高级语言在叶片工艺中的应用

主要讨论由无数控坐标点组成的型线，运用三次条插值的计算方法，使用高级语言（如Ｃ，ＱＢＡＳＩＣ，ＦＯＲＴＲＡＮ）编写的计算机程序，用以快速而准确地获取所需要的数据及信息，以提高工艺质量，缩短工艺准备的周期。     

乐果中毒合并低钾血症1例报道

对有机磷农药中毒患者,我们采取综合治疗方法,提示早期应用复能剂对乐果中毒可能有效。     

谈酸度计的使用与检修

介绍了酸度计的使用规则以及检修方法。     

石灰石-石膏法废水对氨法脱硫硫酸铵结晶影响

为充分发挥氨法脱硫系统自身优势,避免石灰石-石膏法废水外排造成污染环境,文中采用一期氨法脱硫预洗塔母液和料液槽母液作为溶剂,二期石灰石-石膏法各类脱硫废水作为溶质,深入研究添加各类废水对硫酸铵结晶及其晶体影响。研究表明：向一期预洗塔、料液槽硫酸铵母液中添加二期各类石灰石-石膏法废水,均可使硫酸铵结晶量明显增加,尤其添加脱硫塔浆液;添加各类废水后预洗塔母液结晶的硫酸铵晶体平均粒径均比未添加废水的晶体大,添加各类废水40.0 mL之后料液槽母液的硫酸铵结晶量增加缓慢;晶体形貌主要受不同废水元素所致。100.0 mL预洗塔硫酸铵母液较优的脱硫塔浆液添加体积为40.0 mL,100.0 mL料液槽硫酸铵母液较优的脱硫塔浆液添加体积为50.0 mL。相关研究成果可为烧结烟气石灰石-石膏法废水循环利用提供新思路。     

BP神经网络在工程量清单中快速估价的应用研究

应用BP神经网络算法对工程量清单的分项工程价格进行快速估算．为分项工程单方造价提供新的计算方法和理论。本文采集了十三个防水分项工程的分包价格作为BP神经网络训练样本数据．对其单价进行预测。通过比较预测值与期望值．验证BP神经网络方法可以作为预测工程量清单单价的方法。     

干扰床分选机分选粗煤泥的规律研究

介绍了干扰床分选机的工作原理,在比较了各种粗煤泥自由沉降速度计算方法的基础上,提出了适用于粗煤泥自由沉降速度的计算公式。筹建了试验室干扰床分选机试验系统,并对新汶矿业集团汶南煤矿不同粒度级别的粗煤泥进行了干扰床分选试验,探讨了干扰床分选机分选粗煤泥的一般规律。     

气煤对配合煤炼制焦炭质量影响规律的研究

为了研究气煤在配煤炼焦过程中对配合煤炼制焦炭质量的影响规律,本文选取了不同变质程度的炼焦煤作为研究对象,对试验煤样进行配煤炼焦试验。研究结果表明,配入气煤后焦炭的冷强度和热态性能变差,气煤与不同煤种煤配煤时对配合煤焦炭质量的劣化程度不同,1/3焦煤和焦煤随着气煤配入量的增加使得焦炭质量均匀劣化,肥煤在气煤配入量小于30%时焦炭质量变化较小,配入量大于30%后焦炭质量明显变差。     

下分层采煤工作面回撤期间自然发火防治技术

为治理下分层采煤工作面回撤过程中由于遗煤二次氧化、漏风等问题导致的工作面自然发火,以北马坊煤矿2134下分层采煤工作面为研究对象,分析其回撤期间CO浓度异常的原因是2114上分层工作面采空区遗煤氧化升温,发生CO涌出。通过采取工作面正压通风、上分层采空区注浆、架后钻孔注高分子胶体防灭火材料等综合防灭火技术,抑制了自然氧化升温过程的发展,使CO体积分数下降至100×10-6以下,并保持稳定。     

中小型起重机生产企业如何进行质量体系认证

近年来,在国际贸易和国内大多数项目招标中,越来越多的用户要求供方提供第三方认证机构颁发的质量体系认证证书,并以此作为签订合同的前提条件。因此,通过质量体系认证,获得质量体系认证证书,已成为企业的当务之急。本文就如何进行质量体系认证的准备工作作一介绍,...     

Study on deposition of Al2O3 films by plasma-assisted atomic layer with different plasma sources

In this paper,A12O3 thin films are deposited on a hydrogen-terminated Si substrate by using two home-built electron cyclotron resonance (ECR) and magnetic field enhanced radio frequency plasma-assisted atomic layer deposition (PA-ALD) devices with Al(CH3)3 (trimethylaluminum,TMA) and oxygen plasma used as precursor and oxidant,respectively.The thickness,chemical composition,surface morphology and group reactions are characterized by in situ spectroscopic ellipsometer,x-ray photoelectric spectroscopy,atomic force microscopy,scanning electron microscopy,a high-resolution transmission electron microscope and in situ mass spectrometry (MS),respectively.We obtain that both ECR PA-ALD and the magnetic field enhanced PA-ALD can deposit thin films with high density,high purity,and uniformity at a high deposition rate.MS analysis reveals that the A12O3 deposition reactions are not simple reactions between TMA and oxygen plasma to produce alumina,water and carbon dioxide.In fact,acetylene,carbon monoxide and some other by-products also appear in the exhaustion gas.In addition,the presence of bias voltage has a certain effect on the deposition rate and surface morphology of films,which may be attributed to the presence of bias voltage controlling the plasma energy and density.We conclude that both plasma sources have a different deposition mechanism,which is much more complicated than expected.