冷喷涂Cu-Cu_2O涂层防污机理研究——溶解氧、盐度对铜渗出率的影响

考察了冷喷涂Cu-Cu2O防污涂层在不同溶解氧及盐度海水中的铜渗出率。实验结果表明:涂层总铜渗出率由两部分组成,分别为铜金属的电化学溶解和氧化亚铜的化学溶解。海水溶解氧的增加,利于铜金属的电化学溶解及涂层总铜渗出率的增大,同时抑制了氧化亚铜的溶解,但这种抑制作用弱于对铜金属的腐蚀促进作用。海水盐度的升高,利于铜金属的电化学溶解,且促进氧化亚铜的溶解,使涂层总铜渗出率增大。随着浸泡时间延长,由于难溶产物的积累,涂层总铜渗出率降低。氧化亚铜的渗出率贡献比随其含量增加、溶解氧降低、盐度增加或浸泡时间延长而增加。     

冷喷涂Cu-Cu_2O涂层防污机理研究——机理讨论

总结了冷喷涂Cu-Cu2O涂层在不同溶解氧、盐度、温度及流速海水中的铜渗出率,继续讨论涂层的防污机理。本文认为铜的腐蚀或氧化亚铜(膜)的溶解,释放出可溶性铜离子或亚铜离子,在其表面形成富含溶解态铜离子或亚铜离子的水层从而毒杀靠近的海生物,这是铜、铜合金以及以氧化亚铜为防污剂的涂料产生防污功效的原因。冷喷涂Cu-Cu2O涂层的铜渗出机制为:铜与氧化亚铜形成腐蚀微电池,其中铜作为阳极,氧化亚铜作为阴极促进铜阳极的溶解。铜的电化学溶解通过增加表面CuCl-2浓度和降低氧化亚铜附近Cl-浓度的方式抑制了氧化亚铜的溶解。由于氧化亚铜颗粒和铜表面的氧化亚铜膜结构不同,后者溶解速率大于前者,整个涂层的减薄过程由铜的腐蚀控制。     

项目教学法在建筑工程测量课程中的应用

“项目教学法”是指学生在教师指导下,通过实施一个完整的项目而进行的教学活动,其目的是在课堂教学中把理论与实践教学有机地结合起来,充分发掘学生的主观能动性和创造潜能,提高学生解决实际问题的综合能力。建筑工程测量课程作为建筑工程技术专业的核心专业课,理论性较强,学生掌握起来难度较大。本文就如何将项目教学法应用于建筑工程测量课,将该课程有机组织起来,充分调动学生的学习主动性,保证学生完成学习内容进行了研究。     

碱激发胶凝材料R/Al控制方法的研究

根据理论研究,提出了有利于碱激发胶凝材料产物结构稳定性的R/Al控制方法。指出碱激发胶凝材料产物中R/Al的控制范围为(Na+K)/Al≤1.0[适用范围为(Ca+Mg)/(Si-Al)<0.8],和(Ca+Mg)/(Si-Na-K)≤1.5[适用范围为(Ca+Mg)/(Si-Al)≥0.8];此值越低,表明产物中的可溶性碱含量越少,产物的结构稳定性越好。根据试验研究,指出碱激发胶凝材料局部产物的R/Al控制指标过高,其产物达到一定数量,会导致胶凝体系28d强度的降低和长期强度的倒缩,甚至可能发生碱集料反应。     

改进石墨烯分散性的物理和化学表面修饰技术研究进展

开发石墨烯防腐涂层的关键是石墨烯的分散技术。本文通过对近年来相关文献的整理,总结了石墨烯在有机涂层中所用到的分散方法。根据石墨烯与分散基团之间的相互作用,可分为物理吸附分散法和化学共价分散法。分散修饰基团主要有无机氧化物、有机小分子和高分子基团。分散修饰基团与树脂之间的相互作用同样包括物理作用和化学共价作用,其中化学共价作用对石墨烯起到了固定作用。这种固定作用,在工艺流程上可通过分步混合反应或一步聚合反应来实现。化学共价分散法效果优于物理吸附分散法,但会造成石墨烯结构的破坏。高效稳定的物理分散方法是石墨烯防腐涂层应用研究的优先方向。     

基于TOA和DOA联合估计的UWB定位方法

对于UWB定位系统而言,利用时间参数估计信号源的位置需要多个参考节点,这样增加了系统的开销。如果参考节点既能估计目标源的时间参数又能估计角度参数,理论上一个参考节点就可以确定目标源的位置。该文提出一种UWB系统TOA(到达时间)和DOA(到达角度)参数联合估计的定位方法,该方法使用矩阵束算法估计出时间参数和角度参数,进而得到目标的相对坐标。该方法通过单个接收机就可以确定目标的位置,减少了定位系统负担。仿真实验证实了该方法估计时延和角度精度较高,而且定位精度能够达到厘米级,是一种简单可行的UWB系统定位方法。     

利用TEQC软件对GNSS连续参考站选址的数据分析

应用TEQC数据理软件,对合肥市GNSS综合服务系统5个拟建站观测资料进行质量分析,从而有效掌控参考站的卫星接收状况,为整个GNSS综合服务系统的顺利建设打下铺垫。     

无机凝胶剂发泡注凝制备泡沫陶瓷的研究

采用常温搅拌发泡、凝胶注凝成形工艺,以磷酸二氢铝作为凝胶剂、以OP-10作为发泡剂,多晶氧化铝纤维作为增强剂,制备了轻质多孔高铝耐火材料。研究结果表明,随着Al(OH)3用量的增加,坯体的抗压强度不断增大,P/A1摩尔比为3∶2.35时坯体抗压强度能达到2.76MPa。烧结后,P/A1摩尔比为3∶2.01时试样的抗压强度能达到5.21MPa,Al(OH)3用量超过15%后抗压强度减小。试样的开孔隙率为74.92~79.35%,体积密度(Db)为0.494~0.663g/cm3。试样的导热系数约为0.082~0.119W/(m·k)。     

选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液

利用选择性紫外曝光法对聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片通道内壁进行了部分亲/疏水改性,通过接触角和原子力显微镜对改性表面进行表征,并利用改性后的芯片制备出了高度均一的单乳液和复乳液. 结果表明,在芯片的非曝光区域,光引发剂二苯甲酮使PDMS表面粗糙且保持疏水性,接触角为101o;而在曝光区域,由于聚合形成的聚丙烯酸交联到PDMS上使其表面光滑且具有亲水性,接触角为62o,形成的亲/疏水特性可维持30 d以上. 利用改性后芯片制备的大豆油、三羟甲基丙烷丙烯酸酯和氟碳油3种单乳液的粒径变异系数均低于3%,而复乳液外径和内径的变异系数分别为3.5%和2.9%.     

北京正通数字集群通信共网商用试验探索

北京正通网络通信有限公司于2002年12月30日正式注册成立．注册资本2亿元人民币。北京正通公司按照信息产业部《关于同意中国网络通信集团公司开展数字集群通信业务商用试验的批复》（信部电函【2003】112号）的要求和中国网络通信集团公司的授权，自2003年至2005年间在网络建设，运行维护和市场拓展等方面积极开展商用试验工作。在2004年10月18日正式联网开通，截至2005年12月底累计建设基站166个，直放站35个，一个移动基站。实现了北京市五环以内城区、郊区中心城镇和主要高速公路的室外通信覆盖，以及部分重点楼宇的室内通信覆盖。入网用户已超过3万户。