等离子体化学气相沉积硅外延

运用射频等离子体化学气相沉积在Ｓｉ（１００）Ｐ进行外延试验，并用四极质谱仪（ＱＭＳ）进行监测，得出了ＳｉＨ４浓度的变化规律。试验结果表明在６００℃，压力为３００ｍＴｏｒｒ时，外延生长率最高，为４５０／ｍｉｎ，膜中Ｈ含量也较低，为１．５％［ａｔ］。在压力为３０ｍＴｏｒｒ，７００℃时，外延生长率为５９．６／ｍｉｎ，膜中Ｈ含量降至２．７５％［ａｔ］。     

移动互联网与物联网技术在现代楼宇中的应用探析

随着我国移动互联网的发展和5G网络的广泛应用,移动网络已经完全走进了我们的生活。在我们传统的认识中,智能楼宇会将各个系统进行有机整合;但是,随着现代信息技术、移动互联网和物联网技术的发展,以及各种传感器的广泛应用,将直接使得未来每一个楼宇都作为一个信息节点的身份出现,从而推动整个社会向物联网、智能化的时代过渡。     

直流等离子体的双探针诊断

<正> 一、引言低温等离子体是一种非热平衡态的物质。其中的电子能量达几个电子伏特,相当干～10~4～10~5K。而作为系统质量主体的气体分子的温度仅数十至数百摄氏度。这一状态的出现是由于电子与气体分子间质量相差悬殊,电子通过弹性碰撞传给分子的能量极少。所以可以把低温等离子体看作是在“冷”的母体中包含着高能量的粒子。电子是系统中最活跃的组分,是能量传递的媒介。它们通过与气体分子的非弹性碰撞,把电能转化为气体分子的势能,使分子电离,分解或激发,成为高活性的物质,从而把化学反应温度大大降低。因此,在低温等离子体中电子能量及其密度的测定就成为分析系统中化学反应的最基本的参数。     

PCVD-TiN涂层及其钢基体的热处理

在Ｃｒ１２钢基体上用ＰＣＶＤ法沉积ＴｉＮ涂层后，再进行热处理强化基体的研究。结果表明，热处理后，ＰＣＶＤ ＴｉＮ涂层的显微硬度略有提高。Ｘ射线衍射分析表明，经过热处理后，ＰＣＶＤ ＴｉＮ涂层的晶体结构更趋于完整，其晶面间距也更接近或达到ＴｉＮ晶面间距的标准值。同时，ＰＣＶＤ ＴｉＮ涂层的致密性有所增加，其（２００）晶面织构有所增强。而且，经过热处理后ＰＣＶＤ ＴｉＮ涂层与基体结合良好。     

等离子体增强化学气相沉积Ti－Si－N膜

报导了用等离子体增强化学气相沉积法于５６０℃在高速钢基材上沉积Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ膜。反应气为ＴｉＣｌ４，ＳｉＣｌ４，Ｎ２和Ｈ２。实验结果表明：调整两种氯化物在进气中的比例可以很好地控制膜的成分。膜中Ｓｉ含量变化范围为０到４０％（原子）。在ＴｉＮ膜中加入少量Ｓｉ就可以显著改善膜的形貌，得到致密的类似玻璃的结构。同样，膜和基材之问的界面显得更加平滑和均匀。含Ｓｉ量１０％～２５％（原子）的Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ膜具有最高的硬度，约达到６３５０ｋｇｆ／ｍｍ２，比ＴｉＮ膜高得多。     

等离子体诊断——探针法简介

<正> 一引言低温等离子体化学是当前研究和应用开发十分活跃的一个领域。在金属及半导体表面刻蚀,金属及高分子材料的表面改性,各种薄膜及新材料的制备等方面都得到广泛应用。但由于对等离子体本身各种物理量的测定和表征工作注意不够,往往停留在一些宏观参数,如电压、电流、气压等的描述。所以当试验条件不同时,得到的结果差异很大,使实验结果的解析和同种文献间的比较十分困难。     

铝及其合金等离子微弧氧化技术

等离子微弧氧化是一种新兴的材料表面陶瓷化技术,利用该技术可在铝及其合金表面生成一层耐磨,耐蚀,耐高温以及电绝缘性能优异的陶瓷膜层,介绍了微弧氧化技术的发展及现状,基本原理,陶瓷膜的制备以及膜层结构及性能特点,并展望了其应用前景。     

化学镀镍磷合金镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响

化学镀镍磷合金具有很多独特的理化性能,然而由于成本较高限制了其应用。为降低化学镀镍的成本,采用工业级药品配制镀液。研究了镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响。随着镀液中颗粒度的降低,镀层耐蚀性明显提高,说明化学镀对镀液中的有较高的复合率,因此必须严格控制镀液中的杂质颗粒度。     

用Ti（OC3H7）4制备Ti（CN）涂层研究

文章叙述了采用金属有机物四异丙基钛（Ｔｉ［ＯＣ３Ｈ７］４］为钛温，在外加热ＰＣＶＤ设备上沉积Ｔｉ（ＣＮ）涂层。并对涂层进行了其显微硬度测量，扫描电镜（ＳＥＭ）观察和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）分析。结果表明，此法制备的Ｔｉ（ＣＮ）涂层其显微硬度可达标１５６００Ｎ／ｍｍ２，膜层结构仍为在状晶，Ｔｉ（ＣＮ）晶体的ｄ（２００）随着炉温的升高和Ｈ２．Ｎ２比的增大在逐渐变化。