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11.
近期、芯片制造工艺发展到了纳米时代(栅极宽度<100nm),IM E C发起并联合了全球七家主要半导体芯片制造商和几乎所有主要设备制造商,在刚建立起来的φ300m m硅片尺寸工艺中试线上,共同展开了45nm和32nm的芯片制造工艺的研究工作。虽然芯片封装技术也在快速发展,但其速度赶不上芯片制造工艺的迅猛发展。在先进的芯片制造技术和最新的PCB技术之间所谓的“互连技术壕沟”在不断扩大。而且,不断增加的工作频率,以及由于集成电路复杂程度提高而导致I O管脚的增加,都要求封装技术产生重大的技术变革,以保证在将纳米级的芯片与毫米级的系统相连… 相似文献
12.
1.引言 位于比利时鲁汶Leuven)的IMEC,作为欧洲最大的独立的微电子研发中心,在微电子工艺研究方面已确立了其国际领先的地位,在国内也已为产业界所熟悉. 相似文献
13.
14.
一种适用于无线多媒体传感器网络的节点不相交多路径路由协议 总被引:1,自引:0,他引:1
设计了一种适用于无线多媒体传感器网络的高效节点不相交多路径路由协议.以源路由的方式建立多路径,中间节点通过有选择的转发RREQs,降低路由建立开销.将链路质量量化为数据接收率,利用数据接收率、节点能量及路径跳数等,定义了路径效率模型,将路径效率模型引入到路由建立过程中.仿真结果表明,与SMR及TinyONDMR协议相比,新协议建立路由的开销更低,所建路径上节点能量分布更理想,进行数据传输时的能量效率更高,同时不会显著增加路径的传输时延. 相似文献
15.
16.
热处理炉温控制的好坏将直接影响到热处理产品的质量。在管式热处理炉设备的改造中,设计了一套基于STM32的炉温控制系统。系统采用STM32F103C8T6微处理器为下位机、中达优控触摸屏为上位机、K型热电偶温度传感器和Max31855温度转换模块。上位机负责设定温度、显示温度、显示温控曲线。下位机根据设定的温度利用增量式PID控制算法对炉温进行控制。实验结果表明,热处理炉温稳定在设定温度(800±1)℃,上位机触摸屏可精确地显示温度值与温控曲线变化趋势。整套控制系统满足管式热处理炉温的控制要求。 相似文献
17.
修井作业是油田生产的重要组成部分,油田经过一定时间的开发后,油水井会出现故障的状态,需要通过油水井的维修或者大修的技术措施,才能恢复井筒的正常运行状态,满足油田开采的技术要求。设法提高修井作业施工的质量,保证油田生产的顺利实施,达到预期的油田采收率,是非常必要的。 相似文献
18.
19.
20.
运用高温固相法合成掺铈的氮化物荧光粉La3Si6N11∶Ce3+。采用X射线衍射仪、能谱仪、荧光光谱仪对合成样品的结构、发光性能等进行研究,利用Rietveld方法对其结构精修,并计算了La3Si6N11∶Ce3+的色坐标、色纯度和色温。结果表明:该荧光粉的色坐标为(0.4165,0.558),落在黄绿光区域,计算得到La2.82Si6N11∶Ce0.183+的色纯度约为92.86%,具有较高的纯度,相关色温为4137K,属于中间色温。通过计算可得掺杂后La3Si6N11∶Ce3+的带隙值为2.92eV,相对掺杂前略微减少,且La3Si6N11∶Ce 相似文献