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  1964年   1篇
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排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 9 毫秒
71.
利用UDP协议实现局域网内点到点通信。  相似文献   
72.
以二异氰酸酯(4,4’-二苯甲烷二异氰酸酯MDI;4,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯Hl2MDI),聚醚多元醇(PPG),小分子交联扩链剂,催化剂及助剂合成了一系列耐热聚氨酯树脂材料。用FT-IR表征了结构,用X射线衍射分析了微观结构,用DSC,TGA对其热稳定性进行了分析测试,对力学性能也进行了测试。结果表明,合成的聚氨酯材料具有高耐热性和卓越的力学性能。  相似文献   
73.
高伟  罗建举  李荣册  石世亨  郭玺  卢佩 《包装工程》2013,34(13):66-70,105
通过动态接触角测量、红外光谱分析、表面粗糙度测量、扫描电镜观察和偏相关分析,研究了西南桦木的润湿性能。结果表明,木材经180℃热处理4 h后,润湿性能下降:接触角由40°增至121°,羟基和羰基数量减少,粗糙度降低;处理时间与接触角显著相关;西南桦木用作包装材料,若采用热处理,可去除有害生物,还具备疏水功能。  相似文献   
74.
在分析该矿体二次开采的基础上,特别针对矿体二次开采的安全及充分利用采空区回采进行分析。  相似文献   
75.
有机硅膜分离润滑油中脱蜡溶剂的机理研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用气相色谱法,在348.15~368.15K温度,测定了正己烷、正庚烷、正癸烷、甲苯和丁酮溶剂在有机硅膜中的无限稀释扩散系数,结合Vrentas-Duda自由体积模型计算得到溶剂/有机硅膜体系溶剂有限浓度扩散系数,在理论上预测了不同溶剂在有机硅膜中扩散特性对膜分离性能的影响,在实验和理论两个方面,为进一步研究有机硅膜分离机理打下了基础.  相似文献   
76.
文章分析了学生学习工程制图前的思维习惯,分析了现行教学方法中培养学生空间思维能力的方法和环节的欠缺之处,并提出了加强培养学生空间思维的方法。  相似文献   
77.
钢渗铬层上金刚石薄膜的表面、界面结构及附着性   总被引:1,自引:0,他引:1  
在钢渗铬层表面用化学气相沉积(CVD))法制备了金刚石薄膜.使用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和压痕法研究了金刚石膜的表面、界面结构及附着力.用拉曼光谱分析了金刚石膜的纯度及非金刚石碳相.甲烷含量超过0.6%(体积分数)后,金刚石膜为球形纳米晶,形核密度>107cm-2.用甲烷含量为0.6%(体积分数)沉积的金刚石膜表面的残余压应力为1.22 Gpa,而膜背面的残余压应力更高,达2.61 Gpa.压痕显示在19.6 N载荷下膜发生开裂.TEM观察发现,膜/基界面为微观非平面,有利于提高金刚石膜的附着力.  相似文献   
78.
为了解决用户负荷需求在时间上的变动和传统冷热电联供(Combine Cooling, Heating & Power, CCHP)系统大部分时间处于非设计工况下运行导致系统的能源利用效率较低的问题,提出了一种耦合压缩空气储能系统(Compressed Air Energy Storage system, CAES)和蓄热装置的新型CCHP系统(CAES based CCHP system,CAES CCHP),建立系统的热力学模型,在给定的充、放电工作条件下对CAES CCHP系统的热力学性能进行分析,并对影响该系统性能的CAES压气机压缩比、透平进气口压力、流经CAES的烟气质量流量3个关键参数进行敏感性分析。研究结果表明:CAES CCHP系统能实现冷热电灵活调控,且系统的CAES功转换效率为57.41%,一次能源利用率、一次节能率及火用效率分别为76.22%,24.84%和31.97%,比传统的CCHP系统分别提高10.97%,18.15%和7.58%。  相似文献   
79.
介绍了徐州市丰县D级GPS控制网建设中起算数据的利用、控制网的布设、GPS点位的选取、观测与外业数据的检核、平差计算与精度分析等技术步骤的实施方法和过程。实践表明,通过以上方法和技术过程建立的丰县D级GPS控制网精度良好,满足相应规范要求,对同类地区GPS控制网建设具有一定借鉴意义。  相似文献   
80.
王新  丛凡超  罗明海 《微电子学》2024,54(1):145-148
采用磁控溅射“共溅射”方法,将Ar气作为溅射气体,高纯NiO和MgO双陶瓷靶作为溅射靶材。当控制NiO和MgO靶的溅射功率分别为190 W和580 W,溅射真空度为2 Pa,衬底温度为300℃时,得到了Mg掺杂的NiO(Ni0.61Mg0.39O)薄膜。该薄膜是一种具有(200)择优取向的晶态薄膜。薄膜表面比较平整,晶粒分布致密,晶粒尺寸约46.9 nm。(200)衍射峰位置相对未掺杂的NiO薄膜向小角度偏移约0.2°。合金薄膜在可见光波段具有较大的透过率,而在300 nm附近透过率陡然下降,其光学带隙向高能方向移动到了3.95 eV。该研究为采用磁控溅射制备高质量的Mg掺杂的NiO薄膜提供了技术支撑。  相似文献   
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