KH550-TiO2@ODA-GO对有机硅-环氧树脂防腐蚀及抑菌性能的影响

目前,有关氧化石墨烯(GO)、十八烷基胺(ODA)和纳米SiO2复合后对材料防腐蚀、抑菌性能的影响研究较少.先后采用十八烷基胺(ODA)及硅烷偶联剂(KH550)改性后的纳米TiO2分别对氧化石墨烯(GO)进行共价改性得到KH550-TiO2@ODA-GO,通过XRD、FTIR、FE-SEM等表征方法研究了该复合材料的...     

烘烤硬化对Nb-Ti微合金钢晶界处微量元素偏析的影响

探究了烘烤硬化钢(HC180B)烘烤硬化过程析出行为对力学性能的影响。利用光学显微镜(OM)、透射电镜(TEM)和三维原子探针(3DAP)研究了位错、析出物以及C、N等原子在晶界处的偏析行为。结果表明,2%预拉伸形变及其烘烤后的屈服强度相比冷轧退火板分别提高了2 MPa及73 MPa。3DAP及TEM表明,退火冷轧板中仅有C原子在晶界处轻微偏聚,N、Ti和Nb均匀分布在晶粒中;而2%预拉伸形变后,C、Ti和Nb在晶界处有不同程度的偏聚现象,根据二者吉布斯自由能和晶界处原子浓度差异得出,TiC多呈矩形状在晶界处优先大量析出,NbC微量析出;2%预拉伸形变烘烤后,C、Ti和Nb在晶界处偏聚更明显,NbC呈椭球形在晶界处大量析出,TiC微量析出,不同状态下的N原子分布都较为均匀,而Ti、Nb碳化物则以复合析出的形式出现。     

单片机在自动吸附秤中的应用

介绍一种单片机控制的自动吸附秤。给出了单片机控制器的原理、结构及其功能。     

降解木素酶和降解木聚糖酶的生物漂白及机理

应用实验室选育出的降解木素和降解木聚糖菌株产生的酶液对桉木（Eucalyptus）硫酸盐浆进行生物漂白。酶处理的结果显示，酶降低纸浆的卡伯值，提高白度，而对粘度降低较少。GC和FTIR分析表明，经酶处理后，纸浆中的发色基团和助色基团减少，阿拉伯糖和木糖含量降低，桉木KP浆本素碳水化合物复合物（LCC）的木素-阿拉伯糖基及木素-木糖基结合键断裂，并活化木素分子的芳香环结构，促进木素的溶出，提高了纸浆的白度和可漂性。     

基于衍射/反射光束整形系统的高密度泵浦源

利用二元光学元件微型化和对波面进行任意整形的特点,将二元光学衍射器件用于高功率激光二极管阵列光束的快、慢轴准直,并结合空心导管设计一种衍射/反射混合型光束整形系统,用于实现高密度、高均匀性LD泵浦源.应用时域有限差分法(FDTD)的严格矢量分析表明:所设计的二元光学准直器性能优良,准直后光束发散角在误差范围内接近衍射极限,慢轴方向衍射效率为82.21%,快轴方向为75.76%.模拟设计的结果表明:采用这种衍射/反射光束整形技术的高密度泵浦源能获得高功率密度和高均匀性的抽运光束,在空心导管出射端面附近光强起伏RMS<1%,并且在光束的准直性能和系统紧凑性方面优于传统整形方法.     

端面抽运板条放大器抽运均匀性和热效应模拟

为了使激光二极管抽运的全固态激光器能够得到高光束质量、高功率的激光输出,对激光介质的温度分布和热透镜效应的研究很重要。利用ZEMAX软件的非序列模块,根据光束追迹的方法模拟了端面抽运结构下,高功率二极管抽运激光放大器的抽运光在增益介质中的光场分布情况。结果表明,此抽运方式下光场分布均匀。将激光介质中吸收的抽运光体功率密度分布结果代入LAS-CAD软件,计算出在种子光未注入和注入情况下,抽运功率为2400W时,增益介质最大温差分别为68℃,54.7℃以及最大热应力分别为90N/mm2,67N/mm2,因此当抽运功率小于2400W,运转的全过程对于激光增益介质是没有威胁的。该模拟结果对于高功率二极管抽运板条激光放大器的设计具有一定参考价值。     

一种5阶1位∑-△调制器的设计

提出了一种稳定的5阶∑-△调制器的设计与调试方法.电路采用5阶级联结构,主要用CMOS开关电容技术实现,文章重点放在调制器结构的设计及几种防止系统发散和改进性能的途径上.模拟实验表明,经过改进的系统有较好的性能.     

MTBE催化剂失活原因分析及对策

国内MTBE装置大多由于催化剂中毒失活,其运行周期往往不能与全厂的生产周期同步,对全厂生产造成一定影响。本文结合MTBE装置实际运行情况,分析确认了醚化催化剂失活的主要原因,并采取相应的处理措施,取得了良好效果。     

偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响

采用双靶非反应磁控溅射,通过改变基底偏压,制备了一系列Ni掺杂TiB2基的涂层.通过X射线能谱仪确定其成分,利用X射线衍射、扫描电镜对涂层的结构进行分析,并通过纳米压痕、维氏压痕、划痕以及摩擦磨损分别对涂层的硬度、模量、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学性能进行了表征.结果表明:此工艺下制备的TiB2-Ni涂层中均存在六方相的TiB2结构,并且生长结构非常致密,无明显的柱状生长结构,表面粗糙度低;硬度均大于40 GPa;涂层均具有较好的断裂韧性;且随着偏压增大断裂韧性和结合力都有所提高;同时所制备涂层摩擦系数均在0.5～0.6,磨损率在同一数量级.