封头拼缝位置的布置及探讨

从经济性、安全性和工艺可执行性方面陈述了ＪＢ／Ｔ４７３７—９５标准中存在拼缝位置不合理的问题，进而提出了解决方案，并对二者作了比较。     

关于不偶合装药和充填物效果的试验研究

关于不耦合装药和充填物的效果,进行了下述试验,并得出了有意义的结果。一、试验方法与测定试验是用水泥砂浆块试件(简称试件)和6~#电雷管进行的。在30厘米(直径)×30厘米(高)的试件的中心钻凿15厘米深的炮孔,插入6~#电雷管然后起爆,观察试件破坏后的状态,同时,用布置在试件周围的压电     

微波等离子蚀刻装置

前言成为微细加工技术应用先驱的半导体MOS存储器,现正迎来正式批量生产兆位级器件的时代,为适应这一时代,微细加工技术也要适应各种新加工(例如金属硅化物、Al-Cu-Si、Si基板、多层抗蚀剂以及象多晶硅那样的多层膜等)工艺的要求,干法蚀刻工艺也要不断多样化,一方面,为了提高器件的生产率、圆片的大直径化也要和     

快速硬膜阳极化处理技术在铝活塞上的应用

<正> 1 前言近年来,随着柴油机输出功率的不断提高,活塞承受的热应力与机械应力也相应上升,从而导致活塞顶燃烧室周壁龟裂,这一现实已成为铝活塞面临的棘手问题。铝活塞龟裂预防对策有多种手段:变更毛坯制作方法即用高压铸造或锻造取代重力铸造,由硬膜阳极化处理来改善铝活塞顶面耐热性能,以及采用陶瓷纤维或陶瓷晶须增强金属来制作活塞,等等。本文就各种对策中的阳机化处理特别是对快速硬膜阳极化处理方法作介绍,几年来作者所在公司一直采用该法生产铝活塞。 2 铝活塞热龟裂与阳极化处理     

MAOS型不易失信息的存贮器电路的特性

前言 不易失信息的半导体存贮器的重要性正在予以大力宣传的今天,对它的研究是很盛行的。在国内外已经有MAS存贮器、FAMOS存贮器、雪崩注入型存贮器、MNOS存贮器和玻璃半导体存贮器等许多报导。可以列举出对这些元件的要求条件是记忆信息的写入和消去要容易用电气的方法实现;它们的重复再现性在实用上要毫无妨碍;一旦写入了信息,即使     

急速卸载时液压机回程缸的压力变动——金属挤压液压机动态特性之二

一、前言目前,液压机广泛用于金属加工,压机在工作行程中根据工艺要求,有时发生急速卸载为零的情况。挤压机正常挤压时不产生这种状态,但在模具损坏、推出压余、连续挤压变形抗力差异很大的金属和静液压冲孔时,会产生这种急速卸载为零的状态。由于负荷急速减少,主缸高压工作液体所储存的能量使压机柱塞急剧加速。当压机只有主缸时,这种高速柱塞可以靠机械缓冲装置加以减速、停止,但