采用嵌入式及SSL 的多用户安全型串口服务器设计

针对目前串口服务器在安全性及功能性上的不足之处,提出以ARM9和嵌入式Linux为平台,采用SSL协议开发的具有多用户管理的安全型串口服务器。介绍了多用户安全型串口服务器的整体硬软件设计方案。实现了U-boot、内核、文件系统以及各功能库在内的嵌入式Linux系统在AT91SAM9261处理器上的移植,对软件系统的构架进行了论述,着重介绍了数据处理框架、用户管理以及SSL的实现。应用结果表明,此设备运行稳定可靠,能够满足安全通信的要求。     

玻璃纤维复合材料孔隙的太赫兹光谱特性研究

探索太赫兹波和玻璃纤维复合材料孔隙缺陷的相互作用机理,分析在0.075和0.713 THz频率点时,孔隙率和太赫兹特征参数(折射率、消光系数和透射系数)之间的相互作用关系.实验结果表明:随着孔隙率增加,玻璃纤维复合材料密度降低,折射率呈递减趋势.在频率为0.075 THz时,基于瑞利散射理论,随着孔隙率增加,消光系数下降,透射系数上升;0.713 THz时,基于Mie散射理论,随着孔隙率增加,消光系数上升,透射系数下降.此外,孔隙形貌的复杂多变导致孔隙率与太赫兹特征参数之间存在非唯一对应关系,具有相同孔隙率的不同样本的太赫兹特征参数并不相同.     

PC机与光学设计

文中论述了光学设计对PC机性能的要求,特别是对计算速度的要求及改善计算速度的措施。阐述了新一代PC机对光学设计的影响。介绍了美国Sinclair Optics公司出产的Super-Oslo光学设计软件的特点。     

软骨细胞光生物调节作用的体外实验

研究了低强度激光对兔软骨细胞增殖和变异的潜在性影响。选取3周龄新西兰白兔分离软骨细胞,在新生牛血清(NCS)体积分数分别为10%,5%,2.5%和无血清4种培养媒介中培养,采用功率6.5mW的He-Ne激光辐照(HNI)(5.74mW/cm2)软骨细胞。用四氮唑复合物法(XTT)检测细胞的活性。通过检测羟脯氨酸的(Hrp)含量了解细胞合成胶原的能力。在激光共聚焦显微镜下观察吖碇橙标记软骨细胞形态及DNA的表达。在营养缺乏培养状态中(5%,2.5%新生牛血清),辐照时间为16,30,45min的照射组细胞数量显著增加,具有明显的光生物调节作用(PBM);其中最佳辐照时间为30min,实际最佳辐照能量密度为9.42J/cm2;当光生物调节作用显著时,软骨细胞的DNA及胶原的合成也明显增强。He-Ne激光照射兔软骨细胞后在营养缺乏的媒介中增殖明显,所产生的光生物调节作用仅限在一定的剂量范围内产生,这一特性可为临床使用提供参考。     

强实时环境下的高可靠性技术研究

在军事、航空航天、银行、气象、电子商务等强实时系统中,存在大量有高可靠性要求的应用。针对强实时的要求,如何实时检测系统故障,怎样将具体应用与高可靠性技术相结合是其中的技术重点和难点。文中着重论述了自适应心跳信息检测、软双工设计和背景数据同步,实现了应用软件的高可靠性。     

用于数码三维衍射图像的激光照排系统

研制了一种新型的用于数码三维衍射图像与光学可变图像的激光照排系统,采用空间光调制器(SL M)和全息干涉成像光学头进行子图输入和干涉条纹产生,系统在6 35 dpi图像分辨率下的运行效率达2 0 0 0 dot/s以上,该系统将为高效率制作2 D,2 D/3D和3D光变图像提供一种良好的工具。     

浅谈马头选煤厂降低介质消耗的实践

介绍了马头选煤厂通过改进重介选煤工艺流程、增加磁选机、加强弧形筛和脱介筛及磁选机等重点设备的管理、强化生产过程控制管理与细化考核等一系列行之有效的措施,有效降低了介质消耗,取得了较好的经济效益和社会效益.     

斜管深锥浓缩机在马头洗选厂的应用

根据马头洗洗厂生产存在问题,新增两台斜管深锥浓缩机作为一段浓缩应用,并对煤泥水系统进行优化。此外就斜管深锥浓缩机的工作原理、技改后流程及该设备在马头洗洗厂的应用效果进行了阐述。     

机器设计选择、工程平衡及Convex C2系列的决策过程

<正> 计算机界普遍认为,计算机结构还没有形成一种科学,只是一种工艺,至多在某些部分可称为科学,大部分只是一种科学的方法。从广义上讲计算机重要的不是发明什么,而是要形成一种别人肯买它的产品。买的人越多,应用就越广;应用越广,它本身的改进也就越快。在开始设计一种新机器时,必须要考虑到预算,元器件的现状水平,需要消耗多少人年,技术的提前量与实际实施的可能性等综合因素,在诸多因素中力求取得最佳平衡点。由于我们只考虑机器本身,故在此不考虑市场前景等非技术性的因素。     

电参数对2A12铝合金微弧氧化膜组织结构的影响

采用微弧氧化技术,在2A12铝合金表面制备致密、平整且晶粒细化的微弧氧化铝陶瓷膜(简称微弧氧化膜)。通过扫描电子显微镜和光学显微镜,对不同电参量条件下制备的微弧氧化膜层的微观形貌和组织结构进行分析。当正电压从220 V增大到280 V,随着正电压的升高,微弧氧化膜表面变得光滑致密,且微弧氧化膜的厚度也随电压升高而增厚;当正电压升高到280 V时,表面有微裂纹出现;随着负电压的升高,微弧氧化膜表面的孔径先增大后减小,膜表面变得光滑;负电压48 V时,微弧氧化膜的厚度随着负电压的升高而增加,当负电压≥48 V后,微弧氧化膜的厚度减小;随着电流密度增加,微弧氧化膜的厚度增加,但膜表面较粗糙;因此,在微弧氧化处理过程中,正电压、负电压和电流密度对微弧氧化膜的制备均有较大的影响。