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采用延迟破胶技术,在压裂施工过程中加入不同浓度的胶囊破胶剂,利用它的延缓释放特性,使植物胶压裂液耐温、耐剪切稳定性增强,并且可以在不造成压裂液的流变性、滤失性和携砂性等过早丧失的前提下高浓度使用胶囊破胶剂。该技术与常规破胶技术相比,延缓释放率达50%,能更有效地清除液体残渣,减少压裂液对储层的伤害。同时由于有延缓破胶的特性,放喷采用相应的措施,可以降低支撑剂沉降速度,形成较好的沉砂剖面,提供高的裂缝导流能力,并且可以降低滤饼和压裂液残渣的伤害。 相似文献
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用射线法导出了两段式激光器的输出谱公式,分析了外腔式半导体激光器的输出光谱,计算了ECLD被调二极管模式的不同波长处振时的阈值,获得了ECLD模式的波长表达式,讨论了二极管靠近光栅的一面的反射率的波长特性对输出的影响。 相似文献
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窗口系统是人机交互的基本环境,与目前DOS上的窗口系统相比,本文力求突出高效,低开销,具有多任务模拟能力,满足可移植性,实用性和开放性目标,本文首先提出一个基于DOS的多窗口系统WIND的总体设计,采用面向对象技术,讨论了其多窗口管理机制的特征和方法,并设计和实现了该系统相关的基本工具,最后通过编程环境、界面风格和应用实例等进一步介绍该窗口系统的应用接口。 相似文献
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采用多层光刻工艺结合氩离子铣的混合刻蚀方法,刻蚀高Tc超导YBaCuO/ZrO2(100)薄膜图形,取得了较好的结果。在进行氩离子镜的工艺步骤中,使用普通氩离子铣设备(离子束斑极不均匀),但采取了一定的措施─-使被刻样品在刻蚀台座上可移动,模糊地实现了薄膜的相对"大面积"(直径φ≥20mm)均匀刻蚀─-可同时刻蚀2~3片6mm×10mm薄膜,并且被刻蚀部分表面起伏约在10nm左右。图形样品的最小线条达2μm,其Tc、Jc人与刻蚀前薄膜的Tc、Jc相当,即:TC为85~90K,Jc~106A/cm2(在77K下)。 相似文献
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磁性研磨是一种利用磁场中的磁性磨料,对具有相对运动的工件表面进行光整加工的新技术。选择铝、镍、钴磁粉作为磁性磨料时,对奥氏体不锈钢精密薄壁件外表面具有良好的研磨作用。 相似文献