基于双共焦传感器的薄膜厚度测量技术

研究了基于双共焦传感器的薄膜厚度测量技术,搭建实际系统对自支撑Au、Mo膜进行测量。结果表明,该系统有效消除了薄膜翘曲、不完全展平的影响,测量精度达到干涉仪水平。     

用于氢同位素纯化的Pd-Zr选择渗氢复合膜

为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(zr)被选作复合膜的基体。在真空度为3.0×10-7Pa下,采用离子轰击刻蚀去除其表面氧化层,实验发现在其表面上仍有少量氧化锆的存在。在真空度为6.6×10-6Pa下,采用离子溅射镀膜法,在锆片直径为50 mm、厚度为0.23 mm的双表面上分别镀上了一层厚约400 nm的钯薄膜。采用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对锆表面及复合膜表面进行了分析。渗氢实验显示这种复合膜的渗氢系数φ为9.917×10-8mol/m·s·Pa1/2(温度623 K,高压侧0.2 MPa,低压侧0.1 MPa),是相同条件下的商用钯银合金膜的6.8倍。研究结果表明,这种Pd-zr选择渗氢复合膜对核燃料和聚变燃料的纯化及反应堆增殖剂中氚的提取具有很大的应用前景。     

沉积条件对氢化锂薄膜形貌和沉积速率的影响

为了研究沉积条件对氢化锂薄膜沉积速率和表面形貌的影响,采用脉冲激光沉积方法在Si(100)基片上沉积了氢化锂薄膜.通过改变靶基距和氢压等手段来控制薄膜的沉积速率,得到了氢压与沉积速率和薄膜表面质量的关系.结果表明,随着氢压和靶基距的增加,氢化锂薄膜的沉积速率逐渐下降;适当增加氢压可以降低氢化锂薄膜的表面粗糙度.从薄膜生...     

脉冲激光能量密度对Mo薄膜生长的影响

用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用。原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2 nm。X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大。     

氢化锂薄膜的应用研究

阐述了氢化锂薄膜在惯性约束聚变中的应用背景,介绍了多层膜间隔层和惯性约束聚变中靶丸燃料的研究现状及存在的问题,展望了利用脉冲激光沉积技术制备氢化锂薄膜用作多层膜间隔层和靶丸燃料的发展方向。     

磁控溅射制备纳米厚度连续金膜

研究了磁控溅射工艺参数对Au膜生长速率、表面粗糙度和微观结构的影响。结果表明:当溅射功率低于200W时,溅射功率对薄膜表面粗糙度、微观结构的影响不明显。标定了溅射功率为20W条件下的Au膜生长速率,观察了Au的生长过程,在Si基底沉积的Au为岛状(Volver-Weber)生长模式,Au膜厚度为8nm时,薄膜开始连续。晶粒尺寸与薄膜厚度的关系研究结果表明:在生长初期,晶粒尺寸随厚度线性增大;随后,晶粒尺寸增速变缓,直至停滞;趋于70nm时,新晶粒形成取代晶粒长大。     

气体同位素分离流程的质谱在线监测

仪器特点 所用仪器为南京分析仪器厂八九年出厂的SZ-001型四极质谱计,出厂技术指标见表1。     

玻璃纤维膜过滤特性研究

为将过滤器更好地应用于放射性气溶胶的清除,本工作利用邻苯二甲酸二辛酯（DOP）气溶胶团粒,对常用于制造过滤器的玻璃纤维膜进行了过滤特性研究。研究结果表明用玻璃纤维膜过滤清除气溶胶团粒时,对粒径在0.15～0.20μm之间的团粒较难清除;透过率随流速的增加而增加;单分散气溶胶团粒浓度变化对过滤效率的影响可忽略不计;多级过滤时,各单级过滤效率差异受多分散气溶胶的影响较大。     

浆料涂敷-化学镀技术在微孔陶瓷表面沉积钯银合金膜

采用浆料涂敷法和化学镀技术分别研究３了微孔陶瓷载体表面钯银合金膜的制备技术,采用浆料涂敷法,将钯盐和银盐铵一定比例加入到一定配方的粘稠有机沉吟液中,形成涂敷浆料,然后采用刷涂法将涂敷浆料涂敷在多孔陶瓷载体的一个表面,干燥后经高温处理,可得到微孔钯雏事金膜,为了得到致密、光洁的钯银合金膜,采用化学镀进一步沉积,最终得到光洁度较高、厚度约为３μｍ、雏含量为２３％（质量分数、合金化较完全的钯银合金膜,浆     

常用间隔层材料软X射线多层膜的设计

为了研究常用间隔层材料的软X射线多层膜的材料设计,利用Lawrence-Livermore国家实验室提供的软X射线多层膜设计程序进行模拟计算,得到了软X射线波段内的具有高反射率的膜系。结果表明,Mo在相当大的波段范围内具有良好的光学特性;除了在12.44nm是首选膜系外(除4.36nm外),其它波长都有较高的反射率;U作为吸收层材料,在相当大的波段范围内,与其它间隔层材料配对的多层膜也具有较高的反射率。这对多层膜膜系的材料选择有一定的指导意义。