜物 ,铝粉为颜料 ,无机硅酸盐为填料的涂层耐高温性能优异 ,无机填料的加入提高了涂膜的耐介质性且不影响产品的外观特征。固化剂的使用解决了漆膜修补及在大型设备上推广应用的限制 ,同时提高了涂料的内在品质