全文获取类型
收费全文 | 83篇 |
免费 | 7篇 |
国内免费 | 8篇 |
专业分类
电工技术 | 1篇 |
综合类 | 4篇 |
金属工艺 | 3篇 |
机械仪表 | 5篇 |
能源动力 | 1篇 |
无线电 | 55篇 |
一般工业技术 | 15篇 |
原子能技术 | 3篇 |
自动化技术 | 11篇 |
出版年
2018年 | 3篇 |
2015年 | 1篇 |
2014年 | 2篇 |
2013年 | 4篇 |
2012年 | 1篇 |
2011年 | 8篇 |
2010年 | 4篇 |
2009年 | 7篇 |
2008年 | 18篇 |
2007年 | 6篇 |
2006年 | 11篇 |
2005年 | 7篇 |
2004年 | 4篇 |
2003年 | 1篇 |
2002年 | 3篇 |
2001年 | 5篇 |
2000年 | 5篇 |
1999年 | 1篇 |
1998年 | 1篇 |
1997年 | 2篇 |
1989年 | 1篇 |
1988年 | 2篇 |
1983年 | 1篇 |
排序方式: 共有98条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
姚若河 《桂林电子科技大学学报》1988,(1)
本文介绍了一个大变化灵敏度的算法,并把它推广应用于线性网络的交流分析。采用这一方法,避免了传统方法对于每一个频率点,都需要重新建立一次支路导纳矩阵,重新计算一次网络的节点方程。在电抗元件数目较少的情况下,能有效地减少计算量,提高计算速度。 相似文献
72.
73.
以SiCl4为源气体用PECVD技术低温快速生长多晶硅薄膜 总被引:1,自引:1,他引:0
报道了以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在小于300℃的低温下快速生长多晶硅薄膜.实验发现, 生长速率强烈依赖于放电功率、H2/SiCl4流量比和衬底温度, 而薄膜的晶化度只依赖于放电功率和H2/SiCl4流量比,与衬底温度的关系不大.通过控制和选择工艺条件,我们获得了生长速率高达0.35nm/s,晶化度高于75%的多晶硅薄膜.薄膜的暗电导率和光电导率分别达到10-4S-1·cm-1和10-3S-1·cm-1. 相似文献
74.
75.
提出了一种采用了四对差分管来实现跨导恒定的Rail-to-Rail CMOS运算放大器输入级的方法.用两对互补的差分对作为输入级,另两对互补差分对动态地控制输入级工作电流,以实现Rail-to-Rail恒定跨导.通过在电路中加入补偿电流来提高四对差分管工作的协调性.基于TSMC 0.18 μm COMS的工艺,应用Hspice在不同电压、温度环境下进行了电路的仿真验证,结果表明所设计的电路在各种条件下都有较好的性能,其在共模范围内跨导最大偏差小于2%.本文还分析了MOS管二阶效应对电路产生的影响. 相似文献
76.
在现有流水线A/D转换器设计的基础上,应用电荷泵改进了MOS模拟开关的性能,运用宽带运算放大器提高了电路速度,引入底极板采样和数字校正技术来提高精度,采用动态比较器实现较低的功耗.设计实现了一个10-bit 10Ms/S流水线A/D转换器,并以TSMC 0.35 CMOS工艺的Bsim 3v3模型用HSPICE对电路的性能进行仿真验证,结果表明其各项性能均达到预期的设计要求. 相似文献
77.
78.
79.
80.
CORDIC流水线结构因其高吞吐率及规整性,而很适合于FFT蝶形运算,但其缺点是耗资源多,本文从FFT中旋转因子固定不任意的特点出发,根据CORDIC基本旋转角度与缩放因子的对应关系和缩放因子之间的转换规律,对CORDIC流水线结构进行了改进,在蝶形运算速度不变的情况下,进一步减少所耗资源,在字长为16位的FFT中,每个旋转因子可用25位的控制序列来替代,从而使每个旋转因子的存储空间由32位减少到25位。 相似文献