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121.
与传统的金属线宽和间距固定不变的无源片上螺旋电感相比,线宽和间距由外圈到内圈渐变的新型结构电感能有效提高电感品质因子.这种新结构电感的出现使得Jenei等人提出的闭合电感公式已不再适用于其电感值的计算,而改进的wheeler公式计算误差又较大.针对这种情况,文中提出了一种以圈为单位分圈迭代求自感,用整体平均法计算互感的平面螺旋电感的电感值计算方法.该算法分析值与HFSS仿真值相比,误差小于3%,与样品测量值相比,误差小于4%.因此该算法具有计算速度快、精度高的特点,能用于渐变结构片上螺旋电感的高效设计,并可缩短设计周期. 相似文献
122.
针对SPICE BSIM3模型在对大量应用于高压集成电路中的轻掺杂漏高压MOS(简称HV MOS)晶体管建模上的不足,提出了基于BSIM3的高压MOS晶体管I-V模型改进.研究中使用Agilent ICCAP测量系统对HVMOS晶体管进行数据采集,并分析其源漏电阻受栅源、源漏和衬底电压的影响及与标准工艺低压MOS晶体管的差异,针对BSIM3模型源代码中源漏电阻R ds的相关参数算法进行了改进,保留BSIM3v3原有参数的同时增加了R ds的二次栅压调制因子Prwg2和有效Vas参数δ的栅压调制因子δ1,δ2,在开放的SPICE和BSIM3v3源代码上对模型库文件进行修改并实现了优化.仿真结果表明采用改进后的模型,在ICCAP下的测量曲线与参数提取后的I-V仿真曲线十分吻合,该模型大大提高了BSIM3 I-V模型模拟HV MOS晶体管时的精确度,对于高压集成电路的设计与仿真有着极其重要的意义. 相似文献
123.
<正> 一些漆器工厂,在销售行情好时,产品质量稍差,也能销出去,为完成订货,以尽快出成品为目的,企业组织工人日夜加班,对工序质量的控制要求下降,放松质量要求;在销售行情不好时,即使生产出了符合约定要求的产品,客户故意挑剔.找毛病,拒收产品,拒付货款;贸易部门为获取较大的利润,对产品低价收购,在销售时为抢市场,不惜低价倾销。在经营上对工艺品的价值没有在价格上反映出来,企业没有得到应有的收入,工厂无法精心组织生产;艺术修养高,工艺造诣深,技艺精湛的艺人,精心做出的高艺术价值的艺术 相似文献
124.
通过对X射线衍射仪样品架的改进,使尺寸过大或过小的样品的X射线衍射谱的测量更加方便与准确。对于小尺寸块状样品或薄膜样品,采用在样品背面加橡皮泥,用玻璃片压在铝制样品架上的方法固定;而通过裁剪铝制样品架,使大尺寸样品可方便地固定和测量。 相似文献
125.
朱骏 《湖南工业大学学报》1998,(2)
讨论运输包装中的腐蚀与防护对保障货物的安全运输,促进贸易的正常进行有十分重要的意义。介绍了其腐蚀的介质、类型,腐蚀品的分类,防腐容器和防腐运输的管理,并对防腐包装运输作了展望。 相似文献
126.
127.
禁止光学空间周期"Forbidden Pitch"是光学临近效应修正(OPC)中必须要面对并解决的问题之一.它主要出现在1.1~1.4倍(曝光波长/数值孔径)的范围内.由于在此范围内宅间图像对比度的削弱,这种效应会导致图形的线宽明显小于其他空间周期.目前业界常用的规避手段主要是通过采集大量的数据校正光学临近效应修正模型,但随着半导体进入深亚微米时代,数据的采集量、置信度越发重要和关键.因此,成功地采用光学临近效应修正技术的关键和前提是建立一套成熟的相关工艺.本文着重研究空间光学和光刻工艺技术的相互关系.我们发现在禁止光学空间周期附近的光学表现与有效高斯模糊息息相关.较长的有效光酸扩散长度将显著地消弱光刻表现,进而影响禁止光学空间周期的图形表现. 相似文献
128.
129.
本文讨论了生漆及其精制漆具有高装饰性(丰满度好)的原因,认为漆酚的长侧链、漆膜固化后形成的胶态分散体光学性质不均匀,使漆膜具有高装饰性,找出了一些精制漆工艺的理论依据。 相似文献
130.
<正> 漆器家具的制作生产在我国已有数千年的历史,至今仍以传统的手工方式生产。由于使用的原材料品种多达千种,生产工序多,影响质量的因素多,检测手段不健全,常常出现质量问题。漆器工艺品生产的主要过程是:内胎制作(常用的材料是木材为主,也有用其它材料)→灰坯制作(在内胎上做底灰,即做腻子)→漆坯制作(在灰坯上髹漆)→工艺装饰→成品。从工种来看经过木工→漆工→装饰工。有些漆器产品的生产过 相似文献