首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   751篇
  免费   59篇
  国内免费   40篇
电工技术   106篇
综合类   36篇
化学工业   40篇
金属工艺   20篇
机械仪表   25篇
建筑科学   42篇
矿业工程   16篇
能源动力   12篇
轻工业   72篇
水利工程   22篇
石油天然气   17篇
武器工业   9篇
无线电   136篇
一般工业技术   88篇
冶金工业   29篇
原子能技术   14篇
自动化技术   166篇
  2024年   15篇
  2023年   32篇
  2022年   45篇
  2021年   26篇
  2020年   26篇
  2019年   44篇
  2018年   44篇
  2017年   17篇
  2016年   22篇
  2015年   20篇
  2014年   45篇
  2013年   28篇
  2012年   46篇
  2011年   29篇
  2010年   22篇
  2009年   56篇
  2008年   44篇
  2007年   36篇
  2006年   19篇
  2005年   14篇
  2004年   16篇
  2003年   14篇
  2002年   12篇
  2001年   26篇
  2000年   22篇
  1999年   6篇
  1998年   28篇
  1997年   25篇
  1996年   28篇
  1995年   22篇
  1994年   13篇
  1993年   1篇
  1992年   3篇
  1991年   3篇
  1977年   1篇
排序方式: 共有850条查询结果,搜索用时 15 毫秒
91.
以静电纺丝法和磁控溅射技术制备了负载TiO2纳米颗粒的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/蒙脱土(MMT)复合纳米纤维膜,通过光催化降解亚甲基蓝分析比较了不同溅射功率处理的纤维膜的光催化性能,应用电子显微镜(SEM)研究分析溅射功率对纤维形貌的影响以及光催化前后纤维表面形貌的变化.结果表明:经100W和120W功率处理的纤维...  相似文献   
92.
杨杰  马晋毅  杜波  徐阳  石玉 《压电与声光》2014,36(2):217-220
研究了恒定气压下、通入不同气体流量对射频磁控溅射原位沉积氮化铝(AlN)薄膜应力、结晶质量和表面形貌的影响。利用应力分析仪、X线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和台阶仪对AlN薄膜的结构特性进行了分析。结果表明,恒定气压下改变通入气体流量对薄膜应力、结晶质量、表面形貌及粗糙度和薄膜沉积速率均有影响。当通入气体流量为10cm3/min时,AlN薄膜呈明显的压应力,结晶质量较差。增加通入气体流量降低了薄膜沉积速率和增加了表面粗糙度,但有利于减小薄膜的压应力和提高薄膜的结晶质量。本实验条件下得出的溅射AlN薄膜的最佳流量条件为50cm3/min。  相似文献   
93.
徐阳 《电子质量》1997,(4):25-26
介绍了电子玻璃在光通信领域,光电子领域等方面的应用现状及发展前景。  相似文献   
94.
硬件演化原理及实现方法研究   总被引:7,自引:4,他引:3  
文章对基于Virtex系列FPGA的硬件外部演化技术进行了研究,对演化算法的流程进行了分析,介绍了演化硬件的概念、原理、JBits API软件以及Virtex器件结构。基于JBits软件,采用外部演化的方式对电路进行演化,并通过仿真实例证明了这种方法的有效性。  相似文献   
95.
徐阳 《电子质量》1996,(10):27-30
介绍了一种新型的计算机-网络电脑的兴起、软件基础、组成结构、雏形产品、技术规范以及未来的发展趋势。  相似文献   
96.
徐阳 《电子质量》1998,(7):34-35
随着科学技术的发展,一场手表革命正在悄悄发生,我们的生活也将随之产主某些变化.  相似文献   
97.
98.
人工智能是用计算机来探索和模拟人类的某些智力活动,使计算机具有听、看、说和思维的能力。人工智能是计算机应用的一个重要分支。它使计算机具有智能化的功能,以达到模拟人们某些智能化行为的目的。它的形成和发展是由于控制论、信息论、系统论、计算机科学、神经生理学、心理学、我学和哲学等多种学科及先进的技术手段互相渗进的结果,也是由于计算机的出现和广泛应用的结果。概括地说,人工智能就是研究怎样让电脑模仿人脑从事推理、规划、设计、思考、学习等思维活动,以解决要由专家才能处理的复杂问题。人工智能的研究由来已久,80…  相似文献   
99.
利用减压化学气相沉积技术,制备出应变Si/弛豫Si0.9Ge01/渐变组分弛豫SiGe/Si衬底.通过控制组分渐变SiGe过渡层的组分梯度和适当优化弛豫SiGe层的外延生长工艺,有效地降低了表面粗糙度和位错密度.与Ge组分突变相比,采用线性渐变组分后,应变硅材料表面粗糙度从3.07nm减小到0.75nm,位错密度约为5×104 cm-2,表面应变硅层应变度约为0.45%.  相似文献   
100.
心电图机行业标准和计量检定规程的对比分析及建议   总被引:1,自引:0,他引:1  
徐阳 《中国计量》2006,(3):22-23
一、OIML R90国际建议及国内相关标准和计量检定规程 20世纪90年代,国际法制计量组织OIML制定了OIML R90国际建议.该建议规定了心电图机的主要计量特性和评定程序,目的在于给生产和检测心电图机提供一个确定其计量特性的统一方法。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号