渗硼对硬质合金物理力学性能及耐磨性的影响

采用不同的渗硼工艺制备了渗硼厚度不同的YG11硬质合金试样。利用经典方法测定试样的密度、洛氏硬度、抗弯强度、钴磁及矫顽磁力等性能。通过金相显微镜、场发射电子显微镜观察渗硼试样断面的组织结构,采用X射线衍射仪分析渗硼试样断面的相成分。在自制的专用磨损实验机上对比了各组试样的耐磨性能。结果表明:YG11硬质合金通过气-固相渗硼处理后,断面组织可分为渗硼层、过渡层和基体3个部分。渗硼层出现了新的硬质相W2C、CoW2B2、CoW3B3等,WC晶粒细化,钴相因渗硼得到了强化。合金的耐磨参数比未渗硼时提高了14%～30%。经渗硼后硬质合金抗弯强度下降,但韧性略有提高。     

基于低秩空间的低复杂度干扰对齐算法研究

低秩空间的干扰对齐算法对无线通信网络的干扰抑制效果较好,但因其高复杂度而难以得到广泛应用。针对该算法高复杂度的缺点,提出对干扰系统内所有IA收发滤波并行处理的优化算法,并通过拉格朗日条件极值得到该算法的理论容量上界,最后进行算例仿真对比。结果表明,该优化算法能够在保证网络容量的条件下,降低算法的复杂度。     

土壤中农药结合残留的形成机理及其生态意义

土壤中农药结合残留的形成及其对生态环境的影响日益受到重视。文章综述了土壤中农药结合残留的形成机理，包括农药与土壤有机物、矿物质的相互作用以及结合残留形成的影响因素；农药结合残留的生态环境意义：农药结合残留的生物有效性，主要是土壤相关的动物、植物和微生物的有效性；最后对该领域的深入研究提出建议。     

氯化树脂含氯量测定方法的比较试验

氯化树脂如氯化聚丙烯、氯化聚乙烯、过氯乙烯等，其含氯量的多少与其性能、应用密切相关。准确测定氯含量对它们的生产、应用都是很重要的。有机化合物氯含量的测定有多种方法，如卡里乌斯封管法、过氧化钠弹简法、接触燃烧法、金属纳还原法、氧瓶燃烧法、碱熔法等。前面三种方法装置比较复杂，操作繁复，有的危险性还较大。我们根据含氯树脂的特性，选择了后三种方法，适当地做些更改，进行测氯的比较试验。1实验团分1．1方法原理氧瓶燃烧法、钠还原法及碱熔法等测定氯含量的方法，基本原理是相似的，都是使有机氯变成氨离子，再测定氯离…     

两种测定肥料中氯离子方法的比较

用全自动电位滴定法与佛尔哈德法对复混肥料、掺混肥料、有机-无机复混肥料、水溶肥料、氯化钾等样品中氯离子含量进行测定比较。比较结果显示,全自动电位滴定法测定氯离子比佛尔哈德法所需要配制的化学试剂数量和种类少,且不受溶液颜色干扰,检测范围广,比佛尔哈德法更加快速、准确、简便。在大批量样品测试中,全自动电位滴定法更具有方便、快捷的优势。     

基于3G技术的高职电子技术教学

智能手机和3G网络成为通信发展的必然趋势,本文结合智能手机的特点,通过举例,分析了在电子技术教学中,智能手机所发挥的作用。     

氮气气氛下烧结WC-VC-Co硬质合金

<正>南非纳尔逊·曼德拉城市大学的N.G.Hashe等将添加大量VC的WC-Co基硬质合金在1bar的氮气气氛中进行烧结,制备出WC-(W,V)(C,N)-Co材料。利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪     

片晶增韧硬质合金研究进展

本文分析总结了国内外在片晶硬质合金方面的研究成果。片晶WC的形成主要有两种方式,溶解-析出（再结晶）和通过在各种化学介质中片晶WC成核并长大。高度取向片状WC的制备是W颗粒尽可能被压成片状后,与石墨反应转化为高度取向的片状复式碳化物（CoxWyCz）聚集颗粒,再转化为片状WC。混乱取向的片状WC硬质合金可通过使用CoxWyCz＋C混合粉末进行制备。片晶WC硬质合金通过区域性微裂纹、裂纹偏转、裂纹分枝、裂纹龟裂及裂纹桥接等方式阻碍了裂纹进一步扩展,提高了合金断裂韧性。片晶硬质合金具有更为优异的室温力学性能和高温力学性能,在切削应用研究中也表现出了优异的耐磨性和抗崩刃性。但是,目前片晶硬质合金的生产工艺存在着碳含量难以控制以及烧结温度过高等的问题,限制了其产业化生产及应用领域。     

ZAO基底水热法制备ZnO纳米阵列及其形貌特征

采用水热法,在ZAO透明导电薄膜衬底上制备了不同形貌的ZnO纳米阵列.用SEM、紫外可见光分光光度计、四探针测试仪等测试手段对ZnO纳米阵列的形貌结构和物理特性进行了表征和测试.结果表明,不添加任何催化剂,0.075 M的乙酸锌水溶液中,90℃水温时可生长出形状规则的氧化锌纳米棒;相同的温度下,等摩尔浓度(0.05 M)的乙酸锌和六亚甲基四胺水溶液中,可生长出氧化锌纳米片阵列.光电性能测试表明所制备的ZAO/氧化锌纳米阵列具有良好的光透过性和导电性.     

直流磁控溅射ZnO：Al薄膜过程中氧气浓度的研究

采用直流磁控溅射的方法制备ZnO:Al(ZAO)透明导电薄膜,研究了氧气浓度对ZAO薄膜的结构、光电性质的影响。实验表明适当的氧气浓度是制备优质ZAO透明导电薄膜的关键。本实验条件下制备的ZAO薄膜最低电阻率为3.67×10-4Ω.cm,可见光部分透过率高于90%。