轴件形状对感应加热温度场分布的影响

采用ANSYS模拟探讨了S45C钢轴类零件在相同加载参数下截面的变化对其感应加热温度场的影响。模拟结果表明,尖锐化的零件部位温度会过高;尖角的角度越缓,尖角效应越不明显,零件距感应器的间隙逐渐成为影响温度分布的主要因素。应用这一结论,通过对零件的尖角部位倒圆角,使尖角变缓,同时增加了尖角部位间距,能减缓尖角效应。     

一种带气垫的新型张紧装置

在冷轧薄板的纵剪重卷机组中．张紧装置是卷取机前必不可少的设备。张紧装置所产生的张力直接影响到板带的卷取质量，合适稳定的张力能够使冷轧生产顺利进行并获得高质量的冷轧带卷。在冷轧薄板的纵剪机组中，其张力装置又有不同于其它机组张力控制设备的特殊性。一般的辊式张紧装置中的张紧辊和带钢之间为纯滚动，所产生的张力是中间大．两边渐小（即中间紧，两边松）造成成品带卷松紧程度不一。以美国ＤＥＬＴＡ公司引进的带气垫张紧装置．在张紧辊前面有气垫张紧器。由于气垫和带钢之间为纯滑动，因此分条后带卷的松紧差即被排除到张龙装…     

多联机系统的施工安装技术分析

多联机作为空气热源泵,室外机安装方式将对多联机系统运行效果产生直接影响,施工人员应加大重视.结合多联机系统原理,明确管道、线路安装要点,确定安装位置,及时解决系统换热问题,做好冷媒管安装与质量控制.同时还应充分考虑地域气候条件与室外风条件,对室内机和室外机的安装加强质量控制,优化安装技术.     

液压剪机架刚度和强度的有限元分析

冷弯机组中液压剪受力情况复杂,借助大型有限元结构分析软件MSC.MARC,利用有限元分析的手段,对其进行了静态弹性力学结构分析,得出了变形情况与应力分布等详细、直观的分析结果,对机架结构的优化设计具有指导作用,弥补了常用材料力学简化模型分析的不足。     

基于环形“感容”集成结构单元的平面EMI滤波器设计理论及实施

平面EMI滤波器以其体积小、高频性能好等优点在电力电子领域有较好的应用前景,然而目前尚未形成一个完整的理论体系用于指导该类滤波器的设计。本文首次提出一种圆环形"感容"集成结构(LC单元),以其作为平面EMI滤波器的基本组成单元;提出一种广义弧形传输线理论,基于该理论建立了LC单元的分布参数模型,利用模量转换法将LC单元等效为二端口网络;利用有限元法提取了LC单元线匝间的电磁参数,为准确研究该单元以及滤波器的电磁特性奠定了基础;详细阐述了整个平面EMI滤波器的设计流程及实施过程,并给出了相关结构尺寸初始值的经验取值。根据具体技术指标设计了若干基于LC单元的平面EMI滤波器,对其共模插入损耗特性进行了理论计算与测量,验证了设计理论的可行性。     

桥梁下部结构设计论述

桥梁下部结构考虑是否得当,对工程造价、质量、工期及使用影响很大,本文就目前软土地基桥梁下部结构设计中的几个主要问题结合工程实例进行讨论：①型式选用;②内力计算;③结构配筋;③施工中技术问题的处理;⑤前期规划影响。     

基于彩色LBP的隐蔽性复制-粘贴篡改盲鉴别算法

现有的复制-粘贴盲鉴别算法大多忽略图像彩色信息,导致对隐蔽性篡改方式的检测率较低,基于此,本文提出一种基于彩色局部二值模式（Color local binary patterns,CoLBP）的隐蔽性复制-粘贴盲鉴别算法.算法首先对彩色图像进行预处理,即建立彩色LBP纹理图像,从而实现彩色信息与LBP纹理特征的融合;其次重叠分块并提取灰度共生矩阵（Gray level co-occurrence matrix,GLCM）特征;最后,提出改进的kd树和超平面划分标记split搜索方法,快速匹配图像块,并应用形态学操作去除误匹配,精确定位复制-粘贴区域.实验结果表明,本算法对隐蔽性复制-粘贴篡改定位准确,并对模糊、噪声、JPEG重压缩后处理操作有很好的鲁棒性.     

光固化涂料中光引发剂迁移行为及其细胞毒性的研究

光引发剂残留与迁移所导致的安全问题在近些年来受到了越来越多的关注。本文建立了紫外光（UV）固化涂料中光引发剂迁移量的检测方法,通过该方法探究了温度、光引发剂和活性稀释剂的种类、含量以及固化工艺对光引发剂迁移行为的影响,并且对不同条件下涂膜的细胞毒性进行了系统的评价。结果表明：采用高效液相色谱 -二极管阵列检测器联用仪可以有效地对涂膜中迁移出的光引发剂进行分离和定性定量检测;光引发剂含量及涂料固化工艺对光引发剂的迁移影响较大,由此导致的高迁移率会抑制细胞在涂膜表面的生长,进而增加涂膜的细胞毒性。     

UPDHES电泳涂层材料的制备及其防腐性能

目的研究电泳沉积条件及光交联对沉积胶束制备涂层形貌、性能的影响。方法首先通过自由基聚合制备可光交联双亲性丙烯酸酯共聚物(UPDHES),通过全反射红外、氢核磁共振(1H-NMR)对共聚物进行结构表征。然后,将可光交联双亲性丙烯酸酯共聚物在选择性溶剂中自组装形成胶束纳米粒子溶液,利用纳米粒度分析仪、透射电子显微镜(TEM)对胶束粒子的粒径和形貌进行表征。最后,以上述胶束溶液为沉积液,控制不同沉积条件,通过电泳沉积在316L不锈钢表面制备光交联涂层,利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)研究了电泳沉积条件及光交联对涂层形貌及性能的影响。同时,通过电化学工作站研究不同条件制备的涂层在1 mol/L HCl中的耐腐蚀性能。结果当沉积电压为5 V、沉积时间为3min时,电泳沉积制备的涂层表面光滑,具有较好的致密性和均一性,此时涂层的自腐蚀电位为-0.36 V,远高于不锈钢(-0.43 V),耐腐蚀性能最优。光交联后,涂层的附着力由2级增加至1级,自腐蚀电位增加至-0.34 V,耐腐蚀性进一步提高。结论电泳沉积胶束制备光交联涂层过程中,沉积时间、沉积电压均存在一最优值,此时制备的涂层结构完整,耐腐蚀性能最好。光交联可进一步提高涂层的耐腐蚀性能。