铝合金表面微弧氧化陶瓷层摩擦学性能的研究

利用微弧氧化技术在以硅酸钠为主要溶质，配以辅助添加剂Na2W04、KOH、Na2EDTA的电解液中，在LY12铝合金表面原位生长陶瓷层。用WTM-IE型球-盘磨损实验机对试样的摩擦学性能进行了研究。并用SEM、XRD分析了微弧氧化陶瓷层的表面形貌和相结构。结果表明：铝合金在电流密度10A／din2，电解液温度40～60℃，处理时间10～60min条件下，可以原位形成均匀致密的表面陶瓷改性层。微弧氧化处理后的试样在干摩擦小滑动距离下表现出良好的耐磨性能。     

层流等离子体射流铝合金表面熔覆SiCp/Al-Si涂层的磨损过程

采用层流等离子体炬作为加热热源，在ZL104铝硅合金表面制备镍包SiCp／Al-Si复合熔覆层。磨损过程中，该熔覆层中的SiCp颗粒微凸体对磨轮的切削产生的切屑，在熔覆层表面形成机械混合层(MML)，此机械混合层硬度较高，耐磨性好，使熔覆层在磨损过程中经历了较长距离的磨损孕育阶段，从而改变了铝合金的磨损过程，延缓了中等磨损向严重磨损的转变。     

YG6金刚石涂层刀片衬底真空渗硼预处理新技术研究

本文研究了真空渗硼预处理硬质合金基体的表面组织、形貌、粗糙度，并在处理过的YG6刀片基体上，用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石薄膜涂层。结果表明，真空渗硼预处理不仅可以有效的消除或控制钴在金刚石沉积时的不利影响，而且，还显著粗化硬质合金基体表面。因此，提高了金刚石薄膜的质量和涂层的附着力。     

熔模铸造型壳的现状

熔铸铸造正向大型、精密方向发展，对型壳提出了更高要求。由于环保要求的提高，醇基硅酸乙酯的使用受到限制，硅溶胶的应用越来越广泛。耐火材料的粘结剂的正确选择，涂料粉液比和涂料粘度的合理控制将大大提高型壳性能。介绍了型壳性能检测方法。     

金刚石膜氧化行为的TGA分析

采用热重分析法(TGA)对直流等离子体喷射制备的金刚石膜在空气中的氧化行为进行了研究,结果表明;直流等离子体喷射制备的金刚石膜氧化激活能为220KJ/mol,与天然金刚石的氧化激活能相当.用扫描电子显微镜(SEM)和Raman光谱对金刚石膜氧化前后的形貌和成分作了分析.结果表明金刚石膜在空气中氧化优先刻蚀晶界和孔隙,孔隙不断增加,晶界瓦解,金刚石膜成为一个个柱状单晶粉末;金刚石膜氧化前后未出现石墨或其它中间产物.     

消失模铸造传质过程与铸件品质控制

消失模铸造是1 种有利于环保的近净成形铸造方法，在消失模工艺的浇注过程中，模样分解为液态或气态产物。为了生产合格的铸件，须选用具有合适透气性和液态产物浸润能力的涂料，以控制分解产物的传质过程。说明设计在高温下测试涂料透气性的仪器是必要的。     

基于介电泳效应的高速抛光电极分布仿真研究与实验验证

目的解决传统平面环抛过程中存在的两种问题:(1)抛光液受抛光盘和工件旋转离心力作用而抛光液在加工区域分布不均,导致加工工件高平面度差;(2)抛光液受到的离心力作用限制了抛光盘转速,导致抛光效率低。方法提出一种基于介电泳效应的平面抛光方法(DEPP),在抛光区域增加一个非均匀电场,利用中性粒子在非均匀电场中极化后受介电泳力的作用,使其具有向电极和抛光区域中心运动的现象,降低旋转离心力对抛光液的甩出作用,实现对平面工件的高速、高精度抛光。采用有限元分析软件数值模拟极化后磨粒所受介电泳力对离心力的抑制作用,优化产生非均匀电场的不同电极宽度,得到最优非均匀电场电极分布参数,实际测量优化电极后抛光液所受介电泳力的大小和方向,最后搭建试验平台验证介电泳效应高速抛光平面工件的有效性。结果提高抛光盘转速,进行抛光磨砂玻璃对比实验,加工1 h以后,采用介电泳效应抛光能完全去除玻璃磨砂层,工件平整度好,最终RMS值为0.276λ;无介电泳效应抛光后,工件中心部分磨砂层仍有存在,工件平整度相对较差,最终RMS值为0.694λ。通过测量加工去除量,介电泳效应抛光比无介电泳效应抛光的去除率提升了18%结论通过仿真模拟和实验验证,证明了调整电极布置形式以及优化电极分布参数后,介电泳效应高速平面抛光的方法能够有效提升抛光效率和抛光后工件表面平面度。     

溶胶-凝胶结合耐火浇注料抗CO侵蚀性能研究

研究了新型溶胶．凝胶结合耐火浇注料的抗CO侵蚀性能，同时也与传统的水泥结合耐火浇注料进行了对比试验，并从侵蚀前后的表观特征、理化性能和微观结构等多方面探讨了其CO侵蚀作用机理。结果表明，浇注料中的铁氧化物含量，CO气氛的浓度等多种因素决定了CO侵蚀反应的强度。而在同等实验条件下，溶胶-凝胶结合耐火浇注料的抗CO侵蚀性能要大大优于水泥结合的耐火浇注料，因此是替代传统浇注料的理想材料。     

a-C:F:H films prepared by PECVD

Fluorinated amorphous hydrogenated a-C:F:H carbon thin films were deposited using radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition(RF-PECVD) reactor with CF4 and CH4 as source gases and were annealed in a N2 atmosphere. The properties of these films were evaluated by FTIR spectrometry, UV-VIS spectrophotometry and single-wavelength spectroscopic ellipsometry. A correspondence relativity connection between the deposition rate and technology was found. The chemical bonding structures and the content of CHx and CFx in the films are transformed and the optical band gap decreases monotonically with increasing temperature after annealing.The dielectric constant is increased with decreasing content of F in the films and the optical band gap is decreased with decreasing the content of H in the film.     

掺锰球形氢氧化镍微结构表征

采用液相沉积法制备了掺锰球形氢氧化镍,进行了XRD和SEM表征,并对商品球形氢氧化镍的其他产品(掺杂锌、钴、镉)做了对比。结果表明,采用该方法制备的掺锰球形氢氧化镍结构与文献固相法制备的氢氧化镍不同,前者为β-Ni(OH)2,后者为α-Ni(OH)2,101峰半高宽为0.84°,与商品化的氢氧化镍接近,具有较好的电性能;粉末形貌与商品化的氢氧化镍相近,为球形和椭球形,粒度搭配合理;镍含量仅为40%左右,可大幅降低成本,具有较好的应用前景。