TiCl_4水解法制备TiO_2纳米颗粒包覆Ag纳米线阵列结构

采用水热法制备了TiO2纳米颗粒包覆Ag纳米线阵列结构。通过选区电子衍射手段确定了TiO2包覆层的晶体结构为锐钛矿。研究了TiCl4溶液浓度和温度对TiO2/Ag包覆结构形貌的影响,结果显示0.1 mol/L的TiCl4溶液能够得到连续均匀的TiO2包覆层,当TiCl4溶液浓度高于0.1mol/L时,水解产生的HCl在水热环境下会对Ag纳米线造成不同程度的腐蚀。80℃条件下能够得到较为均匀的TiO2包覆层和较高的结晶度;温度过低时,TiO2包覆层的结晶不明显,温度过高时,水解产生的HCl会对Ag纳米线产生腐蚀。     

添加Cu-Nd的Mg_2Ni型纳米晶和非晶合金的吸氢动力学性能(英文)

采用快淬方法制备添加Cu及Nd元素的具有纳米晶和非晶结构的(Mg24Ni10Cu2)100-x Nd x(x=0,5,10,15,20)合金。用X射线衍射(XRD)和高分辨率投射电镜(HRTEM)分析铸态及快淬态合金的相组成及结构,并研究Nd含量和快淬速率对合金相结构及吸氢性能的影响。结果表明,快淬态无Nd合金为纳米晶结构,而含Nd的快淬态合金则为纳米晶和非晶结构,表明添加Nd促进了合金的非晶形成能力。添加Nd及快淬处理均显著地促进了合金的气态及电化学动力学性能。添加Nd及快淬处理加快了氢原子在合金体内的扩散速率,但是均降低了合金电极表面的电荷传递性能,从而使得合金的高倍率放电性能(HRD)随着Nd含量和快淬速率的增加先上升而后下降。     

添加Cu-Nd的Mg2Ni型纳米晶和非晶合金的吸氢动力学性能（英文）

采用快淬方法制备添加Cu及Nd元素的具有纳米晶和非晶结构的(Mg24Ni10Cu2)100-x Nd x(x=0,5,10,15,20)合金。用X射线衍射(XRD)和高分辨率投射电镜(HRTEM)分析铸态及快淬态合金的相组成及结构,并研究Nd含量和快淬速率对合金相结构及吸氢性能的影响。结果表明,快淬态无Nd合金为纳米晶结构,而含Nd的快淬态合金则为纳米晶和非晶结构,表明添加Nd促进了合金的非晶形成能力。添加Nd及快淬处理均显著地促进了合金的气态及电化学动力学性能。添加Nd及快淬处理加快了氢原子在合金体内的扩散速率,但是均降低了合金电极表面的电荷传递性能,从而使得合金的高倍率放电性能(HRD)随着Nd含量和快淬速率的增加先上升而后下降。     

球磨时间对掺杂Ce(SO4)2的NaAlH4吸放氢性能的影响

采用球磨的方式在NaAlH4中掺入稀土催化剂Ce(SO4)2,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)及PCT(pressure content temperature)测试仪研究了球磨时间对NaAlH4的相结构和吸放氢性能的影响.结果表明,经过不同时间球磨后,掺杂Ce( SO4)2的NaAlH4样品仍由NaAlH4相和Ce(SO4)2相组成,球磨没有改变样品的相组成.但是样品的放氢温度均降低,并在球磨6h时达到最大程度,放氢温度下降了40℃.吸氢后的样品中均存在Al,Na3AlH6和掺杂相Ce(SO4)2,球磨3和6h的样品还存在NaAl4相,说明第二步吸氢反应的程度较大.球磨6h的样品的吸氢性能最好,吸氢量达到3.598％(质量分数).球磨时间越长,颗粒越细小,颗粒细化是提高样品吸放氢性能的主要原因.但球磨时间过长后,颗粒团聚逐渐严重,吸放氢性能下降.     

CrAlN/VN多层膜调制比对涂层性能的影响

为开发适用于干式切削的既硬又润滑的涂层,采用磁控溅射工艺制备调制周期厚度为20nm的CrAlN/VN多层膜结构涂层,研究不同CrAlN/VN调制比对涂层性能的影响;利用场发式电子探针(FE-EPMA)、掠入射X射线衍射分析仪(GIXRD)、场发式扫描电镜(FE-SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)表征涂层的微观结构和化学组成;利用纳米压痕仪表征涂层的纳米硬度和弹性模量;利用Ball-on-disc磨耗试验仪表征涂层的摩擦因数。结果表明:当CrAlN/VN的调制比为1∶2时,涂层具有最高硬度(21.8GPa);涂层与碳化钨合金的摩擦因数最低为0.26。随着CrAlN/VN调制比的增大或减小,伴随着CrAlN或VN子层厚度减薄,涂层的硬度有增强的趋势;随着VN含量的增加,涂层的摩擦因数略有下降。     

