基于路径估计的网络接纳控制研究

通过模糊化本地链路状态指标和陈旧路径状态指标实现状态指标的基本概率赋值,由Dempster合成规则融合数据推导网络路径不同态势及其置信度,取最大置信度态势作为准实时路径状态,并据此执行网络接纳判决.在接纳率相近的情况下,较基于预算的网络接纳控制,链路效率高2倍,并通过增加网络边缘节点预计算实现网络核心状态无关,减小了网络复杂度.     

分布式视频编码在容错视频传输中的应用

经典视频压缩码流的低抗错性、传统抗误码工具的"悬崖"效应以及分布式信源编码的高稳健性,决定了基于分布式视频编码(DVC)的视频压缩码流易错信道的抗误码传输机制与关键技术具有良好的应用前景.基于此,分析了分布式视频编码的容错传输原理,并对其中关键技术的最新进展进行了综述,最后给出了结论和今后的研究方向.     

不同粘合剂对水杨醛类席夫碱涂层的发射率和热致变色性能的影响研究

用溶液法合成了3种不同结构的水杨醛类席夫碱填料,并分别与2种粘合剂丙烯酸(AAS)和环氧树脂(EP)通过喷涂法制备出6种涂层;为了研究粘合剂AAS和EP对水杨醛类席夫碱涂层的发射率和热致变色性能的影响,我们通过红外光谱仪和紫外-可见光谱仪表征水杨醛类席夫碱填料微观结构;TG-DSC表征填料稳定性;并分别测量了20～240℃范围内填料和涂层的热致变色情况以及在3～5?m和8～14?m波段的红外发射率。结果表明,两种粘合剂的加入对热致变色几乎没有影响。EP与填料形成的涂层更接近填料的发射率。综合考虑发射率和热致变色两个因素,EP更适合作为粘合剂与水杨醛席夫碱类填料形成热致变色涂层。     

电子束蒸发非晶硅光学薄膜工艺研究

研究了沉积时真空室真空度、基片温度和沉积速率对常用电子束蒸发非晶硅(a-Si)光学薄膜的折射率和消光系数的影响。结果表明,在300~1100nm的波长范围内,真空室真空度、基片温度和沉积速率越高,则所得a-Si薄膜折射率越高,消光系数越大。并将实验结果用于半导体激光器腔面高反镜用a-Si膜镀制,发现在选择初始真空为1E-6×133Pa、基片温度为100℃和沉积速率为0.2nm/s时所得高反镜的光学特性比较好,在808nm处折射率和消光系数分别为3.1和1E-3。     

基于区域拼贴的IFS全息激光分形

文章在一个具体的工程实践中，提出了一种使用分形理论中的拼贴定理和IFS迭代函数来完成某一类的目标分形图案的生成算法，大大简化了精细复杂图形的设计生成速度，并具有极大的防伪性，可以很好地应用于激光全患防伪标识。     

一种基于Hilbert-Huang变换的语音去噪方法

在介绍Hilbert Huang变换理论的基础上,提出了一种基于HHT变换的语音去噪算法。首先对带噪语音信号做EMD分解,得到各阶IMF分量,然后对高频的IMF分量用小波域去噪中的阈值方法进行处理,然后把经过阈值处理的高频IMF分量和低频的IMF进行叠加,得到重构后的信号,即去噪信号。仿真实验表明基于Hilbert Huang变换的去噪结果优于小波软、硬阈值法的去噪结果,显示了Hilbert Huang变换在处理非平稳信号中的优越性。     

基于正交设计的二次磁浮力关键影响因素试验

永磁体浸没于磁流体中可自悬浮，而其所受二次磁浮力解析建模非常复杂。基于磁流体中永磁体受力模型的初步分析结论，确定永磁体材料、磁流体为试验关键因素，重点针对永磁体自身特性参数及磁流体特性参数构造不等水平正交设计表。提出一种永磁体悬浮高度超声波测量方法，并应用于实际测量，该方法能够消除容器壁厚、反射面与实际表面差异对测量结果的影响。对正交试验结果进行显著性分析及检验，得到影响二次磁浮力关键因素的显著性关系以及最佳因素水平组合。     

钝化膜提高GaN基LED光提取效率研究

模拟计算了光的入射角度与反射率的关系,当光的入射角度大于23°时,发生全反射,无论是否在器件表面生长增透膜,这时的光都无法从器件顶部出射表面提取出来。研究了使用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在已经制备了n电极和p电极的GaN基LED上制备钝化膜,分析了SiON和SiN_x膜沉积对于器件的光输出功率的影响。通过实验证明,在器件上沉积SiON后,光输出功率增加。     

“鞋来美”

2010年的最后一月，我们终于迎来了久违的篮球鞋大爆发。 NBA开战了，像以往一样我们仍旧会在第一时间为鞋迷们奉献最全最系统的NBA球鞋报道。不过今年又与往年有所不同，我们不仅将新秀球鞋报道独立出来，还把今年在NBA出现的球鞋划分归类，为随后将要进行的“鞋来美”球鞋盛典预热。