低碳钢冷脆特性参量——临界缺口(裂缝)尺寸的研究

本文研究了缺口尺寸对低碳钢低温断裂行为的影响,分析了断裂载荷谷值所对应的温度T_C~*(称为冷脆特征温度)附近的断裂特征,结合工程设计特点,提出了冷脆临界缺口(裂缝)尺寸α_C及其特征值α_C~*的概念,推荐作为控制冷脆的一个基本特性参量。文中推导出了α_C及α_C~*的数学表达式,该式的可行性得到了静载及疲劳载荷条件下模拟试验数据的验证。     

Synthesis and Characterization of Heteropoly Complexes of Indium with Metal－centred Undecatungstate Ligan

ＳｙｎｔｈｅｓｉｓａｎｄＣｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎｏｆＨｅｔｅｒｏｐｏｌｙＣｏｍｐｌｅｘｅｓｏｆＩｎｄｉｕｍｗｉｔｈＭｅｔａｌ－ｃｅｎｔｒｅｄＵｎｄｅｃａｔｕｎｇｓｔａｔｅＬｉｇａｎｄｓＷｕＱｉｎｇｙｉｎ（吴庆银）（ＬｉａｏｎｉｎｇＵｎｉｖｅｒ...     

基于曲率驱动机制的晶粒生长元胞自动机模型

结合晶粒生长的统计分忻理论和概率性转变觇则，建立了基于曲率驱动机制的晶粒正常生长的二维元胞自动模型，该模型的一个显著特点是晶粒生长速率和晶界曲率(1／RC-1／R)之间满足线性关系，而传统的元胞自动机模型则难以满足这种线性关系模拟结果比较全面地反映了等温条件下晶粒正常生长的各种现象：平均晶粒面积与时间的关系，晶粒尺寸、晶粒边数的分布规律及其时间不变性，晶粒边数与尺寸的关系，以及晶粒生长速率与晶粒尺寸和曲率的关系等．模拟结果与晶粒生长的动力学理论预测相符合。     

全光亮镍磷合金镀层的耐蚀性

采用个性盐雾实验、浸泡实验和阳极极化曲线测试了全光亮镍磷合金镀层耐蚀性.盐雾实验表明：磷含量为128mass%～153mass％的镀层耐蚀性能最好，磷合量提高到201mass％后，耐蚀性下降；热处理温度在200℃以下时，对镀层耐蚀性影响不大，超过300℃以上，镀层耐蚀性明显下降；浸泡实验表明Ni-P合金镀层与1Cr18Ni9Ti相比，在酸性、碱性和氯离子水溶液中耐蚀性能较好，但不耐硝酸、硝酸盐等强氧化性介质的腐蚀；阳极极化曲线测试表明，磷含量为12.8mass％的镀层在10％HCl、5％NaCl、20%NaOH和3.5％FeCl-3溶液中，均表现出了优异的耐蚀性能.磷合量为20.1mass％高磷镀层在20％NaOH中耐蚀性能优异.      

Extraction and separation of Ga(Ⅲ) and T1(Ⅰ) or In(Ⅲ) and T1(Ⅰ) from chloride media with CA-12 in sulphonating kerosene

The extraction behavior and mechanism of gallium(Ⅲ) and thallium(Ⅰ) or indium(Ⅲ) and thallium(Ⅰ) with Sec-octylphenoxy acetic acid (CA-12) from hydrochloric acid solution in sulphonating kerosene were studied. Optimum extraction conditions were evaluated from critical study of various experimental parameters and the probable composition of the extracted species is ascertained from lg D-lg C plots. The effects of different ions on the determination of these ions were examined.     

Nitridation Kinetics of Silicon Monocrystal and Morphology of Nitride Film

Basing on TGA (thermal gravimetric analysis) of thermal nitridation at l200, l250, l300℃, respectively,analysis of high temperature kinetics for nitridation of silicon monocrystal has been carried out. According tothe theory for kinetics of reaction of vapour with solid phase a nitridation kinetic model, from which it can beshown thal the rate of nitridation reaction of silicon crystal should be controlled by three stage limiting factors,was proposed. These limiting factors are chemical reaction, chemical reaction mixed with diffusion and diffu-sion. Using this model to treat our experimental data, satisfactory correlation coefficient and apparentactivation energy of nitridation of p-type (lll) silicon crystal have been obtained. The nitride film was identi'fied to be a-Si_3N_4 (Hexagonal, a=0.7758nm,c_o=0.5623nm) by X-ray diffraction analysis. Morphology ofthe nitride films formed in different nitridation duration was observed in both planar andcross-sectional viewsby SEM (scanning electron microscope).     

铝阳极氧化膜的形态 结构和成分分布的研究

用 TEM、SEM、AES 和 x 射线衍射技术研究了铝阳极氧化膜的形态、结构和化学成分分布。试验结果表明,在硫酸中形成的阳极氧化膜和在磷酸和草酸中形成的膜一样,也存在着多孔型和壁垒型两种形态,但其临界电流密度较高。铝阳极氧化膜由过剩的铝和 Al_2O_3组成,属非晶态结构,镍盐和锡盐电解着色后非晶态结构和膜中 Al、O 和 S 的分布均无显著改变,而 Sn 和 Ni 则沉积于膜孔底部,但其分布略有不同;着色添加剂的组成物未有明显地进入膜中。     

TiAl ALLOYS PREPARED BY THERMAL EXTRUSION OF ELEMENTAL POWDER MIXTURES

ＴｉＡｌＡＬＬＯＹＳＰＲＥＰＡＲＥＤＢＹＴＨＥＲＭＡＬＥＸＴＲＵＳＩＯＮＯＦＥＬＥＭＥＮＴＡＬＰＯＷＤＥＲＭＩＸＴＵＲＥＳ①ＬｉｕＺｈｉｊｉａｎ，ＱｕＸｕａｎｈｕｉ，ＨｕａｎｇＢａｉｙｕｎＰｏｗｄｅｒＭｅｔａｌｌｕｒｇｙＲｅｓｅａｒｃｈＩｎｓｔｉｔｕ...     

用临界钝化电流法和液晶法检测金属氧化物膜的缺陷率

用临界钝化电流法和液晶法，研究了不锈钢上Ｔａ２Ｏ５，ＺｒＯ２的高频溅射膜的缺陷率，建立了ＣＰＣＤ法中与薄膜有关的电流密度Ｉｆ与膜厚ｄ之间的关系式：Ｉｆ＝ｋ（１－θ）＾ｄ，利用液晶的动态散射模型建立了动态无损伤检测膜缺陷率的新方法，并证明了这两种方法的检测结果有良好的直线关系。     

微重力偏晶合金凝固特征SCIEI

对在微重力条件下获取的Al-In(95wt-%)偏晶合金的显微组织特征进行了分析,结果表明,在空间制取的试样的Al枝晶中,还存在着大量的In质点;并且这些质点的分布具有某种规律性,由此形成了与地基样品显微组织上的明显差异,反映出一种与重力效应相关的材料凝固特性。