球磨Mg50Ni50＋x wt%Ti（x=0,1,3,5）合金的贮氢性能

为了改善镁基贮氢合金的贮氢性能,在合金中加入不同量的Ti作为催化剂,用机械球磨法制备出Mg50Ni50＋x wt%Ti（x=0,1,3,5）合金粉末。用XRD、SEM分析了合金的微观结构,研究了Ti含量的变化对合金气态吸氢动力学及电化学性能的影响。结果表明：随着Ti含量的增加,合金相中出现了TiNi2相,TiNi2相不利于气态吸氢及电化学贮氢性能,但对合金的容量保持率及高倍率放电性能有很好的促进作用。     

快淬纳米晶/非晶Mg2-xLaxNi (x=0~0.6)合金的电化学贮氢性能

用铸造及快淬工艺制备Mg2Ni型Mg2-xLaxNi(x=0,0.2,0.4,0.6)贮氢合金。用XRD、SEM、HRTEM分析铸态及快淬态合金的微观结构。结果发现,在快淬无La合金中没有出现非晶相,但快淬含La合金显示了以非晶相为主的结构。用DSC研究快淬合金的热稳定性,表明La的含量及快淬对非晶相的晶化温度影响很小。电化学测试结果表明,铸态合金的放电容量随La含量的增加而增加,快淬态合金的放电容量随La含量的变化有极大值。La替代Mg显著地提高了铸态及快淬态合金的循环稳定性。     

Co替代Ni对快淬Mg2Ni型合金结构及电化学贮氢性能的影响

为了改善Mg2Ni型贮氢合金的电化学贮氢性能,以Co部分替代合金中的Ni,用快淬工艺制备Mg2Ni型Mg2Ni1-xCox(x=0,0.1,0.2,0.3,0.4)合金,获得长度连续、厚度约为30μm、宽度约为25 mm的快淬合金薄带。并用XRD、SEM、HRTEM分析快淬态合金薄带的微观结构;用DSC研究快淬薄带的热稳定性;用程控电池测试仪测定合金薄带的电化学贮氢性能;探索Co替代Ni对快淬Mg2Ni型合金结构及电化学贮氢性能的影响。结果表明:在快淬无Co合金中没有发现非晶相,但快淬含Co合金中存在明显的非晶结构,证明Co替代Ni提高了Mg2Ni型合金的非晶形成能力。Co替代Ni使快淬态合金的热稳定性略有提高,显著地改善了合金的电化学贮氢性能,包括放电容量、电化学循环稳定性以及高倍率放电性能,这主要归因于Co替代Ni导致结构的变化以及非晶形成能力的提高。     

FeCoV/Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-PbTiO_3/Ni薄膜复合结构的磁电效应

为了适应器件的小型化、提高薄膜两相复合磁电材料的磁电效应,采用磁控溅射方法在Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3(PMN-PT)衬底上生长FeCoV薄膜和Ni薄膜,形成FeCoV/PMN-PT/Ni薄膜复合结构。采用动态磁电系数测量系统对复合结构的磁电性能和共振频率进行了研究。结果表明:复合结构的磁电系数随直流偏置场的增加呈现先增加后减小的趋势,在约39.8kA/m附近达到峰值17.8×10-3 mV·cm-1·A·m-1,在31.84kA/m的直流偏置场下,磁电电压随着交流激励场强度的增加呈线性增加。复合结构在85.5kHz下具有一个明显的共振峰,在共振频率下,磁电性能提高5倍以上。     

热处理对Co-Cr-Ta合金靶材磁性能的影响

基于磁控溅射磁性薄膜存在铁磁性靶材难以正常溅射的问题,本文从改善靶材的制备工艺,提高靶材表面漏磁率出发,结合Co-Cr-Ta合金的差示扫描量热法曲线,采用不同的热处理制度对Co-Cr-Ta合金进行了热处理,并测定了不同热处理制度下Co-Cr-Ta合金的相结构、织构和靶材表面的漏磁率,发现热处理后,Co-Cr-Ta合金的主相由面心立方的Co相转变为密排六方的Co相,形成c轴趋于平行轧制面的{1 2 10}和{10 10}线织构,靶材表面的漏磁率增大5倍,并且漏磁率随热处理保温时间的延长而增大,得出了最佳热处理保温时间。Co-Cr-Ta合金经过热处理后,发生相变并形成{1 2 10}和{10 10}的线织构,是漏磁率增高的根本原因。