Si(100)上生长的CoSi_2薄膜的STM研究

在大气中用STM研究了固相反应生长的CoSi2薄膜表面．在Si（100）晶片上用离子束溅射淀积Co／Ti双层膜，经退火处理完成三元固相反应，生成TiN／CoSi2／Si膜，然后经H2SO4和H2O2溶液腐蚀去除TiN膜层得到均匀平整的厚度约为100nm的CoSi2薄膜．AES，XRD等分析表明所得CoSi2膜层是Si（100）衬底的外延生长膜．STM测量结果显示CoSi2薄膜表面结构致密平整，主要由交替出现的平台和台阶结构组成．平台的平均宽度为9nm，台阶高度为2个原子层厚度，分析表明这是由于Si衬底的晶面切割偏离（100）面引起的．平台表面呈平行台阶方向的相距约1．1nm的条状结构．     

CaF_2/Si(111)界面的电子结构和化学键(英文)

CaF_2/Si(111) interfaces formed at 700℃ as well as at room temperature have been studied with XPS, UPS and LEED. The experimental results show that the substrate temperature has a significant influence on the interface in respect of ifs electronic structure and chemical bond. When the substrate temperature was at 700℃, the interface is found to be consisted of predominate Si-Ca bonds which correspond to an interface state located at 1.2eV below Fermi level. There is depletion of fluorine atoms due to the dissociation of the CaF2 molecule at the interface. When the substrate was at room temperature, there are no chemical bonds between substrate and adatoms nor depletion of fluorine atoms at the interface. Annealing of this interface at 700℃ results in preferential evaporation of F, and the surface undergoes a number of reconstructions until a 3×1 reconstruction is obtained. The bonding at this interface is similar to that of CaF2/Si(111) interface when the substrate temperature was at 700℃.     

示波极谱法快速测定水样中氯离子

氯离子的极谱法测定已有报导。为扩大应用范围,适应各种水质中氯离子的快速测定,消除水质中存在强氧化性盐的影响,在原方法基础上,引入了偶氮化合物,调整了底液组分。在现拟定的0.1M硝酸钾—0.01M硝酸—0.00004％甲基红底液条件下,氯离子于峰电位+0.1V处(对银电极)产生良好的氧化波。10ml测定体积中,0～400μg氯离子与相应的峰电流呈线性关系。回收率104％,对含量为31.7ppm的氯离子,相对标准偏差为6.6％(n=20)。 方法快速、稳定,已用于自来水,选矿中铜铅锌尾矿水等水质中氯离子的测定     

AN AES STUDY OF ANODIC OXIDE FILM ON 1Cr18Ni9 STAINLESS STEEL

用Auger电子能谱仪(AES)研究1Cr18Ni9不锈钢表面阳极氧化膜的组分分布。用Ar~+溅射剥层所作的剖面分析发现过钝化阳极氧化膜的表面层中含有大量的Mo与Cr的离子,中间层基本上是一个富Cr的氧化层,Fe处于中性态;然后逐渐过渡到基体内,在过渡层中氧逐渐减少到零。与硝酸钝化膜和自然钝化膜中元素的剖面分布相比,过钝化阳极氧化膜的富Cr区要比后二种膜宽得多,膜中Cr的氧化程度也比较完全。根据这些特点讨论了过钝化阳极氧化膜抗腐蚀性能比硝酸钝化膜优良的原因。     

硅锗分子束外延层表面形貌的扫描隧道显微镜研究

本文用扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）在大气环境中对硅分子束外延生长的一系列样品表面进行了形貌研究．在实空间观测到硅衬底上异质外延生长锗的初期表面形成锗岛，在检测外延生长层表面质量方面对反射式高能电子衍射（ＫＨＥＥＤ）和扫描隧道显微镜进行了比较．     

用STM研究HF,O_2和H_2O混合气体对Si(100)表面的作用

用STM观测了Si（100）表面被氧气流携带的HF和H2O处理后的表面原子结构．实验在大气环境和室温条件下进行，所得STM拓扑图具有清晰的原子级的分辨率．结果表明处理后的表面结构随时间发生变化．刚处理后的表面不显示有序的结构特征，但在大气中存放15分钟后，硅片表面开始逐渐呈现出清晰的Si（100）2×1结构，随后再逐渐转变为1×1结构．这可能是混合气体与Si表面作用，能更有效地清除表面残余的沾污物和氧化层，暴露清洁的硅2×1再构表面，进一步由于吸附H，使表面悬挂键被氢原子占据，转变为1×1结构．有序结构可维持3小时，因此用所述混合气体处理硅     

AN XPS STUDY OF ANODIC OXIDE FILM ON 1Cr18Ni9 STAINLESS STEEL

用XPS研究了1Cr18Ni9不锈钢表面氧化膜的组分与结构。实验表明膜中的Cr/Fe约为体内的3倍,并在组分和价态上具有不均匀的三层结构;表面层的主要成分为Cr,Fe的含氧氢氧化物;中间层的主要成分为Cr,Fe的氧化物;而过渡层则主要由金属状的Fe和少量Fe,Cr的氧化物组成。当阳极氧化膜用Na_2MoO_4溶液处理后,发现在整个氧化膜中都有Mo存在,其含置约为2％。表面层与中间层统称为阻挡层,它是不锈钢抗腐蚀的主要壁垒。过渡层介于阻挡层和基体之间,在这区域中有透过阻挡层进来的少量的氧存在。根据氧化膜中间层中Cr,Fe的氧化程度和过渡层中氧的含量与透入深度,讨论了阳极氧化膜与其它钝化膜(硝酸钝化膜和自然钝化膜)在抗腐蚀性能上差异的原因。     

1Cr18Ni9不锈钢表面阳极氧化膜的AES研究

用Auger电子能谱仪(AES)研究1Cr18Ni9不锈钢表面阳极氧化膜的组分分布。用Ar~ 溅射剥层所作的剖面分析发现过钝化阳极氧化膜的表面层中含有大量的Mo与Cr的离子,中间层基本上是一个富Cr的氧化层,Fe处于中性态;然后逐渐过渡到基体内,在过渡层中氧逐渐减少到零。与硝酸钝化膜和自然钝化膜中元素的剖面分布相比,过钝化阳极氧化膜的富Cr区要比后二种膜宽得多,膜中Cr的氧化程度也比较完全。根据这些特点讨论了过钝化阳极氧化膜抗腐蚀性能比硝酸钝化膜优良的原因。