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采用阴极电弧沉积方法,制备了与靶材成分基本相同的多元合金Inconel625膜层[1]。用XRD,SEM,TEM研究了不同入射角下所获膜层中的织构分布及其成因。 相似文献
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用离子束增强沉积法(IBED)在硅及铜基体上沉积了TiB2薄膜,研究了轰击离子束能量和束流对薄膜的微结构及力学性能的影响。用俄歇电子谱(AES)分析了膜的成分及其界面状况,用X射线衍射(XRD)研究了膜的微结构,并测定了膜的硬度及进行了膜的高温氧化试验。结果指出:(1)离子束轰击使薄膜晶化,从而影响到膜的硬度及抗高温氧化性能;(2)离子束增强沉积的二硼化钛薄膜是一种耐高温氧化的高硬膜。 相似文献
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对光电化学方法在锆及其合金氧化后性质研究方面的应用进行综述,同时,还结合已有的氧化物金属接触的光生阴极保护研究,对其在锆及其合金中应用的可能性进行探讨,提出光电化学方法在锆及其合金的反应堆内性能研究和改性方面的新应用. 相似文献
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本文测定了工业纯锆及其焊缝和热影响区在25℃,20wt%硫酸溶液中的阳极极化曲线;极化阻力(R_p);以及锆的基体、焊缝和热影响区三者相互之间的电偶腐蚀。实验得出:锆的热影响区腐蚀速度最大,焊缝次之,基体最耐蚀的结论。本文还介绍了上述三种电化学性能测定的方法及装置。 相似文献
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