膜系自动设计中的几种新型评价函数

综述了不同膜系设计中特殊的建立评价函数的方法。阐明在用计算机进行自动膜系设计过程中，如何确定哪些标准参与薄膜性能的评价，用什么方式构成评价函数，并介绍了两种提高优化设计效率的评价函数构造方法。     

离子辅助蒸发TixOy制备氧化钛薄膜及特性

采用离子辅助沉积的方法,分别以TiO2和Ti3O5为初始膜料在K9玻璃上制备了氧化钛薄膜,并研究了离子束流密度对以Ti3O5为膜料制备的薄膜透射性能的影响.实验结果表明,热处理前薄膜都为无定形结构;热处理后有明显的锐钛矿结构(101)择优取向,以Ti3O5为初始膜料制备的薄膜吸收优于以TiO2为膜料制备的薄膜;薄膜透射率极值随束流密度增大有临界值.     

以低价态钛氧化物制备TiO2薄膜研究

试验以Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为初始膜料,在ZZS700-6/G型真空镀膜机上采用O2-离子束辅助蒸发制备氧化钛薄膜.用XRD检测方法确定各种膜料和薄膜的相成分,并全面地分析了各种膜料的蒸发特性和薄膜;用分光光度计测量薄膜的透射率,并分析薄膜的光学性能.试验表明,在采用Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为蒸发制备氧化钛薄膜时,钛的氧化物中存在Ti3O5固态同一蒸发相;各种膜料在蒸发时,发生分解,熔池中的物质成分逐渐转变成同一蒸发相成分,最终完全转变成同一蒸发相.     

铝硅合金变质效果的炉前快速检测

热分析法可用来监测共晶Al-Si合金用Na、Sr变质的变质效果,并能监测亚共晶铝合金α晶粒细化及过共晶Al-Si合金初晶硅的细化。该法借助于对合金特殊温度点的变化ΔT的测量,可以予测合金的金相组织及机械性能,因而是一种快速、简便、廉价的炉前检测方法。     

氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究

本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜（AFM）表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量.用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率.实验及分析结果表明：所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式.     

（1-x）TiO2-xTa2O5薄膜的光学性能研究

TiO2-xTa2O5薄膜是较新颖的光学薄膜,由均匀混合的两种化合物薄膜材料作为膜料研制而成,本文采用离子辅助蒸发的方法,以不同配比的Ta2O5和TiO2混合物为初始膜料在K9玻璃上制备了TiO2-xTa2O5混合薄膜,并对其光学性能进行研究。实验结果表明,TiO2-Ta2O5薄膜在可见光范围内有较高的透射率,消光系数在10-3～10．4数量级,折射率在1．80～2．07范围内变化（550nm）,是理想的光学镀膜材料。随着Ta2O5含量从0增加到20％,光学带隙从3．266eV单调增加到3．417eV,并用Kayanuma提出的模型解释了透射谱中吸收边的漂移现象。     

基于平板夹具的电子束蒸发沉积薄膜中的挖坑效应分析

电阻加热具有比较好的加热均匀性,可以认为对于非升华性材料,具有比较理想的平面源发射特性n=1.而电子束加热时,通常n=2～3,甚至可以为6,发射特性参数的范围大,没有取值指导理论或规律,具有很大的小确定性,这对分析薄膜均匀性非常不利于采用细分蒸发源为无数个小的面蒸发源的思想,建立了镀膜材料出现挖坑效应时薄膜厚度均匀性的分析模型.分析结果表明电子束蒸发方法很难获得理想的平而蒸发源,不同程度的挖坑效应将使得n值不同程度地偏离n=1,挖坑效应越明显,n值越大.可以从镀膜机结构设计及薄膜沉积工艺选取两方而着手,降低挖坑效应带来的影响.该研究对认识燕发源材料发射特性的物理含义具有重要意义,对实验工作同样具有指导性意义.     

球墨铸铁疲劳强度测试及疲劳性能对比

珠光体含量对球墨铸铁的疲劳性能有很大的影响,为此,本文对三种不同珠光体含量的球墨铸铁的疲劳性能进行了研究,测出QT600－3、QT700－2、QT740－3牌号球墨铸铁的疲劳强度,并绘出了各自的S－N曲线,结果表明球墨铸铁的疲劳寿命依赖于珠光体含量,珠光体含量越高,疲劳寿命越高。