ICP-CVD设备低温制备低应力氮化硅薄膜工艺的探索北大核心CSCD

制备低应力的氮化硅薄膜是微机械系统和集成电路中非常重要的工艺。在温度不高于80℃的条件下,采用ICP-CVD设备,利用硅烷和氮气作为前驱体沉积氮化硅介质薄膜。研究了沉积温度、ICP功率、硅烷与氮气流量比例、工作气压等因素对氮化硅薄膜应力的影响,并利用相关的理论合理解释了应力随不同工艺参数变化的原因。根据研究结果,我们优化了氮化硅薄膜沉积的工艺参数,在70℃低温条件下,制备出厚度160 nm,应力0.03 MPa的低应力氮化硅介质薄膜。     

青铝三期电解车间特种混凝土楼地面破坏原因及解决方案

分析了青铜峡铝厂三解工程中电解车间混凝土楼地面破坏原因，针对实际问题提出了解决方法，并付诸于实践。     

构建现代企业制度与强化财务管理初探

现代企业制度是国有企业改革的方向。从分析现代企业制度与财务管理的关系着手,阐述财务管理在构建现代企业制度中的重要性,并指出了当前企业财务管理存在的一些问题,同时对加强财务管理,建立现代企业制度,提出一些建议。     

一种基于USB2．0的高集成大面阵成像系统设计

介绍了一种基于大面阵CMOS图像传感器MI1310SOC和新型USB2.0控制器的高集成度成像系统的开发,其具有体积小、功耗低、画质清晰等明显优势,有很好的实用价值。文章中给出了该成像系统的设计方法和设计结果。     

军队院校学员自主能力培塑模式的探索研究

针对当前军队院校人才培养中学员自主学习、自主规划、自主管理能力弱化,人才输出难以满足部队和战场需要的问题,分析制约军校学员自主能力培养的内在原因,提出构建"教—学—管"融合互促、"需求—目标—施训"衔接统一、"由偏重共性到凸显个性"的学员自主能力培塑模式,通过实践验证对策的科学性与可操作性.     

基于能力培养的计算机程序设计课程的教学方法的探索与研究

《计算机程序设计》课程在军队院校教育中有着非常重要的地位。分析探究了几种应用于程序设计课程中的教学方法,旨在使计算机课程的教育能够真正促进学员提升综合能力和素质。     

中国认知隐喻研究综述

详细统计并研究了中国1996-2015年(截止到2015年12月12日)刊登在中国知网上有关"隐喻"的文献,发现这些文章绝大多数都是从认知角度来研究隐喻的,说明九十年代中期我国对隐喻的研究已经从修辞转移到认知上来了。鉴于此,本文主要从认知角度对1996-2015年隐喻的研究现状、隐喻的本质、隐喻的分类以及隐喻的工作机制(包括"概念隐喻理论"和"概念整合理论")等四个方面进行综述,并提出存在的问题及发展趋势,为以后的进一步研究做铺垫。     

自动组成分析仪测定石油沥青四组分

介绍了一种自动组成分析仪的原理及应用该套设备对石油中沥青质、饱和分、芳香分和胶质含量进行测定的方法,利用该设备可以实现对石油沥青四组分的快速测定,试验结果表明该测试方法具有操作简便、环境安全、自动化程度高的特点,解决了石油沥青四组分分析中耗时长、试剂毒害大,重复性差的缺点,能够为原油评价分析等提供参考数据。     

Fe-20Cr纳米涂层的电化学行为

利用磁控溅射技术在玻璃基体上制备了Fe-20Cr纳米晶涂层.分别测试了Fe-20Cr铸态和纳米晶涂层在含氯离子溶液(0.005 mol/L H2SO4 0.5 mol/L NaCl)与不含氯离子的溶液(0.005 mol/L H2SO4 0.25 mol/LNa2SO4)中的动电位极化曲线.结果表明,纳米化使材料的溶解速度增大,纳米晶涂层在两种溶液体系中均容易钝化;与铸态合金相比,纳米涂层的维钝电流增大两个数量级.在含氯离子溶液中,纳米晶涂层的维钝区间是铸态合金的两倍,耐局部腐蚀性能得到很大提高.利用电容测试技术和Mott-Schottky关系研究了Fe-20Cr铸态合金与纳米晶涂层分别在两种溶液中所形成钝化膜的半导体性能.结果表明铸态合金在不含氯离子的溶液中低电位下所形成的钝化膜为p型半导体,高电位下形成n型半导体,在含氯离子溶液中形成的钝化膜为p型半导体;而纳米晶涂层在两种溶液体系中形成的钝化膜均为n型半导体.钝化膜的结构类型的不同是导致Fe-20Cr纳米晶涂层与铸态合金具有不同电化学行为的主要原因.     

利用动电位再活化法研究外加阴离子对铁钝化过程的影响

本文运用动电位再活化法研究了酸性溶液中阴离子对铁钝化过程的影响。在给定实验条件下,卤素离子对铁钝化膜的影响以Br~->Cl~-8>F~-、I~-的顺序递减;NO_3~-可以抑制Cl~-对阳极钝化区铁电极表面的孔蚀。扫描电镜实验得到相同结果。动电位再活化法是一种研究侵蚀性阴离子和抑制剂对金属钝化膜作用的快速而有效的方法。