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采用射频反应磁控溅射的方法,以ITO(铟锡氧化物)玻璃为衬底,在Al2O3/AN复合栅极绝缘层上沉积有源层ZnO薄膜,并以Al作为透明薄膜晶体管器件源极和漏极,通过XRD、透射光谱研究了透明薄膜晶体管的有源层ZnO的结晶情况以及对器件在可见光范围内的透过特性的影响,得出以Al2O3/AlN为复合缓冲层薄膜晶体管,在400℃温度下退火处理后,ZnO有源层有较好的c-axis(002)择优取向,器件在可见光的范围内整体透过率在88%以上,从而实现了ZnO-TFT器件在可见光范围内的透明。 相似文献
133.
134.
CdSe/PVK纳米晶薄膜及其电致发光特性 总被引:1,自引:0,他引:1
以巯基乙酸(RSH)为稳定剂,在水溶液中合成CdSe纳米晶,用表面活性剂将分散在水溶液中的纳米颗粒转移到有机溶剂中,与具有电荷输运性能的有机聚合材料复合。作为电致发光(EL)器件的工作层,得到较强的位于600nm附近的CdSe纳米晶的带边发射,以及较弱的位于420nm附近的来自聚合物的发射。器件EL强度首先随着外加电压的增加而增加,当电压超过26V时,EL强度开始下降。器件的电流-电压(I-V)特性基本符合二极管特性,表明器件是受载流子注入限制的。 相似文献
135.
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137.
以石英玻璃和抛光硅片做为衬底材料,采用射频磁控反应溅射法,通过改变Ar/N2流量比得到了一系列氮化硅薄膜.用分光光度计对薄膜的光学特性进行了表征;X射线光电子能谱(XPS)表明薄膜中出现了Si-N的键合结构;原子力显微镜(AFM)图显示了在抛光硅片上制备出的薄膜比较平整、致密.实验结果表明:纯N2条件下制备的薄膜比使用Ar和N2混合气体条件下制备的薄膜中的SiNx含量要低;在混合气体参与的条件下,随着氮气流量的增加,薄膜中出现了微孔,缺陷态增加,并对微孔的形成机制进行了解释. 相似文献
138.
139.
140.
本文研究了Ag^+的浓度对Gd3Ga5O12薄膜光致发光和电致发光的影响。当Ag^+沈度达到0.2at^,薄膜的光发生很强的淬灭,但是电致发光的淬灭肖度却达1atT%,通过对不同浓度的薄膜样品的吸收光谱的测量,发现随着Ag^+的浓度的升高,吸收边生红移。由于Gd3Ga5O12:Ag薄膜电致发光有一部分是属于逞间激发,所以电致发光的淬灭浓度要比光致发光高。Gd3Ga5O12:Ag薄膜的退火有助于提高 相似文献