游艇及滨海码头景观——卡塔赫纳港的邮轮码头

科技的日新月异令人类与海洋的接触越发亲近,各种金属、塑料犹如无数枚尖针扎进它的皮肤。地球的伤疤总是由少数慢慢累计成多数,无法预料哪一天我们的游艇码头也将如同今天的公路交通一般拥堵,令人神伤。那时还会不会有人记得,我们曾满怀希望,共享着太平洋的风,它曾吹过甲板上的孩子,穿过海峡,掠过恋人的脸颊,带着玉兰花香,吹过了所有美好的一切。     

钢铁工厂院落

大多数的工业城市在发展过程中会或多或少地遗留一些环境问题,该项目便是在恶劣环境下展开的再生性设计。对于罗德岛州的首府——普罗维登斯这一工业城市来说,该项目的设计不仅要使其摆脱原来衰败的社区形象,还要从更深层次展示真实的、积极的再利用策略,而非简单的适应性改造。     

基于电磁仿生概念的静电放电注入损伤防护模型设计

随着半导体制造工艺水平和电路集成度的不断提高,加之电磁环境日趋复杂、多变,使得应用于电子系统的传统电磁防护和抗扰方式的不足正日渐突出,导致典型现场可编程逻辑门阵列(FPGA)芯片的电磁抗扰度逐渐下降.以广泛应用的FPGA为研究对象,针对典型近场危害源静电放电(ESD)的防护问题,利用试验方法模拟人ESD注入FPGA芯片...     

PAG水溶性淬火介质与淬火油分析比较

20世纪90年代,PAG水溶性淬火介质进入中国热处理行业,代替了部分传统的淬火油。其优点为：工作环境清洁卫生,无油腻感,不燃烧,无烟气,无火灾危险;淬火灵活性强,通过控制淬火介质浓度、温度、     

高光液晶前壳翘曲变形分析与工艺参数智能优化

以减小高光液晶前壳翘曲变形量为优化目标,基于数值模拟和正交试验获得试验数据,并通过分析得出各工艺参数在高光注射成型中对翘曲变形的影响趋势及影响显著性顺序,采用神经网络与遗传算法相结合的智能优化技术,对工艺参数进行优化,最终在指定参数区域内获得最佳成型工艺组合。优化结果经CAE模拟和实验验证,效果良好,可以有效地减小高光制品的翘曲变形,提高制品的成型质量。     

水溶性淬火介质JX-1118型在H13等热作模具钢淬火中的应用

用JX-1118水溶液作为淬火介质代替传统淬火油对H13热模具钢进行热处理,考察工件热处理后的机械性能及淬裂情况,并分别测试试样在淬火及两次回火后的洛氏硬度,分析淬火件的各种机械性能.结果表明,该介质具有理想的冷却速度和良好的淬透性,淬火后的工件获得了较理想的硬化层深度,有效地解决了油淬不硬、水淬易裂等问题,同时也改善...     

一种提高MPCVD法制备金刚石膜均匀性的方法

采用自制的1 kW石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积装置,以氢气和甲烷作为气源在镜面抛光的(100)面单晶硅片上沉积了金刚石薄膜。实验共制得两个样品,其中一个样品在制备的过程中加装了难熔的金属钽环,利用等离子体易吸附于金属钽环表面的特性,缩小了硅片中间与边缘等离子体密度差异,另外一个样品没有加装难熔的金属钽环。利用激光拉曼光谱仪和扫描电子显微镜(SEM)对制备的样品进行了表征,发现没有加装金属钽环的样品中间位置沉积的金刚石膜质量明显高于边缘位置沉积的金刚石膜,中间位置、离中间5 mm位置、边缘位置沉积膜层的厚度差别很大;加装了金属钽环的样品中间位置与边缘位置沉积的金刚石膜质量差不多,中间位置、离中间5 mm位置、边缘位置沉积膜层的厚度差别不大,上述结果证明金属钽环的加入是一种提高MPCVD法制备金刚石膜均匀性的方法。     

形变强化对车用超高强钢型材力学性能的影响

以1 000MPa级车用马氏体超高强度钢为研究对象,将其板材折弯为帽形型材,对各部位试样和原始板料做静态拉伸实验以及金相实验,并进行试件断口的扫描电镜分析。拉伸实验表明,弯角部分试样的屈服强度和抗拉强度均高于母材,并具有一定的脆性断裂特征;金相照片显示,弯角处的晶粒被拉长,产生了明显的塑性变形;断口的扫描电镜实验观察到,平板试样断口属于韧性断裂,而弯角处断口属于准解理断裂;研究结果表明,塑性加工造成的形变强化,极大增加了型材脆性断裂的危险性。     

风管式气举反循环钻具及其在大口径钻井施工中的应用

目前大口径钻井施工中常用的泥浆正循环钻进存在着泥浆流速慢、携渣能力差、重复破碎严重、钻井效率低、钻头磨损快、能源消耗大、钻井事故发生率高等问题,气举反循环钻进工艺可有效解决上述问题。风管式气举反循环钻井工艺简单易实现,能有效减少重复破碎,钻进效率高,能源消耗少,钻头寿命长,成井质量好,对涌水和漏失均有很好的抑制作用。介绍了风管式气举反循环钻井工艺原理、专用钻具及其现场使用情况。     

SiC缓冲层用于改善硅基氮化镓薄膜的质量研究

用脉冲激光沉积法在硅衬底上沉积GaN薄膜,为了减小Si衬底与GaN薄膜之间的热失配和晶格失配引入SiC缓冲层.脉冲激光沉积后的GaN薄膜是非晶结构,将样品在氨气氛围中在950℃下退火15min.得到结晶的GaN薄膜.并用X 射线衍射、原子力显微镜、傅立叶红外吸收谱、光致发光谱研究了SiC缓冲层对GaN薄膜的结晶、形貌和光学性质的影响.