又到装修高峰期 专家支招避“忽悠”

又到了春季装修高峰时节,一些购置了新房的消费者正准备为自己的新家寻觅低价高质产品,如何签装修合同?如何才能不被"套"?为防患于未然,在消费时,预习一些必要的知识尤其重要。对此,贵阳市从事装修近10年的肖先生就贵阳常见情况为消费者提供专业建议,帮您避开消费陷阱。签合同,约定越细越好     

基于热流耦合精细算法的大体积混凝土水管冷却数值模拟

基于有限元热流耦合精细算法进行大体积混凝土施工期温度场仿真分析,真实反映水管附近的温度梯度和水管水温沿程的变化,采用基于粒子迁徙的粒群算法对Dittus-Boelter方程进行参数识别,使之适用于描述冷却水流的强制对流特性.在通用有限元软件ABAQUS 平台上,开发热流耦合用户子单元,以官地碾压混凝土重力坝某一浇筑块为例验证热流耦合算法和用户子单元的可靠性和合理性.计算结果表明:精细算法能真实反映混凝土浇筑块的温度场,同时基于精细算法得到的施工期应力略大于等效算法.     

高等学校课程双语教学存在的问题与对策 ——以食品包装学课程为例

高等学校课程双语教学对培养国际化人才有着重要的作用。沈阳农业大学在食品包装学课程双语教学实践中发现,双语教学存在授课教师双语教学经验欠缺、英文授课能力不高、学生外语水平难以应对双语教学、双语教学方法还有待深入探讨、双语教材的发展滞后等问题。必须提高教师的专业水平与英语表达能力,探究双语教学的方法与手段,加强双语教材建设,为培养合格的国际化专业人才奠定基础。     

基于二值化灰度图像的大豆蛋白液喷雾相对雾化程度的研究

目的 为了更直观的评估大豆蛋白液喷雾雾化程度,辅助筛选出有效扇形面积更大、缺陷更少的喷雾,有助于研究喷雾场的雾化均匀性,以期得到均匀一致的大豆蛋白膜。方法 选取合适的阈值后,对粒子图像速度场仪（Particle Image Velocimetry,PIV）拍摄的图像进行二值化处理,划定喷涂有效区域,利用二值化图像计算喷涂雾化场区域在喷涂有效区域内的点位数占比,将数值定义为相对雾化程度,改变稠度系数、喷涂参数,研究相对雾化程度的变化趋势。结果 低稠度系数的大豆蛋白液喷雾相对雾化程度受喷涂参数的影响较小,并保持在90%以上;中高稠度系数的大豆蛋白液喷雾相对雾化程度随着喷涂流量的增加而减小,随着液压、气压的增大有增大的趋势,随着气液比的增加先增大后减小。结论 基于二值化的PIV图像处理可以有效地辅助评估大豆蛋白液喷雾场的均匀性。     

纸塑铝复合包装材料各组分共热解行为研究

以用甲酸分离枕型利乐包所得的纸、聚乙烯、铝作为实验材料,采用热重红外联用(TG-FTIR)分析技术,研究了各组分在热解过程中的协同作用,以探索纸塑铝复合包装各组分共热解机理,为实现废弃利乐包材料的资源化利用提供科学参考和实验依据。结果表明:共热解时纸和聚乙烯之间存在协同作用,在失重峰位置表现得尤为明显;铝在共热解时具有一定的催化作用,在反应的不同阶段起到了相应的促进或者抑制热解的作用。     

前过渡族元素X对TiAlXN涂层结构与性能的作用EI北大核心CSCD

TiAlN基涂层具有良好的力学和抗氧化性能,因此,在典型的机械部件,如航空发动机压气机叶片、切削刀具和精密模具等表面防护领域得到广泛应用。然而,随着机械部件性能要求的不断提升,涂层的服役条件愈加苛刻,防护涂层的可靠性和服役寿命受到更为严峻的挑战。在TiAlN涂层中添加前过渡族元素以提高涂层的综合性能是有效提高涂层防护效果、延长涂层使用寿命的重点研究方向之一,而元素的选取和成分的确定对涂层的结构优化和性能提升至关重要。本工作从TiAlN涂层材料出发,结合相图详细论述前过渡族元素X(X=V,Cr,Y,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,W)的添加对TiAlN涂层结构和性能的影响,进而探讨TiAlXN涂层的成分-结构-性能关系。针对在TiAlN涂层中添加前过渡族元素面临的缺乏相图计算辅助、四元涂层在极端环境下的失效行为、涂层制备设备成本较高等问题,提出结合相场模拟开发TiAlXN体系四元相图、发展TiAlN基高熵涂层以及结合气相沉积技术的优势大力发展涂层制备技术等展望。     

反拱形水垫塘底板上举力特性的试验研究

以实际工程高拱坝水垫塘底板稳定性研究为背景,阐述了反拱形水垫塘底板上举力的成因,建立了考虑板块下表面压力沿缝隙传递的失稳区板块专门水力学模型测量板块的上举力,在模型试验结果的基础上,分析了底板上举力的分布规律。给出的最大上举力经验公式,可用于工程设计中反拱结构的水动力荷载计算。     

遗传算法在窄带滤光片膜系设计中的应用

研究了遗传算法在窄带滤光片膜系设计中的应用。介绍了遗传算法的运算原理、适应度函数和运行参数的涵义;建立了窄带滤光片的评价函数和适应度函数,并给出其遗传算法的程序设计方法;以带宽4nm、中心波长1.55μm的窄带滤光片为例进行了遗传算法的实际膜系设计。结果表明遗传算法适用窄带滤光片的膜系设计。     

ITO薄膜的磁控溅射工艺优化研究

通过磁控溅射陶瓷靶制备ITO薄膜的工艺实验,研究了基底温度、溅射电压、氧含量等主要工艺参数对该薄膜光电性能的影响.实验结果表明:当基底加热温度为295℃、溅射电压为250V、氧分压占镀膜室总压力的8%即主要工艺参数皆位于最佳范围时,在厚度为5mm的普通浮法玻璃基底上,可制备出表面电阻为18Ω、可见光透过率超过80%的ITO薄膜.XPS测试结果表明:该ITO薄膜的内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85%左右.     

苛刻环境服役涂层相图、相变与材料研发实践

面向海洋、航空、核能等重大工程中涂层的表面损伤与防护研究,精确的相图与相变信息是高效研发高性能可靠涂层材料的关键.但是,涂层制备一般是非平衡的成相过程,涂层在苛刻环境中服役处于动态相变过程,因此,基于热力学平衡的传统相图计算CALPHAD(CALculation of PHAse Diagrams)方法不再适用于涂层材...