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返回参考点是数控机床启动后首先必须进行的操作,该操作完成即机床坐标系已经建立。一旦数控机床不能进行返回参考点的操作,任何自动操作将不能进行。如果返回参考点不准确(偏离),也将影响零件的加工精度,甚至使零件报废。下面介绍数控机床在返回参考点过程中的几个故障实例的诊断过程及排放方法,供同行参考。例一XK5750数控铣床,其控制装置采用美国DELTA-40MCNC系统。故障现象:在机床调试期间出现Y轴返回参考点操作完成后,所停位置有时比参考点正确位置后移约一个丝杠螺距(6mm)。分析检修:故障原因估计是返回参考点所用… 相似文献
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密封继电器电触头污染的实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文首先采用扫描电子显微镜(SEM)和俄歇电子能谱仪(AES)分析研究了一种密封继电器镀金电触头(基体材料为99.5AgMgNi)的污染,结果表明:触头的冲击磨损和滑动磨损可导致基体金属暴露于表面,使之硫化、碳化和氧化,从而引起触头污染。文中还运用扫描电子显微镜和四极质谱仪(QMS),对经湿热试验后失效的另一种密封继电器镀金电触头(基体材料为AU50Ag20cU30)的污染进行了分析研究,发现密封继电器内水汽等的存在是导致失效的主要因素,触头受到了污染。为研究、诊断污染的来源并采取相应的措施提供了依据。 相似文献
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本文介绍采用MCS-51系列单片机8031为主组成智能控制的瓦楞纸箱抗压强度测试机的软硬件结构,并且与其它智能测试机及主微计算机联网通讯组成瓦楞纸箱测试集散控制系统,该机具有操作简便,抗干扰能力强等特点。 相似文献
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构建了体积为5 L的搅拌式浆态光催化反应器,以偶氮染料活性艳红X-3B为目标污染物,进行光催化降解特性研究。结合对X-3B在小规模反应器中悬浮TiO2表面的吸附行为研究,考察了TiO2投加量、搅拌速率和曝气量等对光催化效果的影响,分析了光催化过程的降解动力学,并从传质的角度对搅拌强度和初始反应速率进行了关联。实验结果表明,在搅拌式浆态光催化反应器中,Langmuir模型和Freundlich模型均能较好地描述TiO2对X-3B的吸附行为;在催化剂最佳浓度0.5 g.L 1的条件下,初始反应速率r0随搅拌雷诺数Re的增加呈现先增大后稳定的趋势,进一步增加空气曝气量可以显著提高初始反应速率。根据相关理论推导得出在该反应器光催化降解X-3B时,氧的传质是影响初始反应速率r0的关键因素。 相似文献
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本文从有源标签的设计理念出发,针对一般小范围空间RFID定位的需求,根据低功耗、高效率的原则进行RFID标签的设计。系统在硬件上采用了MSP430F2012单片机和nRF24L01射频芯片的低功耗组合;软件上则结合了RFID定位的特点,介绍了有别于一般以识别为主要目的的标签的设计方法,并分析了其软件设计流程以及简单的防冲突能力。通过良好匹配的天线,本设计有效读取距离可达几十米,足以应付一般空间内定位的需求。 相似文献
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