掘进工作面自吸排水方法实践

运用虹吸原理,通过对巷道内的排水管路进行改造,实现了自吸式排水,减少了人员及设备的投入,并取得了很好的排水效果。     

热氧化法制备SnO2纳米晶的HREM研究

二氧化锡半导体材料,因其高电导率、在可见光区的高透明度、以及较好的热稳定性和化学稳定性,使其具有广泛的用途.它可以用作太阳能电池、光电感应器件等,而最重要的应用就是用作气敏传感器的原材料[1].在气相沉积法制备的SnO2薄膜中,混合相(SnO-SnO2)比SnO2单相表现出更好的气敏性[2].     

超声化学水热法制备CdSe亚微米球的TEM观察

自从 1987年Ｅ .Ｙａｂｌｏｎｕｉｔｃｈ和Ｊｏｈｎ提出光子带隙 (ＰＢＧ)的概念以来 ,有关光子晶体的研究令众多理论物理学家和实验物理学家产生了广泛兴趣。迄今为止 ,人们利用微加工技术制备了一维、二维、甚至三维的微波波段的光子晶体。然而 ,随着研究的深入 ,尺寸要求越来越小 ,这种自上而下的制备方法遇到的困难也越大 ,尤其是在制备可见光波段的三维光子晶体时 ,微加工技术制备已经难以完成 ,人们开始把目光投向由下而上的胶体化学方法。通常 ,自然界最常见的和人工合成的光子晶体是由ＳｉＯ2亚微米小球自组织而成的 ,即蛋白石[1] …     

宋庄美术馆

村民们对此的评价是颇像村里老娘们搭的篱笆墙。我们认为这是一个积极的评价。     

如何防止冷凝水箱中的氧腐蚀

<正>某厂一台20000磅/时的锅炉,采用一只外径10英尺、高10英尺的钢制水箱,回收180°F冷凝水。补给水为60°F的城市用水,补给水量为锅炉蒸发量的5～15％。冷凝水     

Si衬底上ZnO外延膜结构性质的比较

采用连通式双反应室高温MOCVD系统在Si衬底上外延ZnO薄膜,通过卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)及高分辨X射线衍射(HR-XRD)技术对不同衬底条件的ZnO外延膜进行了组分及结构分析,结果表明在采用SiC缓冲层后,Si(111)衬底上ZnO(0002)面衍射峰半高宽明显减小,缺陷密度降低,单晶质量显著变好,c轴方向应变由0.49%变为-0.16%,即由拉应变变为压应变且应变值变小,说明SiC缓冲层可以有效地减小ZnO与Si衬底晶格失配带来的应变,改善外延膜质量,实现Si衬底上单晶ZnO的生长.     

洛氏及表面洛氏硬度与压痕深度对照表

在进行洛氏及表面洛氏硬度试验时,正确地选择试件或试验层的厚度是获得可靠的试验数据的重要环节。试件或试验层的最小厚度至少应为压痕永久深度(以下简称压痕深度)的10倍(或8倍)。现把洛氏及表面洛氏硬度与压痕深度对照表(对照表的编造是应用最小二乘法原理对文献1中的数据进行拟合而成的)介绍如下: 一、洛氏硬度与压痕深度对照表大家知道,洛氏硬度试验的压痕深度应为预负荷压痕深度与主负荷压痕深度之和。根据洛氏硬度试验原理其计算公式为: 当用C、A、D标尺(金刚石圆锥体压头)试验时:     

基于正交试验的注塑参数对大塑件翘曲的影响

结合塑料加工流变学、传热学、计算机图学等基本理论,建立了大型打印机基板注射成型过程的数值模型。运用CAE软件对模型进行模拟仿真翘曲分析,采用正交试验设计方法,分析研究了注塑工艺参数对基板翘曲变形的影响,并获得了最佳工艺参数组合。研究结果表明,工艺参数间的交互作用对翘曲变形的影响很小,各工艺参数对塑件翘曲量的影响程度由大到小依次为保压时间、模具温度、保压压力、熔体温度。     

鹤壁十矿顺层钻孔瓦斯抽采有效半径的测定

通过研究抽放瓦斯钻孔有效抽放半径的测定方法,为瓦斯抽放钻孔的布置提供科学依据,提高了防突措施的有效性。选取鹤壁十矿1206下顺槽为实验地点,以瓦斯抽放钻孔的防突机理为指导,合理选择了压力降低法作为实验测定方法进行现场实践。     

农药生产废水处理工程设计与应用

针对某企业农药生产废水水量小、COD浓度高、BOD5浓度低、可生化性差的特点,设计废水处理工艺采用隔油—沉砂—持续高活性铁床(CMRO)—UASB—SBR—过滤,当进水COD平均为47 000mg/L时,经处理后出水COD、BOD5、色度以及SS分别低于100mg/L、30mg/L、50倍以及70mg/L,可达《污水排入城镇下水道水质标准》(CJ 343—2010)的要求。该工艺设备运行效率高、维护方便,具有较好的经济效益。