工作参数对电场增强高功率脉冲磁控溅射的调制作用研究

基于辅助阳极的电场增强高功率脉冲磁控溅射 (HiPIMS) 技术改善了常规HiPIMS放电及镀膜过程。研究工作参数对电场增强HiPIMS的调制作用可为该技术的应用提供理论依据。利用数字示波器收集HiPIMS基体离子电流, 分析了不同工作气压、靶基间距、脉冲频率和脉冲宽度等工作参数对基体离子电流的调制作用规律。利用扫描电镜观察了钒膜的截面形貌特征。结果表明:在相同的靶电压下, 基体离子电流平均值随工作气压的增加而增加并逐渐达到饱和值;随靶基间距的增加基体离子电流平均值逐渐减小;随脉冲频率的增加基体离子电流平均值逐渐减小后趋于稳定;当脉冲宽度为150μs时的基体离子电流平均值高于脉冲宽度为200μs时的基体离子电流平均值。工作参数对膜层的制备具有调制作用, 在适中的工作参数下, 电场增强HiPIMS获得的钒膜与基底结合良好、膜层致密完整。     

电-磁场协同增强高功率脉冲磁控放电特性研究

研究电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术的放电特性。利用数字示波器采集Hi PIMS的基体离子电流用于表征其放电特性的变化。结果表明:当Hi PIMS电压由580增加到660 V时,随励磁线圈电流的增加,基体离子电流平均值单调增加;随辅助阳极电压的增加,基体离子电流平均值单调增加;随辅助阳极在真空室内的位置由与阴极靶成45°位置处变化为成180°位置处时,基体离子电流平均值单调减少。电-磁场协同增强Hi PIMS放电效应存在临界条件。当Hi PIMS电压为580 V、励磁线圈电流为4 A。仅阳极电压大于50 V时,电场和磁场产生协同增强放电效应。同时,当辅助阳极电压为70 V,仅励磁电流大于3 A时,电场和磁场产生协同增强放电效应。与常规Hi PIMS相比,电-磁场协同增强Hi PIMS放电时真空室内不同位置处收集的离子束流均显著增加。其中,当辅助阳极位于45°位置处时,在真空室内不同位置(与阴极靶成0°、45°、90°、135°以及180°位置)处的离子束流值最大。     

基于学科竞赛的包装工程专业人才核心能力培养模式研究——以《包装结构设计》课程为例

高校-企业的人才供需对接不畅的原因在于毕业生专业核心能力不足。在包装工程专业人才培养方案中融入学科竞赛,可以充分发挥学科竞赛对专业人才核心能力培养的优势,促进学生实践能力的提升。通过必修实践环节,专业课程渗透以及开设学科竞赛课程完成专业人才核心能力培养模式的构建。以《包装结构设计》课程为例,介绍了如何在课程中渗透学科竞赛,保证核心能力的培养效果。     

基于BP神经网络算法的结构振动模态模糊控制

为了更合理、方便地控制土木工程结构地震动力反应,提出基于反向传播(back propagation, BP)神经网络的结构振动模态模糊控制算法。以结构地震动力反应数据训练神经网络建立结构分析模型,以时域模态坐标作为被控变量,实现系统降阶,使建立模态模糊控制规则所需要的模糊推理数量处于可接受范围内,并以体系能量最小作为控制目标制定控制规则。建立结构动力反应模糊控制数值模型,根据计算地震动力反应评价所提出算法的减震效果。结果表明:经过训练的BP神经网络可以准确地预测结构的地震动力反应,并可以据此建立模糊控制规则。仅对结构第一阶振型采用模态模糊控制就能达到满意的减震效果。采用主动质量驱动(active mass driver, AMD)最优控制力幅作为各楼层控制力的论域时,模态模糊控制减震效果与其存在差距;增大控制力的论域,可以得到更好的减震效果。     

市场创新 品牌战略

<正>2008年是我国改革开放30年,是一个值得大书特书、记录与思考的时期,也是中国企业在国际竞争的洗礼中逐步摸索出适应市场经济的品牌建设、成长经历和经验的30年。品牌是一个企业的     

市场创新 品牌战略

2008年是我国改革开放30年，是个值得大书特书、记录与思考的时期，也是中国企业在国际竞争的洗礼中逐步摸索出适应市场经济的品牌建设、成长经历和经验的30年。品牌是一个企业的素质、声誉和形象的集中体现，品牌的意义随着市场经济的发展而凸现，市场经济发展也促使品牌的理念深入人心，因此，品牌的竞争也是愈演愈烈。     

论工程进度与质量的关系

主要介绍工程进度与质量的关系，主要包括设计变更、工程承包方式、安全方面以及监部门与施工单位之间的关系等。     

长寿命轴承用离心式微量供油器筛选装置

离心式微量供油器可对轴承进行补充供油,但补充的润滑油量会对轴承性能的稳定性产生影响。为此设计了一种筛选装置,可以模拟其真实工作条件,由试验得出离心式微量供油器的供油速率。     

刍议输油设备密封措施

针对油田生产作业中输油管道、阀门及油浸式变压器的金属本体,由于砂眼、焊缝、螺纹联结、瓷瓶密封不严等原因引起的渗漏,总结出一套堵漏密封措施。本文介绍了点、缝渗漏部位和法兰密封缝的粘接方法。     

工作参数对电场增强高功率脉冲磁控溅射的调制作用研究北大核心CSCD

基于辅助阳极的电场增强高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术改善了常规Hi PIMS放电及镀膜过程。研究工作参数对电场增强Hi PIMS的调制作用可为该技术的应用提供理论依据。利用数字示波器收集Hi PIMS基体离子电流,分析了不同工作气压、靶基间距、脉冲频率和脉冲宽度等工作参数对基体离子电流的调制作用规律。利用扫描电镜观察了钒膜的截面形貌特征。结果表明:在相同的靶电压下,基体离子电流平均值随工作气压的增加而增加并逐渐达到饱和值;随靶基间距的增加基体离子电流平均值逐渐减小;随脉冲频率的增加基体离子电流平均值逐渐减小后趋于稳定;当脉冲宽度为150μs时的基体离子电流平均值高于脉冲宽度为200μs时的基体离子电流平均值。工作参数对膜层的制备具有调制作用,在适中的工作参数下,电场增强Hi PIMS获得的钒膜与基底结合良好、膜层致密完整。