Visual Basic在后方交会计算中应用

论述了Visual Basic在测量计算中的特点，阐述了Visual Basic在后方交会的计算方法。     

基于MC56F8323微处理器的油井流量测量仪

介绍一种新型油井流量测量仪的结构.该仪器使用嵌入式微处理器MC56F8323来实时采集电导传感器输出的2路信号,并对它们进行互相关运算,最后将处理结果通过RS485总线传输至地面上位机.动态实验表明,当油水总流量超过5 m3/d时输出结果十分准确,而且基本不依赖于含水率.目前该仪器已成功应用于石油勘探领域.     

论啤酒的非生物混浊及其防治

分析啤酒产生非生物混浊沉淀原因，提出防治非生物混浊措施。     

膏体充填开采覆岩稳定性研究与实践

为了研究充填开采顶板岩层的移动规律及影响因素,在综合分析岩层移动变形基本特征和充填体的受力特征的基础上,应用弹性地基梁理论,建立充填开采顶板岩梁力学模型及其微分方程,分析了充填开采顶板岩层移动变形的主要影响因素.结果表明,充填开采顶板岩层移动影响因素的主次关系依次为充填前顶底板移近量、充填欠接顶量、充填体压缩率和顶板岩...     

电导式相关流量测量技术应用研究

文中首先介绍了相关流量测量技术的原理,据此研制了φ28电导式相关流量计,并已经成功获得现场应用。然后,针对现有相关流量计不能实现单芯数据传输的难题,提出了φ38电导式相关流量计,该仪器能够在井下实现两路相关流量信号的采集和互相关运算,并将处理结果转换为频率信号输出;在垂直和水平条件下油水两相流模拟井动态实验结果表明,该仪器输出响应和流量间存在着良好的线性关系。最后,在水平油气水三相流条件下进行了模拟实验,得到了电导式相关流量计的响应特性。     

上都电厂串补输电系统次同步谐振解决方案研究

在深入分析次同步谐振（SSR）阻尼特性和故障风险的基础上,针对上都电厂二期工程面临的潜在SSR问题,重点研究了附加励磁阻尼控制（SEDC）和扭应力继电器（TSR）相结合的解决方案,采用特征值分析和电磁暂态时域仿真方法验算了方案的有效性。结果表明：SEDC能大幅度提高汽轮一发电机组3个扭振模态的阻尼,并在大多数运行方式下抑制可能引发的SSR,极少数运行方式下可通过TSR配合切机来解决SSR问题,以保证电网的稳定性和机组的安全性。采用SEDC控制与TSR保护相结合的方案解决上都电厂串补输电系统的SSR问题是切实、有效和经济的。     

Ni-P-纳米(WC-Co)复合电刷镀层的组织结构及耐腐蚀性能

0前言 早期复合镀主要是添加微米级的MoS2、石墨、SiC、金刚石、Al2O3等[1～3],主要目的是在保证原有单一化学镀层高耐蚀性的基础上,进一步提高材料表面的耐摩擦磨损性能[4,5].Ni-W合金和Fe-W合金是很好的代铬镀层,但机械强度低、耐磨性差,而Ni-P非晶态镀层的性能较上述合金镀层有所改善[6].在Ni-P镀液中添加WC-Co纳米颗粒,可改变复合镀层的晶态结构,进而提高其硬度、耐磨性能、力学性能及结合强度等[7],而有关Ni-P-纳米(WC-Co)镀层耐蚀性的研究尚少.本工作在Ni-P溶液中添加WC-Co纳米颗粒电刷镀复合镀层,研究了不同浓度WC-Co所得镀层的形貌、成分、结构及在1 mol/L H2SO4,1 mol/L HCl,3%NaCl中的耐蚀性.     

高RF功率制备的ZnO:Li薄膜性能研究

实验采用射频(RF)磁控溅射法在高射频功率(550 W)下制备了Zn0.9Li0.1O薄膜,探讨了薄膜的光学性能,并与低溅射功率制备的薄膜性能进行了比较。结果表明,高功率下溅射的薄膜晶粒均匀细小,表面平整致密,在可见光波长范围内,透过率达80%。该薄膜的光学带隙约3.29 eV,明显低于低功率溅射的薄膜(3.44 eV)。其室温光致发光(PL)谱结果显示,最强峰是由Li杂质能级引起的399 nm峰,热处理后,370 nm的带间发光峰增强,而低功率制备的薄膜其PL谱与纯ZnO材料的特征谱相似。     

Li、Mg掺杂ZnO薄膜PL特性研究

采用溶胶-凝胶法在玻璃基片上制备了Li、Mg掺杂的ZnO薄膜,研究了薄膜的光致发光(PL)性能。结果表明,由氧缺位引起的深能级发光峰(450~470 nm)的强度随Li和Mg掺杂量的增加而下降。Mg的添加会使薄膜的带边发射(NBE)增强,而Li的掺杂抑制了NBE峰,同时引发403 nm的Li杂质能级峰,该能级位于价带顶0.29 eV处。     

无氰电镀Ag-C合金

研究了在无氰镀液中加入石墨后硝酸银、配位剂碘化钾、辅助配位剂的最佳含量以及施镀的电流密度等工艺条件;通过抗硫化腐蚀试验研究了不同石墨含量的银镀层在0.05%SO2和0.50%H2S气氛中的抗腐蚀变色能力;采用X射线衍射分析表明,镀层是由Ag-C组成;并通过磨损试验研究了镀层的耐磨性.结果表明,施镀最佳工艺条件为:30 g/L硝酸银,400 g/L配合剂碘化钾,2 g/L辅助配合剂,施镀的最佳电流密度为0.6 A/dm2;Ag-C镀层耐硫化变色性能和耐磨性能随镀层中石墨含量的增加而提高;镀液中石墨含量为100 g/L时综合性能最佳.