磁控溅射制备非晶态WO_3薄膜的光催化性能

采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验,研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射(XRD)分析表明:所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明:紫外光照3h后,薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后,薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上,7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20%恢复至81%。     

建立材料类专业创新型人才培养机制思考

通过课程体系的优化,把培养学生的科学素养与解决工程问题的能力在培养方案中有机地结合起来;建立严格的教学质量监督保证体系;建立材料类专业创新人才实践平台,使学生能得到创新思维的训练;建立一个以学生为本的教学评价制度,激发学生的学习热情,培养学生的创新精神和创新思维。     

纳米SiO2包覆硅灰石粉填充改生聚丙烯的研究

通过实验制得纳米SiO2包覆硅灰石粉，然后采用偶联剂进行表面处理。通过对聚丙烯（PP）的填充改性，将这一新型无机复合粉体与同样经偶联剂表面处理的传统的单一硅灰石矿物粉体填料进行了比较。结果表明，纳米SiO2包覆硅灰石，填充改性聚丙烯，可同时达到增强、增韬的目的；且可大大提高填充量，从而降低产品成本。同时，从两相结合界面的结构形貌出发，解释纳米SiO2包覆硅灰石粉在基体树脂聚丙烯中填充改性的作用机理。     

磁控溅射沉积透明导电薄膜的结构及光电特性研究

采用射频磁控溅射工艺、以氧化锌铝陶瓷靶为靶材制备透明导电ZAO薄膜 ,系统研究了各工艺参数 ,如工作气压、温度、射频功率和退火条件对其结构和光电特性的影响。在纯氩气中且补底温度为 30 0℃时制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率降至 8 7× 1 0 -4Ωcm ,可见光透过率在 85 %以上。X射线衍射谱扫描电镜照片表明ZAO晶粒具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向 ,晶粒垂直于衬底方向柱状生长。     

工艺参数对磁控溅射TaOx薄膜离子导体性能的影响

采用射频反应磁控溅射工艺,以纯钽为靶材,在WO3/ITO/Glass基材上制备TaOx薄膜,研究氧含量、溅射功率等制备工艺参数对TaOx薄膜性能的影响.用三位电极法和透射光谱等方法检测薄膜的离子导电性能,结果表明:所得的TaOx薄膜主要为非晶态,在一定范围内,在较低的溅射功率和较低的氧含量实验条件下制备的TaOx薄膜具有较好的离子导电性能.     

纳米科技在内外墙涂料中的应用

主要针对纳米科技的一个分支———纳米材料的主要特性以及这些特性赋予内外墙涂料的某些特殊性能做了阐述 ,同时分析了纳米材料给涂料带来的负面影响。在此基础上提出了纳米材料在内外墙涂料中应用的主要技术关键     

非晶态TiO2-Ag薄膜的光催化性能研究

采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了非晶态的TiO2-Ag薄膜,用XRD、XPS、STS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜的晶体结构、表面成分、电子结构和薄膜厚度进行了测试分析.试验和测试结果表明,薄膜呈非晶态,在薄膜表面存在单质Ag,其与Ti的原子浓度比为1.8:1.STS测试得到薄膜的禁带宽度为1.8eV.对10mg/L的亚甲基蓝溶液光催化脱色实验表明,随着薄膜厚度的增加,光催化脱色率递增,当厚度达360nm时,薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2h达90%以上,当厚度＞360nm时,光催化脱色率不再增加;对2mg/L罗丹明B溶液光催化脱色实验表明,其脱色率对薄膜厚度的增加不敏感,薄膜对罗丹明B的脱色率在3h内达到88.7%.     

超细CaCO3对硫铝酸盐水泥性能的影响

研究了超细CaCO3对硫铝酸盐水泥性能的影响情况。结果表明,超细CaCO3缩短了水泥的凝结时间,且其掺量在3%左右时,不仅改善了浆体的流变性能,而且大大提高了水泥的抗压强度。此外,探讨了高温养护条件下掺超细CaCO3水泥浆体的强度发展。