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亚硝酸钠刻蚀液对多晶硅表面陷阱坑形貌的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
酸刻蚀多晶硅表面技术是当前太阳能研究的热点之一。利用亚硝酸钠比硝酸钠氧化能力弱的特点,在普通酸刻蚀液中用亚硝酸钠取代硝酸配制多晶硅表面刻蚀液,然后在相同的工艺条件下刻蚀多晶硅表面。实验样品的SEM显示:含有NaNO2酸刻蚀液使多晶硅表面能布满蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度比传统的酸刻蚀的陷阱坑深,而且密度分布比较均匀,样品平均反射率下降到23.5%,与传统配方酸刻蚀液刻蚀的多晶硅表面相比,平均反射率下降了8%左右。 相似文献
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钱岭 《电信工程技术与标准化》2020,(5):1-7
人工智能技术在各个行业的应用均体现出爆发趋势,但是AI技术的性能局限同时约束着相关产品的应用场景。在感知方面,识别算法的准确率无法达到100%,召回率更低;在认知方面,知识难以100%覆盖业务场景,因此如何开展商业化应用就需要精心规划。本文首先介绍几项AI产品研发应用,并总结相关的经验和问题。在此基础上,按照面向任务关键应用(MCA)和非任务关键应用(NMCA)2个维度,针对4个应用类型(决策支持与增强、智能代理、决策自动化、智慧产品),围绕3类商业价值和2类应用假设,分析AI类应用产品的战略规划决策要素,为AI应用领域决策者提供帮助。 相似文献
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基于漂移区表面具有单个P-top层Double RESURF nLDMOS的结构和耐压机理,提出了具有P-top层终端结构的Double RESURF nLDMOS结构,并通过利用SENTAURUS TSUPREM4和DEVICES软件进行优化设计。P-top层终端结构不仅降低了击穿电压对P-top层参数的敏感度,而且在漂移区引入一个附加的电场峰值,使漂移区电场分布进一步趋于平坦化。与传统Single RESURF和普通Double RESURF器件相对比,击穿电压可以分别提高约13.5%和4%,导通电阻却提高了11.8%和6%,但在满足击穿电压相等的条件下,该结构通过控制P-top层的位置和漂移区剂量可以使导通电阻降低约37%。 相似文献
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对半导体制造中员工人数的配置问题进行了研究,提出了操作工人数的长期决策和短期决策两种情况,并用仿真模拟的方法对操作工数量需求进行动态研究,而非传统的静态模型.本文还对目前评价操作工绩效的指标进行了阐述,提出了在制品利用率作为评价指标. 相似文献
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结合人工神经网络和电磁仿真,给出了一种用于综合交指电容及Metal-Insulator-Metal(MIM)电容结构参数的方法。基于逆向神经网络,可有效地根据给定频点上的电容值快速准确地综合出其对应的结构参数,从而避免了反复优化的过程。同时,可以由训练好的神经网络参数得到结构参数相对于等效电容的闭式计算公式。数值结果验证了方法的正确性和有效性。 相似文献