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我们使用扩散光子密度法研究了沉没在高散射介质中的吸收体和散射体的取象,并对含有吸收体和加入不同颜色染料的散射体的取象实验结果进行了比较和分析。从实验结果可以得出:用扩散光子密度法可以探测强散射介质中吸收体或散射体的存在、大小和形状;以及在强散射介质中的散射体内加放不同颜色的颜料时,散射信号会发生不同的变化。 相似文献
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本工作采用电解液电调制反射(EER)谱技术,对N型硅外延片进行了研究,不仅测得了E′_0峰,还成功地测得了E′_1峰和E_2峰。同时,在直流偏压、交流调制电压、调制频率及溶液浓度等方面对半导体-电解液接触层的形成及性质作了初步的探讨。采用传统的EER谱的实验装置,所不同的是将卤钨灯作为光源,并把二极管作为光电倍增管的负载,以获得ΔR/R的比值,这就省去了复杂的氙灯电源及伺服系统。 相似文献
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本文报道了用电调制反射(ER)谱技术测量a-Si太阳电池中非晶硅膜的禁带宽度E_g和厚度均匀性的结果。该技术简单,测量灵敏度和分辨率高,并可直接对成品电池进行测量,无需专门加工样品。另外,ER谱只与a-Si膜的性质有关,不受玻璃和ITO膜的影响。 相似文献
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采用光声光谱实验方法,用环形压电陶瓷作为声接收器,利用光声压电检测方法,研究了非晶硅太阳电池的吸收特性,发现干涉效应有不可忽视的影响。 相似文献
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经过四年的田间系统调查研究,明确了烟蚜在春烟田的种群数量消长为两“峰”夹一“谷”的双峰型曲线。双峰型的形成是由于冬麦春烟耕作制度下,与烟蚜有关的天敌等生物因子及气候等非生物因子综合作用的结果,烟蚜天敌是造成第一个蚜高峰蚜量下降的主导因子,常年保护利用烟蚜天敌即能控制前期(从移栽到团棵)蚜害;中期(旺长期)没有一种自然因子或农业措施能够控制蚜量的急剧上升,必须依据防治指标及时进行化学防治才能控制蚜害;后期(采收开始后)烟株打顶抹杈是控制烟蚜数量上升的重要因子,天敌数量的相继回升,强化了对蚜量的控制,迫使蚜量在较低水平上波动,一般不会造成蚜害。依据上述分析,针对烟蚜的直接为害,提出了“前期保益不防,中期及时化防,后期灵活综防”的防治策略。根据这一策略,提出的“保护天敌 化学防治 打顶抹杈 保护天敌”系统控制蚜害的基本模式,经试验验证,在烤烟大田生长期只需施用1—2次化学农药,即可控制全期蚜害,较目前习惯治蚜可减少3—2次用药,有着明显的经济效益,生态效益和社会效益。 相似文献
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