基材温度对采用磁控溅射制备的Ti-Al-Si-Cu-N涂层的微观结构及摩擦学性能的影响

本文中,采用反应磁控溅射技术在304不锈钢基片上沉积Ti-Al-Si-Cu-N涂层。通过扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机研究了不同的基材温度对涂层结构和摩擦学性能的影响。结果表明：随着沉积温度从室温升至250 oC,涂层变得表面平滑,结构致密。硬度和弹性模量随沉积温度的升高而升高。划痕实验表明：当沉积温度分别为室温,150 oC 和250 oC时,临界载荷为3.85 N, 3.45 N 和5.10 N。当沉积温度为250 oC时,涂层的摩擦系数和磨损量最小,磨损机制主要为磨粒磨损摩擦过程中产生的磨屑主要来自GCr15不锈钢珠。在较低的沉积温度下,涂层的磨损机理主要为脆性断裂和磨粒磨损。     

非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度

利用非对称双极脉冲磁控溅射技术,双极分别接纯铬靶和纯铝靶,通过调整两靶的功率,以反应溅射的方式沉积不同铬铝比的氮化铬铝涂层。研究不同Al含量的氮化铬铝涂层的结构和硬度。所获得的涂层依次为Cr0.95Al0.05N、Cr0.9Al0.1N、Cr0.83Al0.17N和Cr0.75Al0.25N,均为B1NaCl结构,(220)为主要的织构取向。随着涂层中Al含量的增加,涂层表面突起的尺寸逐渐降低,涂层趋于光滑致密;低Al含量涂层为柱状晶结构,随Al含量提高,涂层结构更加致密,并向等轴晶结构转变。涂层硬度随Al含量的提高先增加后降低,Cr0.83Al0.17N涂层表现出最高的硬度,维氏硬度达到33GPa以上。     

空心阴极离子镀TiAlN复合薄膜结构及抗氧化性能的研究

利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表明涂层为内层富铝,外层富TiN的梯度涂层;X-ray衍射分析表明,薄膜相结构主要为δ-TiN的B1NaCl结构,薄膜的择优取向随着镀料中Al含量的增加由(111)向(220)转变.与TiN相似,TiAlN薄膜为柱状晶结构,但Al的引入使薄膜中使针孔数量和直径减小,致密性改善.600℃～800℃下静态空气中恒温氧化实验表明,TiN和TiAlN薄膜氧化时都在表面形成金红石结构的TiO2,但添加Al的薄膜具有比TiN薄膜更好的抗氧化性.扫描电镜观察表明,添加Al的薄膜表面的氧化膜平整致密,无孔洞;而TiN薄膜在氧化过程中形成数量众多的孔洞.600℃时在NaCl和水蒸气的综合作用下,不锈钢基体材料腐蚀严重,TiN涂层对不锈钢基体有一定的保护作用,但其表面腐蚀产物部分脱落,出现大量的腐蚀空洞,而TiAlN涂层表面腐蚀产物均匀致密,无明显空洞.加入Al引起薄膜结构的改善可能是薄膜抗氧化性和抗腐蚀性提高的原因.     

移动政务，扩展政府服务

“市民们不喜欢在办事柜台前面等待,他们期望更迅速的政府服务;企业希望降低行政负担,以提高企业竞争力;政府以及公共行业需要在有限的预算范围内提高生产力以提供更好、更快的服务。”—欧盟如此评价移动政务。     

Ti-Ni-Cu形状记忆合金的温度记忆效应

采用差示扫描量热仪研究了Ti50Ni35Cu15以及Ti50Ni45Cu5(摩尔分数,%)形状记忆合金的温度记忆效应.结果表明:温度记忆效应仅在Ti-Ni-Cu合金的逆转变加热过程出现,在单斜结构马氏体与母相逆相变(B19'→B2)及正交结构马氏体与母相逆相变(B19→B2)过程中均能发生温度记忆效应;在随后的完全循环过程中,温度记忆记忆效应不再出现,DSC相变曲线又"恢复"到其原始形态;而在马氏体相变冷却过程中未发现温度记忆效应.分析表明,不完全相变过程中的弹性能再分布是可能的温度记忆效应机制.     

Deposition of chromium aluminum nitride coatings by arc ion plating

Cr-Al-N ternary coatings were deposited by arc ion plating method using isolated Cr target and Al target. The influence of AlN content on the phase change was studied by synthesizing Cr1-xAlxN coatings with different x values. The effects of substrate negative bias on the surface morphology, deposition rate and phase structure were investigated. As the aluminum content increases, the structure of （Cr1-xAlx）N changes from Bl（NaCl） phase to B4（wurtzite） phase. The critical content of A1N solubilized in B 1 （NaCl） lattice is close to 0.7. With the increasing pulse negative bias, the deposition rate decreases constantly, the droplet contamination is more serious, the ion-etching effect on coating surface is more obvious, and the change of preferred orientation and the shift of XRD peak take place.     

让EC像能源一样随取即用

“电子商务,它大规模削减成本,大幅度缩短时间。 它减少浪费。 它帮您找到并留住新客户。 它已经成为新的商业模式。 问题已不再是:您想做电子商务吗? 而是:电子商务。您想有多e? 让电子商务像能源一样随取即用。” IBM这句颇具诱惑力的广告词,揭示了“IBM论坛2002”大力推广电子商务的主题。 我们已经从工业时代过渡到知识时代。回顾历史,商品经济充分发展,自然经济逐步解体。商品经济的优势之一是社会化大生产,生产分工越来越细,充分提高了劳动生产率。社会分工和产业结构的巨大变革极大地推动了社会生产力的突飞猛进。IBM认为,外包将是生产分工的进一步体现。     

J2-030龙门刨床的技术改造

本文介绍了J2―030龙门刨床的技术改造情况,通过改造,使龙门刨床的故障停机率大大降低,加工能力显著增强,取得了较大的经济效益。     

Deposition of photocatalytic TiO2 and N-doped TiO2 films by arc ion plating

TiO2 and N-doped TiO2 films were deposited on the glass substrates by arc ion plating method. The results show that the deposition rate does not change with the increasing deposition time. The increase of mass flow rate of N2 gives rise to the increase of deposition rate. All as-deposited TiO2 and N-doped TiO2 films are amorphous. The anatase TiO2 phase with preferred orientation （101） is acquired by post-annealing at 400 ℃ for 2 h. The incorporation of N into the TiO2 films and the heat treatment extensively shift the band edge to the visible light region.     

Si和Y掺杂对(Ti,Al)N涂层结构和性能的影响

分别在未施加偏压和施加-100 V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti_0.3Al_0.7N和Ti_0.39Al_0.55Si_0.05Y_0.01N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏压且添加Si和Y的涂层为非晶结构,表面更加均匀致密.950℃氧化实验表明:Ti_0.39Al_0.55Si_0.05Y_0.01N涂层表面形成极薄且致密的Al₂O₃保护性氧化膜,大大降低了氧化速率.施加-100 V偏压的（Ti,Al）N和（Ti,Al,Si,Y）N沉积态涂层与未施加偏压的相应涂层相比,硬度均降低,尤其是（Ti,Al,Si,Y）N涂层变化显著.经950℃热处理,施加偏压的（Ti,Al,Si,Y）N涂层硬度略有降低,这是由于形成了硬度较低的B4相,而未施加偏压的（Ti,Al,Si,Y）N涂层硬度显著提高,这归因于B1相固溶体的分解.划痕测试结果表明,在实验载荷（50N）下,所有涂层均未出现连续性的剥落.