提高抗共模干扰的方法

共模干扰是工业检测装置和数据采集系统的主要干扰。提高仪表、装置或系统的抗共模干扰能力有多种方法:一是采用屏蔽、浮空技术;二是保证输入线路(包括信号源输出阻抗)的匹配精度;三是提高前置放大电路本身的共模抑制比,这包括选择合适的电路结构形式(主要是差动输入的各种形式),使用高共模抑制比的运算放大器,保证运算电阻的匹配精度等,对此有关文献已有祥尽的论述。对于前两种方法,尽管一些文献从不同的角度做了介绍,但是缺少在不同情况下,尤其是在几种方法同时     

以原子谱线作参考的半导体激光器的频率锁定

研究以原子谱线作参考的半导体激光器的频率锁定系统,在精密控制半导体激光器的工作温度和工作电流的基础上,利用85Rb的D2线的一次微分信号对LD的频率进行锁定.锁定后LD的频率最大变化为10MHz/3h,平均取样时间10s,用Alan方差估算LD频率稳定度为10-9.     

LabWindows／CVI测试技术及工程应用（附光盘）

本书以NI公司最新发布的LabWindows／CVI版本为开发环境展开论述，全书分为基础篇、提高篇和应用篇三大部分。详细论述了如何构建虚拟仪器系统、编程技巧和典型应用实例．使读者更加深入地理解程序设计的思路与方法，从而提高实际应用能力。本书的例程在Windows XP系统下已经全部经过调试，并编译通过。     

离子探针分析锑化铟器件表面沾污

本文描述用离子探针显微分析法研究锑化铟器件表面沽污的情况。研究发现:各工艺过程中采用的容器、化学试剂、去离子水及工作环境,都是杂质沽污的主要来源。离子探针显微分析法促进了工艺的改进,使阳极氧化工序的沾污杂质由13种减少到7种,Na、K和Ca杂质的含量也大大下降。中测腐蚀工序沾污杂质由11～13种减少到4～6种。器件表面沾污的减少使器件性能得到改善,φ2mm器件的阻抗由10kΩ提高到60～70kΩ,成品率也提高一倍左右。     

TDI CCD相机的总体设计

介绍了时间延迟积分（TDI）技术的基本概念，TDI CCD芯片的结构，并在此基础上给出了利用TDI CCD芯片进行相机设计的总体方案。     

基于有限元分析的金刚石钻头强度验算公式

在对81／2B125金刚石钻头进行有限元计算分析后，找出最大应力点在金刚石钻头冠部切削告处。通过改变各相关尺寸和结构型式，用有限元法模拟试验过程，在给定结构参数和工艺参数情况下获得多组数据。根据专业知识，参考有限元计算获取的各组数据变化特征，选出拟合较好的公式类型，再采用回归分析方法确定待定系数，最后得出工程上实用的金刚石钻头强度验算公式。用这个公式对81／2B461W和121／4B331金刚石钻头进行了强度验算，经改进设计后钻头在现场使用取得了良好的效果。